用于分布载有细固体颗粒的气体的分布器底板制造技术

本发明专利技术涉及一种分布器底板（１），特别是喷嘴式分布器底板，它用于分布载有细固体颗粒的气体，优选用于流化床装置中，特别是用于还原含金属氧化物的固体颗粒，其中在分布器底板（１）上设置有至少一个可移动的净化装置，它可在分布器底板的运行过程中减少在分布器底板上，特别是喷嘴式分布器底板的喷嘴（２）上的沉积物形成和／或至少部分去除已形成的沉积物。该净化装置具有设备（３），它通过在分布器底板上，特别是在喷嘴式分布器底板的喷嘴上的直接机械的，特别是冲击作用来净化该分布器底板。本发明专利技术还涉及一种在分布器底板上用于减少沉积物形成和／或至少部分去除该沉积物的方法。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种分布器底板，特别是喷嘴式的分布器底板，它用于分布载有细固体颗粒的气体，优选用于流化床装置中，特别是用于还原含金属氧化物的固体颗粒，其中在分布器底板上设置有至少一个可移动的净化装置，该装置可在分布器底板运行过程中减少在分布器底板上，特别是喷嘴式分布器底板的喷嘴上的沉积物形成和/或至少部分去除已形成的沉积物。本专利技术还涉及一种减少在分配器底板上沉积物形成和/或至少部分去除沉积物的方法。专业人员可从公开件EP 0444614 A2已知一种通过可移动的净化装置去除沉积物的喷嘴式分布器底板。该所述装置及方法实际上表明是昂贵的，并且需要高的工程及费用支出。因此，本专利技术的目的在于提供一种权利要求1前序部分的装置以及权利要求5前序部分的方法，由此能实现经济的和可靠的方法以及相应的装置。本专利技术的目的是通过权利要求1的特征部分的装置以及权利要求5的特征部分的方法达到的。由于该净化装置具有一种通过在分布器底板、特别是喷嘴式分布器底板的喷嘴上的直接的机械的、特别是冲击式的作用来净化该分布器底板的设备，所以可确保简单而适合地净化该喷嘴式分布器底板。按本专利技术装置的一个具体实施方案，该用于净化分布器底板的设备是如此设计的，即该用于净化分布器底板的设备可在气流中吸收能达净化作用的足够的动能。按本专利技术装置的一个具体实施方案，该用于净化分布器底板的设备是绳和/或链和/或可移动装置的杆。按本专利技术装置的一个具体实施方案，该用于净化分布器底板的设备安置在分布器底板上，特别是在分布器底板的至少一个喷嘴中。按本专利技术装置的一个具体实施方案，对至少一个喷嘴存在该净化装置，并该净化装置可固定在该喷嘴中和/或在分布底板上和/或在流化床装置的其它位置上。按本专利技术装置的一个具体实施方案，该净化装置固定在喷嘴的旁边和/或里面和/或上面和/或下面。按一个具体的实施方案，本专利技术的特征在于一种用于分布载有细固体颗粒的气体的喷嘴式分布器底板，优选是用于还原含金属氧化物的固体颗粒的流化床装置中，其中，在该喷嘴式分布器底板上安置有至少一个可移动的净化装置，该装置可减少在喷嘴中和/或在分布器底板上的沉积物形成和/或至少部分去除已形成的沉积物，其中所述净化装置是绳和/或链和/或可移动安装的杆，其例如安装在喷嘴分布器底板上和/或至少一个喷嘴的喷嘴中。本专利技术的特征还在于权利要求5的方法。按本专利技术方法的一个具体实施方案，通过气流给该净化装置输入用于达到净化作用的足够的动能。按本专利技术方法的一个具体实施方案，所述喷嘴式分布器底板通过净化装置处于振动状态。按本专利技术方法的一个具体实施方案，所述净化装置至少部分安置特别是固定在分布器底板的至少一个喷嘴中。例如在流化床技术中使用的气体分布器底板的喷嘴，该喷嘴是用载粉尘的气体入流，并易于通过随气体所夹带的粉尘的粘附而堵塞。为净化喷嘴就需高的维修费用。按本专利技术的一个具体实施方案，因此在喷嘴中和/或喷嘴上面和/或喷嘴下面和/或喷嘴旁边固定一条或多条链、绳或可移动安装的例如与链和/或绳相固定的杆或类似物。该物体通过流动气体的扰动而处于运动状态，并冲击喷嘴上粘附的颗粒或使该喷嘴呈振动状态，使得剥落粘附的颗粒和/或减少粘附物的形成。本专利技术目的的各种实施方案借助多幅但非限制性的示意图来加以说明。附图说明图1是喷嘴式分布器底板的示2是带有喷嘴式分布器底板的流化床装置图3是实施本专利技术的分布器底板的不同的其它实施方案图1示出一种喷嘴式分布器底板1，它具有一定数目的喷嘴2。在喷嘴式分布器底板上安置有净化装置，特别是链3，它以合适的固定点4固定在喷嘴式分布器底板上。链3通过气流5产生运动，结果冲击喷嘴式分布器底板1或喷嘴2。通过这种机械作用力去除在喷嘴式分布器底板上的粘附物。按本专利技术的另一实施方案，该喷嘴式分布器底板通过净化装置呈振动状态，由此进一步减少粘附的形成。为了简化起见，在图1中仅示出在所选喷嘴上的净化装置。该净化装置在喷嘴式分布器底板上的固定也可任意实现。图2中再次示出在流化床装置6中，例如用于还原细粒状的铁矿的流体床装置中的喷嘴式分布器底板1。在喷嘴式分布器底板1的下面有鼓风室7，反应气体经气体导入管8通过该鼓风室7导入。该气体在反应室经反应后再经排出管9从流化床装置排出。另外经导入管10将固体状态加料加到流化床装置中，并经排出管11再次排出。图3示出实施分布器底板的其它不同实施例，它们还可相互组合。详细示出各种类型的装置，特别是用于净化分布器底板的设备3’或3”在分布器底板1’或1”上，特别是在分布器底板的喷嘴2’或2”上的固定4’或4”。权利要求1.一种分布器底板(1)，特别是喷嘴式分布器底板，它用于分布载有细固体颗粒的气体，优选用于流化床装置中，特别是用于还原含金属氧化物的固体颗粒，其中在分布器底板(1)上设置有至少一个可移动的净化装置，该净化装置可在分布器底板的运行过程中减少在分布器底板上，特别是喷嘴式分布器底板的喷嘴(2)上的沉积物形成和/或至少部分去除已形成的沉积物，其特征在于，所述净化装置具有设备(3)，它通过在分布器底板上、特别是在喷嘴式分布器底板的喷嘴上的直接机械作用、特别是冲击作用来净化该分布器底板。2.权利要求1的分布器底板，其特征在于，用于净化分布器底板的设备(3)的设计方式使得所述用于净化分布器底板的设备在气流中吸收能达净化作用的足够的动能。3.权利要求1的分布器底板，其特征在于，所述用于净化分布器底板的设备(3)是绳和/或链和/或可移动的安装的杆。4.权利要求1-3中一项或多项的分布器底板，其特征在于，所述用于净化分布器底板的设备(3)安置在分布器底板上，特别是在分布器底板的至少一个喷嘴中。5.一种在分布器底板上，特别是在喷嘴式分布器底板的喷嘴上用于减少沉积物形成和/或至少部分去除沉积物的方法，其中在分布器底板上设置有至少一个可移动的净化装置，其特征在于，在分布器底板运行过程中，通过该净化装置在分布器底板上，特别是在喷嘴式分布器底板的喷嘴上或在这些部位的相应的沉积物上的直接机械作用，特别是冲击作用实现净化该分布器底板。6.权利要求5的方法，其特征在于，通过气流给所述净化装置输入达到净化的足够的动能。7.权利要求5或6的方法，其特征在于，所述喷嘴式分布器底板通过所述净化装置呈振动状态。8.权利要求5-7中一项或多项的方法，其特征在于，所述净化装置至少部分安置、特别是固定在分布器底板的至少一个喷嘴中。全文摘要本专利技术涉及一种分布器底板(1)，特别是喷嘴式分布器底板，它用于分布载有细固体颗粒的气体，优选用于流化床装置中，特别是用于还原含金属氧化物的固体颗粒，其中在分布器底板(1)上设置有至少一个可移动的净化装置，它可在分布器底板的运行过程中减少在分布器底板上，特别是喷嘴式分布器底板的喷嘴(2)上的沉积物形成和/或至少部分去除已形成的沉积物。该净化装置具有设备(3)，它通过在分布器底板上，特别是在喷嘴式分布器底板的喷嘴上的直接机械的，特别是冲击作用来净化该分布器底板。本专利技术还涉及一种在分布器底板上用于减少沉积物形成和/或至少部分去除该沉积物的方法。文档编号B01J8/44GK1633332SQ03803855 公开日2005年6月29日 申请日期2003年2月10日 优先权日2002年2月14日专利技术者F本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种分布器底板（１），特别是喷嘴式分布器底板，它用于分布载有细固体颗粒的气体，优选用于流化床装置中，特别是用于还原含金属氧化物的固体颗粒，其中在分布器底板（１）上设置有至少一个可移动的净化装置，该净化装置可在分布器底板的运行过程中减少在分布器底板上，特别是喷嘴式分布器底板的喷嘴（２）上的沉积物形成和／或至少部分去除已形成的沉积物，其特征在于，所述净化装置具有设备（３），它通过在分布器底板上、特别是在喷嘴式分布器底板的喷嘴上的直接机械作用、特别是冲击作用来净化该分布器底板。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：F豪岑伯格，
申请(专利权)人：沃斯特阿尔派因工业设备制造股份有限公司，浦项综合制铁株式会社，工业科学与技术研究所财团，
类型：发明
国别省市：AT[奥地利]