一种瓦罐餐具制造技术

本实用新型专利技术涉及餐具技术领域，尤其是一种瓦罐餐具，其包括：锅和能够放置锅的底座，底座具有能够包围锅的侧挡、能够支撑锅的支撑部、侧挡和支撑部围起来的容纳空间。侧挡上部向下凹陷形成能够使锅被夹离底座的夹持部，所述侧挡下部向上隆起形成能够用手抓握的抓握部，所述夹持部设置于侧挡的前、后方，所述抓握部设置于侧挡的左、右方。本实用新型专利技术的底座可大面积包裹锅从而起到防烫的作用，底座下方的抓握部一方面方便端取，另一方面也避免了手与瓦罐接触的可能性，便于传送，能够用于盛放米线等较热的食物。

A crock of tableware

【技术实现步骤摘要】
一种瓦罐餐具
本技术涉及餐具
，尤其是一种瓦罐餐具。
技术介绍
瓦罐餐具通常用于盛放较热的食物，在传送过程中，发烫的餐具无法直接用手触碰，往往使用托盘传送，餐具暴露部分过多容易烫伤服务员和顾客，传送起来存在安全隐患。因此，需要一种避免人被烫伤，容易传送的瓦罐餐具。
技术实现思路
本技术旨在解决上述问题，提供了一种瓦罐餐具，避免了手与瓦罐接触的可能性，在传送食物过程中防止人被烫伤，并方便将锅从底座中夹离，其采用的技术方案如下：一种瓦罐餐具，包括：锅和能够放置锅的底座，所述底座具有能够包围锅的侧挡、能够支撑锅的支撑部、侧挡和支撑部围起来的容纳空间。在上述方案的基础上，所述侧挡上部向下凹陷形成能够使锅被夹离底座的夹持部，所述侧挡下部向上隆起形成能够用手抓握的抓握部，所述夹持部设置于侧挡的前、后方，所述抓握部设置于侧挡的左、右方。在上述方案的基础上，所述侧挡的高度大于容纳空间的深度。在上述方案的基础上，所述容纳空间的深度大于锅的深度。在上述方案的基础上，所述锅上部与底座上部相配适。在上述方案的基础上，所述侧挡围起来的的横截面积由上至下逐渐增大。在上述方案的基础上，所述夹持部为梯形，夹持部深度为20～22mm，夹持部上方宽度为110～120mm，夹持部下方宽度为85～95mm。在上述方案的基础上，所述抓握部为曲率半径是160mm的圆弧，抓握部的高度为20～22mm，抓握部下方宽度为160mm。在上述方案的基础上，所述侧挡高度为200～210mm，容纳空间深度为85～90mm，锅的深度为75～80mm。在上述方案的基础上，所述锅的上部为方形，其边长为200～210mm，锅壁厚10～12mm，锅下部具有弧度向并中央收拢；所述底座上部、下部均为方形。本技术的底座可大面积包裹锅从而起到防烫的作用，底座下方的抓握部一方面方便端取，另一方面也避免了手与瓦罐接触的可能性，便于传送；底座上方的夹持部便于使用夹具将锅放入或夹离底座；锅放入底座中边缘不会露出，避免人不小心碰到热锅而烫伤。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一种实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图引伸获得其它的实施附图。图1：本技术的锅的结构示意图；图2：本技术的底座的主视图；图3：本技术的底座的侧视图；图4：本技术的底座的立体图；图5：本技术的锅和底座组合结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步说明：下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。本技术提供了一种瓦罐餐具，如图1、4所示，其包括：锅1和能够放置锅的底座2，底座2具有能够包围锅的侧挡20、能够支撑锅的支撑部、侧挡20和支撑部围起来的容纳空间。如图2所示，侧挡20上部向下凹陷形成能够使锅被夹离底座的夹持部21，如图3所示，侧挡20下部向上隆起形成能够用手抓握的抓握部22，夹持部21设置于侧挡20的前、后方，抓握部22设置于侧挡20的左、右方。在手持底座2时，将锅1从底座2中夹离，夹持方向和手持方向交错，互不干涉。侧挡20的高度大于容纳空间的深度。在上述方案的基础上，容纳空间的深度大于锅1的深度。锅1放置底座2上时，锅1只能在夹持部露出部分，防止夹持部以外的部分烫到人。如图5所示，锅1上部与底座2上部相配适，使锅1在底座2内保持稳定，不因底座失衡发生相对移动。如图2、3所示，侧挡20围起来的的横截面积由上至下逐渐增大，使底座2放置于桌面上更加稳定，不易打翻。进一步地，夹持部21为梯形，梯形边缘设置成圆角，夹持部深度为21.5mm，夹持部上方宽度为117mm，夹持部下方宽度为90mm。便于夹住锅1，同时尽量减少锅1露出面积。抓握部22为曲率半径是160mm的圆弧，抓握部22的高度为21mm，抓握部22下方宽度为160mm。便于手指并排放置，端持底座2。侧挡20高度为208mm，容纳空间深度为87mm，锅1的深度为75mm。锅1和底座2上部的形状可以是圆形、方形等，如图1所示，优选锅1的上部为方形，其边长为208mm，锅壁厚11.5mm，锅1下部具有弧度向并中央收拢；如图4所示，底座2上部、下部均为方形。方形使其稳定性更高。在使用瓦罐餐具时，先用烤箱加热锅1，然后用工具将其夹入底座2，再将汤盛入锅1，通过手持抓握部进行端送。本技术可用来盛放米线或其他需要加热的食物。上面以举例方式对本技术进行了说明，但本技术不限于上述具体实施例，凡基于本技术所做的任何改动或变型均属于本技术要求保护的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种瓦罐餐具，其特征在于，包括：锅和能够放置锅的底座，所述底座具有能够包围锅的侧挡、能够支撑锅的支撑部、侧挡和支撑部围起来的容纳空间；所述侧挡上部向下凹陷形成能够使锅被夹离底座的夹持部，所述侧挡下部向上隆起形成能够用手抓握的抓握部，所述夹持部设置于侧挡的前、后方，所述抓握部设置于侧挡的左、右方。

【技术特征摘要】
1.一种瓦罐餐具，其特征在于，包括：锅和能够放置锅的底座，所述底座具有能够包围锅的侧挡、能够支撑锅的支撑部、侧挡和支撑部围起来的容纳空间；所述侧挡上部向下凹陷形成能够使锅被夹离底座的夹持部，所述侧挡下部向上隆起形成能够用手抓握的抓握部，所述夹持部设置于侧挡的前、后方，所述抓握部设置于侧挡的左、右方。2.根据权利要求1所述的瓦罐餐具，其特征在于，所述侧挡的高度大于容纳空间的深度。3.根据权利要求1所述的瓦罐餐具，其特征在于，所述容纳空间的深度大于锅的深度。4.根据权利要求1所述的瓦罐餐具，其特征在于，所述锅上部与底座上部相配适。5.根据权利要求1所述的瓦罐餐具，其特征在于，所述侧挡围起来的横截面积由上至下逐渐增...

【专利技术属性】
技术研发人员：何勇，
申请(专利权)人：何勇，
类型：新型
国别省市：山东,37