The invention relates to a source of short pulse light source (2) at least one beam (Fu) optical mechanism to re focus on the target surface (100) of the method, the optical mechanism includes the beam (Fu) focusing on the target surface (100) at least one of the optical devices the (5), wherein the re focus on knows the optical mechanism is regarded as the reference condition focusing (D1) after. Methods: according to the detection signal of the focus, represented by the target surface (100) (FR) and the light beam reflected by the target surface (100) and the reflection from the source (2) derived from the reference beam (Fref) between the time of pulse superposition, a light beam from the the delay line (14) delay, based on the reference condition, which is placed on the delay line (14) optical path changes the light beam to cause the focus signal reaches or exceeds a predefined threshold, and based on reference conditions (D1) and the focus signal reaches or exceeds the predefined threshold second conditions (D2) changes the optical path between the knowing, re adjust the focus.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于将光学组件重新聚焦的方法
本专利技术涉及一种用于将光学机构重新聚焦的方法和装置。
技术介绍
为了准确地指示待加工工件的点,在工业加工中使用这样的一些光学机构,其利用了来源于光源的具有时间上超短(也就是说,在飞秒或皮秒量级)的脉冲的光束。在所谓的“时间解析”(特别是“泵浦探测”类型的)光学机构中,使用时间上超短的激光脉冲来光学地激励样本,并检测其在现象产生之前、期间、和之后的状态。其可能涉及激励金属或半导体中的电荷载流子、增加热、或甚至生成声学脉冲。泵浦探测机构使得有可能学习非常快速的现象,例如物质中电子的动态、小规模的热扩散、或甚至超快速光声现象(也被称为“皮秒声学”)。这种光声应用在工业世界中用得非常广泛。多年来,鲁道夫技术公司已销售了所有主要微电子生产商非常广泛地使用的用于在线监视集成电路的层的厚度的设备。MENAPiC公司使用了光声技术的一种变形,其使得描述材料的特征成为可能。这些光学机构的原理是采用两个光源(特别是激光器)或分成两个光束的一个光源。第一光源(称为“泵浦”)负责生成该现象。泵浦光束例如通过专用的聚焦光学器件(比如透镜或显微镜物镜)聚焦到样本上。第二光束(称为“探测”)利用相同的光学器件或不同的光学器件也在同一点处聚焦到样本上。两个光束具有不同的光学轨迹,但它们中的至少一个是长度可调的,因此存在用于使两个光束行进的光路的长度严格相等的设备。通过延迟线对轨迹中之一的长度的调节将时间相移设定在泵浦光束与探测光束之间,并且确定观察到样本的状态的时刻。泵浦和探测这两个光束在样本上反射或穿过它。根据机构,在幅度、相位或方向方面对反射的或透射的 ...
【技术保护点】
一种使用来源于短脉冲光源(2)的至少一个光束(fu)将光学机构重新聚焦在目标表面(100)上的方法,所述光学机构包括用于将所述光束(fu)聚焦在所述目标表面(100)上的至少一个光学器件(5),所述重新聚焦在知悉了所述光学机构被视为聚焦的参考条件(d1)之后被应用,在方法中:‑检测聚焦信号,其表示由所述目标表面(100)反射的光束(fr)与不由所述目标表面(100)反射且从所述短脉冲光源(2)导出的参考光束(fref)之间的脉冲的时间叠加,所述光束中的一个由延迟线(14)延迟,‑基于所述参考条件,使得其上放置了所述延迟线(14)的所述光束的光学路径变化以导致所述聚焦信号到达或超过预定义阈值,以及‑基于对在所述参考条件(d1)与所述聚焦信号到达或超过所述预定义阈值的条件(d2)之间的光学路径的变化的知悉,重新调节所述聚焦。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.23 FR 14632501.一种使用来源于短脉冲光源(2)的至少一个光束(fu)将光学机构重新聚焦在目标表面(100)上的方法,所述光学机构包括用于将所述光束(fu)聚焦在所述目标表面(100)上的至少一个光学器件(5),所述重新聚焦在知悉了所述光学机构被视为聚焦的参考条件(d1)之后被应用,在方法中:-检测聚焦信号,其表示由所述目标表面(100)反射的光束(fr)与不由所述目标表面(100)反射且从所述短脉冲光源(2)导出的参考光束(fref)之间的脉冲的时间叠加,所述光束中的一个由延迟线(14)延迟,-基于所述参考条件,使得其上放置了所述延迟线(14)的所述光束的光学路径变化以导致所述聚焦信号到达或超过预定义阈值,以及-基于对在所述参考条件(d1)与所述聚焦信号到达或超过所述预定义阈值的条件(d2)之间的光学路径的变化的知悉,重新调节所述聚焦。2.根据权利要求1所述的方法,被应用于使用探测光束(fs)和泵浦光束(fp)来分析定义了所述目标表面的样本(100),所述探测光束(fs)和所述泵浦光束(fp)中的至少一个来源于所述短脉冲光源(2),包括放置在所述光束中的一个的轨迹上的至少一个延迟线(4)以及用于将所述探测光束(fs)和所述泵浦光束(fp)聚焦在待分析的所述样本(100)上的至少一个光学器件(5),所述聚焦信号表示在由所述样本(100)反射且由所述延迟线(4)延迟的光束(fr)与不由所述样本(100)反射的参考光束(fref)之间检测到的脉冲的时间叠加。3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,通过相对于所述目标表面(100)移动所述延迟线、或者通过尤其使用其上布置了所述目标表面的移动样本保持器相对于所述延迟线移动所述目标表面,来改变其上放置了所述延迟线(4,14)的所述光束的光学路径。4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,所述预定义阈值等于零。5.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,所述预定义阈值严格地大于零。6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,基于由所述目标表面(100)反射的光束(fr)与不由所述目标表面(100)反射且从所述短脉冲光源(2)或所述短脉冲光源(2)中的一个导出的参考光束(fref)之间的互相关来检测表示所述脉冲的时间叠加的聚焦信号,所述光束中的一个由所述延迟线(14)延迟。7.根据前述权利要求中除权利要求2以外任一项所述的方法,其中,所述光学机构包括分光元件(10),其用于划分来源于所述短脉冲光源(2)的所述光束(fu),以便产生由所述目标表面(100)反射的光束(fr)和不由所述目标表面(100)反射的参考光束(fref)。8.根据权利要求2至6中任一项所述的方法,其中,所述光学分析机构包括单个光源(2)和分光元件(3),所述分光元件(3)用于划分来源于所述光源的所述光束(fi),以便产生所述泵浦光束(fp)和所述探测光束(fs)。9.根据权利要求2至6中任一项所述的方法,其中,所述光学分析机构包括分别发射所述泵浦光束(fp)和所述探测光束(fs)的两个光源。10.根据权利要求2至9中除权利要求7以外任一项所述的方法,其中,所述延迟线(4)放置在所述泵浦光束(fp)的轨迹上。11.根据权利要求2至10中除权利要求7以外任一项所述的方法,其中,不由所述样本(100)反射的参考光束(fref)是不由所述延迟线(4)延迟的所述泵浦光束(fp),或者是所述探测光束(fs),或者在所述光学分析机构包括单个源(2)和分光元件(3)的情况下是在所述分光器元件之前捕获的从所述光源导出的光束(fi)。12.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,通过相对于所述目标表面(100)移动所述聚焦光学器件(5),或者通过尤其使用其上布置了所述目标表面(100)的移动样本保持器相对于所述聚焦光学...
【专利技术属性】
技术研发人员:阿诺·德沃,
申请(专利权)人:国家科学研究中心,里尔第一大学,里尔高等电子与数字学院,
类型:发明
国别省市:法国,FR
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