干式工艺处理方法技术

本发明专利技术的目的在于提供能够不将对象物润湿地进行杀菌或除臭、安全性高的干式工艺处理方法。根据实施方式，干式工艺处理方法是通过使盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、且pH为5～8的次氯酸水以气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫的状态散发到规定空间内，从而不将存在于上述空间内的对象物润湿地使次氯酸成分到达，进行上述对象物的杀菌或除臭的干式工艺处理方法。

Dry process treatment method

The aim of the present invention is to provide a dry process treatment method which can sterilize or deodorize the wetland and have high safety. According to an embodiment, the dry process is the salt concentration is below 500mg/kg, the effective chlorine concentration is 5 ~ 200mg/kg, and the pH is hypochlorous acid water 5~8 to contain gas or particle size of 1 m below the hypochlorous acid components of the mist emitted to the provisions of state space, so as not to exist in the space of the object to run wetland hypochlorous acid component to reach the object of sterilization, deodorant or dry processing method.

【技术实现步骤摘要】
干式工艺处理方法优先权基础申请等关联申请的引用本申请以日本专利申请2016-186932(申请日：2016年9月26日)作为基础并由该申请享有优先权。本申请通过参照该申请而包含该申请的全部内容。
这里描述的实施方式涉及杀菌水的干式工艺处理方法。
技术介绍
近年来，从生活中的各种物体、场所中的卫生方面和健康方面的观点出发，要求将它们进行杀菌。直到今天，在它们的杀菌中，使用以次氯酸钠为代表的杀菌水。然而，对于食品、蔬菜水果、衣服、畜舍、居住空间等1)不能使其润湿的对象物(通过润湿而受到损伤的物体、通过润湿而变得无法使用的物体等)、2)或形状上具有液体不能到达细部的结构的物体、或对象物具有防水性从而液体不能到达细部的物体，要求除了湿式工艺以外的杀菌、除臭对策。作为利用干式工艺处理的杀菌、除臭对策，通过臭氧气体等具有杀菌效果的气体进行来杀菌，但这些气体大多是对人体有毒的气体，使用范围受到限定。因此，要求不将对象物润湿、且没有残留性、且安全性高的杀菌方法。此外，为了提高通用性，期望对于空间内的设备等尽量不产生腐蚀(锈)等的影响。
技术实现思路
本实施方式的课题在于提供不将对象物润湿、且安全性高的杀菌水的干式工艺处理方法及干式工艺处理装置。根据实施方式，干式工艺处理方法的特征在于，通过将盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、且pH5～8的次氯酸水变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫而散发到规定空间内，从而使次氯酸成分到达存在于上述空间内的对象物，不将对象物润湿地以干式工艺处理进行杀菌或除臭。根据上述干式工艺处理方法，能够不将对象物润湿地、此外不产生锈地安全地进行杀菌或除臭。附图说明图1是概略地表示第1实施方式中的干式工艺处理装置的截面图。图2是将上述干式工艺处理装置的过滤器部分放大而表示的立体图。图3是概略地表示上述干式工艺处理装置及杀菌或除臭的对象物的设置例的图。图4是概略地表示用于生成次氯酸水的3室型的电解水生成装置的一个例子的截面图。图5是对于盐分浓度不同的多种次氯酸水，将由腐蚀引起的金属板的重量减少率与经过时间的关系进行比较而表示的曲线图。图6是对于被覆率不同的多种过滤器，将风速的变化率进行比较而表示的曲线图。图7是表示第2实施方式所述的干式工艺处理装置及喷雾空间的立体图。图8是概略地表示第1变形例所述的干式工艺处理装置的截面图。图9是概略地表示第2变形例所述的干式工艺处理装置的截面图。具体实施方式以下，参照附图对各种实施方式进行说明。另外，对实施方式中共同的构成标注相同的符号，并省略重复的说明。此外，各图是实施方式及有助于其理解的示意图，其形状或尺寸、比例等与实际的装置有不同的地方，但它们可以通过参考以下的说明和公知技术来适当地进行设计变更。(第1实施方式)图1是概略地表示第1实施方式所述的干式工艺处理装置的构成的截面图，图2是将上述干式工艺处理装置的过滤器部分放大而表示的立体图。如图1中所示的那样，干式工艺处理装置10例如作为气液接触方式的干式工艺处理装置而构成。即，其是通过使次氯酸水浸渗在过滤器中，并将空气通过该过滤器而流通，从而使次氯酸水与空气接触，将次氯酸水变换成气体而放出的干式工艺处理装置。若详细叙述，则干式工艺处理装置10具备箱状的框体12。框体12的侧壁12a具有吸气口14，与侧壁12a相对的侧壁12b具有喷雾口16。在框体12内，设置有吸气风扇18、过滤器20、贮存作为杀菌水的次氯酸水的液体接受器22、将液体接受器22内的次氯酸水供给到过滤器20中的给水机构24。在框体12的顶棚壁12c上，装卸自如地载置有容纳补充用的次氯酸水的贮水槽(或贮水盒)26。吸气风扇18与吸气口14相对地设置。吸气风扇18通过吸气口14将外部空气吸气，向过滤器20送风。过滤器20与喷雾口16相对、且设置于液体接受器22上。过滤器20例如形成为矩形状，沿着大致垂直方向设立。从吸气风扇18送来的外部空气通过过滤器20从喷雾口16排出到外部。过滤器20也可以包含无纺布。对于过滤器20的详细情况在后面进行叙述。液体接受器22配置在框体12的底壁12d上。液体接受器22贮存有规定量的次氯酸水，同时接受从过滤器20滴落的次氯酸水而进行贮存。给水机构24具备设置于过滤器20的上方的滴下管30、从液体接受器22的底部延伸至滴下管30的给水配管32、与给水配管32的中途部连接的送液泵34和驱动送液泵34及上述的吸气风扇18的控制器35。如图1及图2中所示的那样，滴下管30大致水平地延伸，在过滤器20的上方空开规定的间隔而配置。本实施方式中，给水配管32与滴下管30的两端连接，从两端给水到滴下管30中。在滴下管30上，形成有多个滴下孔30a，在滴下管30的轴方向上以规定的间距排列。被给水到滴下管30中的次氯酸水从多个滴下孔30a滴下到过滤器20中。次氯酸水的给水量或滴下量可以通过控制器35而适当调整。在框体12的顶棚壁12c上设置有给水口36，贮水槽26的注入口部分装卸自如地安装在给水口36上。给水管38从给水口36延伸出至液体接受器22的附近。在给水管38的中途部设置有开闭阀40。此外，设置有探测液体接受器22内的液体的液面高度、即探测次氯酸水的余量的浮子传感器42。若通过浮子传感器42探测到次氯酸水的减少，则控制器35将开闭阀40开放。于是，次氯酸水从贮水槽26通过给水管38被补充到液体接受器22中。若液体接受器22内的次氯酸水达到规定量，则根据浮子传感器42的检测，控制器35将开闭阀40关闭，停止给水。另外，次氯酸水的补充并不限于上述的贮水槽26，操作员也可以从给水口36通过手动进行补充。图3示出将干式工艺处理装置10设置在规定空间内的一个例子。如图中所示的那样，干式工艺处理装置10配置在例如通过壁面而分隔的空间S内。在该空间S内，载置有成为杀菌或除臭的对象的各种对象物OB1、OB2。空间S优选被密闭，但也可以一部分对外部开放。如图1及图3中所示的那样，在通过利用干式工艺处理装置10的干式工艺对空间S内喷雾次氯酸水的雾沫或干雾沫时，首先，驱动送液泵34，将次氯酸水从液体接受器22通过给水配管32送至滴下管30中。然后，从滴下管30的滴下孔30a向过滤器20滴下(给水)次氯酸水，浸渗于过滤器20中。同时，驱动吸气风扇18，将从吸气口14吸入的外部空气(或空间S内的空气)向过滤器20送风。浸渗于过滤器20中的次氯酸水与透过过滤器20的空气一起从喷雾口16被喷雾到空间S内。次氯酸水在离开过滤器20的时刻发生气化，次氯酸成分从喷雾口16被喷雾到空间S内。另外，喷雾物质中也可以包含粒径为1μ以下的液状的雾沫。所喷雾的次氯酸成分对规定空间S内进行杀菌或除臭，同时到达空间S内的对象物OB1、OB2上，不将这些对象物OB1、OB2润湿地进行杀菌或除臭。此外，对象物中也包含形成空间S的壁部的内表面、及配置在空间S内的设备等。因此，次氯酸成分到达壁部内表面及设备等，对它们进行杀菌及除臭。另外，通过将干式工艺处理装置10的喷雾口16与对象物之间的距离D设定为5cm以上，从喷雾口16被喷雾的粒径为1μm以下的雾沫在常温下在到达对象物之前的期间发生气化，可以作为气体到达对象物。由此，可以不将对象物润本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种干式工艺处理方法，其中，通过将盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、且pH为5～8的次氯酸水以变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫的状态散发到规定空间内，从而使次氯酸成分到达存在于所述规定空间内的对象物上，不将所述对象物润湿地进行杀菌或除臭。

【技术特征摘要】
2016.09.26 JP 2016-1869321.一种干式工艺处理方法，其中，通过将盐分浓度为500mg/kg以下、有效氯浓度为5～200mg/kg、且pH为5～8的次氯酸水以变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫的状态散发到规定空间内，从而使次氯酸成分到达存在于所述规定空间内的对象物上，不将所述对象物润湿地进行杀菌或除臭。2.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，将次氯酸成分通过气液接触方式制成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫，对所述规定空间进行喷雾，并使其扩散。3.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，将次氯酸成分通过超声波或加热制成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫，对所述规定空间进行喷雾。4.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，使用通过3室型电解池生成的次氯酸水。5.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，通过将次氯酸水以含水率30％以上浸渗于过滤器或无纺布中、并穿过所述过滤器或无纺布而进行送风，从而在所述过滤器或无纺布中没有析出物地使次氯酸水强制气化或自然气化，将次氯酸水成分喷雾到空间中。6.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，将次氯酸水给水并浸渗到过滤器或无纺布中，将次氯酸水的给水量调整为使覆盖所述过滤器或无纺布的空孔的被覆率成为0～80％的状态，穿过所述过滤器或无纺布而进行送风，使次氯酸水强制气化或自然气化，将次氯酸水变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫而进行喷雾。7.根据权利要求5或6所述的干式工艺处理方法，其中，利用风扇将外部空气摄入并向所述过滤器或无纺布进行送风，将次氯酸水变换成气体或包含粒径为1μm以下的次氯酸成分的雾沫，并使其在所述规定空间内进行空间扩散。8.根据权利要求5或6所述的干式工艺处理方法，其中，所述过滤器或无纺布由下述材料形成，所述材料以选自聚丙烯、聚乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、特氟隆、PVDF、氯乙烯、纤维素、丙烯酸类、陶瓷、无机氧化物、无机氮化物中的1种或将多种组合而成的物质作为主要成分，且含有0.1％以下的包含氨基、氰酸酯基、巯基中的任一者的粘接剂、防腐剂、表面改性剂、着色剂、亲水剂。9.根据权利要求1所述的干式工艺处理方法，其中，通过在将所述规定空间的湿度调整为90％以下的状态下将次氯酸水变换成气...

【专利技术属性】
技术研发人员：森田修介，千草尚，横田昌广，西村孝司，东间秀之，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：日本,JP