硅片清洗机的供水装置以及硅片生产系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种硅片清洗机的供水装置，其包括清洗用水加热机构及余热利用机构；余热利用机构包括热媒水箱、空压机余热器、及用于将热媒水箱中的热媒水泵入空压机余热器中以加热的热媒水泵；清洗用水加热机构包括进水管路、出水管路、用于对清洗用水进行换热升温的板式换热器；板式换热器具有清洗用水进口、清洗用水出口、与空压机余热器连通以将加热后的热媒水引入的热媒水进口、及热媒水出口。该供水装置，采用硅片生产过程中的空压机的余热对清洗用水进行升温，使进入硅片清洗机中的清洗用水水温较高，进而降低硅片清洗机的加热所需的电量，降低能耗；同时有利于硅片成本的降低。本实用新型专利技术还公开一种硅片生产系统。

Water supply device for silicon wafer cleaning machine and silicon wafer production system

【技术实现步骤摘要】
硅片清洗机的供水装置以及硅片生产系统
本技术涉及光伏
，特别是涉及一种硅片清洗机的供水装置以及硅片生产系统。
技术介绍
硅片生产过程是由锭检、粘胶、切割、清洗、分选、包装组成，其中硅片清洗过程中需要大量的清洗用水(包括自来水、纯水)，且对清洗用水均有一定的温度指标，一般清洗用水的水温大约为60℃左右。目前，在清洗工艺环节中，直接采用室温下的清洗用水引入硅片清洗机中，在硅片清洗机中对清洗用水加热，故而造成硅片清洗机的耗能非常大，同时也不利于硅片成本的降低。
技术实现思路
基于此，有必要针对现有硅片生产过程中能耗大、不利于硅片成本降低的问题，提供一种利用硅片生产过程中的余热，进而降低硅片清洗机的能耗，同时有利于降低硅片成本的硅片清洗机的供水装置。一种硅片清洗机的供水装置，包括清洗用水加热机构以及余热利用机构；所述余热利用机构包括：热媒水箱，用于存储热媒水；空压机余热器，用于对热媒水进行加热；以及热媒水泵，用于将所述热媒水箱中的热媒水泵入所述空压机余热器中；所述清洗用水加热机构包括：进水管路，用于引入清洗用水；出水管路，用于将清洗用水引入硅片清洗机中；以及板式换热器，用于对清洗用水进行换热升温；所述板式换热器具有与所述进水管路连通的清洗用水进口、与所述出水管路连通的清洗用水出口、与所述空压机余热器连通以将加热后的热媒水引入的热媒水进口、以及用于将换热后的热媒水引出的热媒水出口。上述硅片清洗机的供水装置，采用硅片生产过程中的空压机所产生的余热对清洗用水进行加热升温，从而使进入硅片清洗机中的清洗用水水温较高，进而降低硅片清洗机的加热所需的电量，降低能耗；同时有利于硅片成本的降低。在其中一个实施例中，所述余热利用机构还包括：热媒水回管，两端分别与所述热媒水出口、及所述热媒水箱连通以将换热后的热媒水引回所述热媒水箱中。在其中一个实施例中，所述热媒水回管上设有用于开关所述热媒水回管的控制阀。在其中一个实施例中，所述硅片清洗机的供水装置还包括热媒水预热机构；所述热媒水预热机构包括：预热换热器，用工艺回水对热媒水进行预热；工艺回水引管，用于将线切割产生的工艺回水引入所述预热换热器中；工艺回水排管，用于将换热后的工艺回水排出所述预热换热器；热媒水引管，用于将热媒水引入所述预热换热器中；以及热媒水排管，用于将预热后的热媒水排入所述热媒水箱中。在其中一个实施例中，所述热媒水箱上设有用于对所述热媒水箱中的热媒水进行保温的隔热保温层。在其中一个实施例中，所述热媒水箱内设有对所述热媒水箱中的热媒水进行加热的加热器。在其中一个实施例中，所述热媒水箱内还设有对所述热媒水箱中的热媒水进行温度检测的水温感测器；所述余热利用机构还包括用于当所述水温感测器检测到热媒水的温度低于指定温度时，控制所述加热器加热的控制器。在其中一个实施例中，所述清洗用水加热机构包括用于对硅片清洗机提供纯水的纯水子机构、以及用于对硅片清洗机提供自来水的自来水子机构。在其中一个实施例中，所述热媒水箱中设有用于在所述热媒水箱的水位低于指定水位时关闭所述热媒水泵的浮球机构。本技术还提供了一种硅片生产系统。一种硅片生产系统，包括本技术所提供的硅片清洗机的供水装置。上述硅片生产系统，采用空压机所产生的余热对清洗用水进行加热升温，从而使进入硅片清洗机中的清洗用水水温较高，进而降低硅片清洗机的加热所需的电量，降低能耗，从而使硅片生产的热量有效回收利用；进而有利于降低硅片的生产成本。附图说明图1为本技术一实施例的硅片清洗机的供水装置的结构示意图。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合具体实施方式，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施方式仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。参见图1，本技术一实施例的硅片清洗机的供水装置1000，包括清洗用水加热机构100、余热利用机构200。其中，清洗用水加热机构100的主要作用是，在清洗用水进入硅片清洗机(未示出)之前，对清洗用水进行加热，使进入硅片清洗机中的清洗用水的水温处于较高水平。而余热利用机构200的主要作用是，利用空压机的余热对热媒水加热，并将加热后的热媒水引入清洗用水加热机构中，从而利用加热后的热媒水加热清洗用水。热媒水是指作为换热媒介的水。在本实施例中，采用自来水作为热媒水。(需要说明的是，在图1中用单线箭头表示热媒水的流向)其中，清洗用水加热机构100包括用于引入清洗用水的进水管路、用于将清洗用水引入硅片清洗机中的出水管路、以及用于对清洗用水进行换热升温的板式换热器。板式换热器具有与进水管路连通的清洗用水进口、与出水管路连通的清洗用水出口、用于将加热后的热媒水引入的热媒水进口、以及用于将换热后的热媒水引出的热媒水出口。在本实施例中，清洗用水加热机构100包括用于对硅片清洗机提供纯水的纯水子机构100a、以及用于对硅片清洗机提供自来水的自来水子机构100b。这样采用同一余热利用机构200即可同时对清洗用的纯水和清洗用的自来水分别进行加热，同时满足硅片清洗机对纯水以及自来水的需求。纯水子机构100a包括用于引入纯水的进水管路120a、用于将纯水引入硅片清洗机中的出水管路130a、以及用于对纯水进行换热升温的板式换热器110a。板式换热器110a具有与进水管路120a连通的纯水进口、与出水管路130a连通的纯水出口、用于将加热后的热媒水引入的热媒水进口、以及用于将换热后的热媒水引出的热媒水出口。(需要说明的是，在图1中用三角形箭头表示清洗用纯水的流向)同样地，自来水子机构100b包括用于引入自来水的进水管路120b、用于将自来水引入硅片清洗机中的出水管路130b、以及用于对自来水进行换热升温的板式换热器110b。板式换热器110b具有与进水管路120b连通的自来水进口、与出水管路130b连通的自来水出口、用于将加热后的热媒水引入的热媒水进口、以及用于将换热后的热媒水引出的热媒水出口。(需要说明的是，在图1中用羽翼箭头表示清洗用自来水的流向)当然，可以理解的是，本技术的清洗用水加热机构100可以只包括纯水子机构100a，或只包括自来水子机构100b。其中，余热利用机构200包括用于存储热媒水的热媒水箱210、用于对热媒水进行加热的空压机余热器230、以及位于热媒水箱210与空压机余热器230之间的热媒水泵220。热媒水泵220用于将热媒水箱210中的热媒水泵入空压机余热器230中。也就是说，热媒水箱210中的热媒水通过热媒水泵220被泵入空压机余热器230中，然后在空压机余热器230中被加热，接着空压机余热器230中加热后的热媒水从热媒水进口进入板式换热器110a、110b中。为了进一步提高热媒水使用效率，余热利用机构200还包括热媒水回管250。热媒水回管250的两端分别与板式换热器的热媒水出口、及热媒水箱210连通以将换热后的热媒水引回热媒水箱210中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硅片清洗机的供水装置，其特征在于，包括清洗用水加热机构以及余热利用机构；所述余热利用机构包括：热媒水箱，用于存储热媒水；空压机余热器，用于对热媒水进行加热；以及热媒水泵，用于将所述热媒水箱中的热媒水泵入所述空压机余热器中；所述清洗用水加热机构包括：进水管路，用于引入清洗用水；出水管路，用于将清洗用水引入硅片清洗机中；以及板式换热器，用于对清洗用水进行换热升温；所述板式换热器具有与所述进水管路连通的清洗用水进口、与所述出水管路连通的清洗用水出口、与所述空压机余热器连通以将加热后的热媒水引入的热媒水进口、以及用于将换热后的热媒水引出的热媒水出口。

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗机的供水装置，其特征在于，包括清洗用水加热机构以及余热利用机构；所述余热利用机构包括：热媒水箱，用于存储热媒水；空压机余热器，用于对热媒水进行加热；以及热媒水泵，用于将所述热媒水箱中的热媒水泵入所述空压机余热器中；所述清洗用水加热机构包括：进水管路，用于引入清洗用水；出水管路，用于将清洗用水引入硅片清洗机中；以及板式换热器，用于对清洗用水进行换热升温；所述板式换热器具有与所述进水管路连通的清洗用水进口、与所述出水管路连通的清洗用水出口、与所述空压机余热器连通以将加热后的热媒水引入的热媒水进口、以及用于将换热后的热媒水引出的热媒水出口。2.根据权利要求1所述的硅片清洗机的供水装置，其特征在于，所述余热利用机构还包括：热媒水回管，两端分别与所述热媒水出口、及所述热媒水箱连通以将换热后的热媒水引回所述热媒水箱中。3.根据权利要求1所述的硅片清洗机的供水装置，其特征在于，所述热媒水回管上设有用于开关所述热媒水回管的控制阀。4.根据权利要求1所述的硅片清洗机的供水装置，其特征在于，所述硅片清洗机的供水装置还包括热媒水预热机构；所述热媒水预热机构包括：预热换热器，用工艺回水对热媒水进行预热；工艺回水引管，用于将线切割产生的工艺回水引入所述预热换热器中...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴流彬，
申请(专利权)人：常州协鑫光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32