The present invention provides a reference for the detection device, with the incident rays through the window, the reference detection device also comprises a detection module, the ray penetrates the entrance window and onto the detection component; the detection component is determined according to the focus position of ray source ray energy information of the ray projected on the projection area of the detection component detected within; and / or determined according to the strength of the ray source ray radiation energy information preset region of the detection component detected; among them, the entrance window has at least two extended along different directions to define the edge. The projection area and / or the preset area. In this way, we can track the focus location of the radiation source and detect the radiation intensity of the X-ray source, and then make corrections to the imaging of the CT system, avoiding the artifacts of the image output caused by the fluctuation of the output of the X-ray, and improving the imaging quality of the image. The invention also provides a ray detection method for CT equipment and ray source.
【技术实现步骤摘要】
CT设备、参考探测装置及射线源的射线探测方法
本专利技术涉及医疗设备
,特别是涉及一种CT设备、参考探测装置及射线源的射线探测方法。
技术介绍
目前,CT机等成像设备成像时通常通过球管发出X射线对人体进行扫描,通过探测器接收及检测X射线。但是,CT机等成像设备在扫描过程中,球管位置受到温度等因素影响会发生偏移,使得X射线在输出时会存在波动,导致X射线强度以及焦点的位置发生变化,进而探测器在图像重建中若仍使用原来的球管发出的X射线强度以及焦点位置数据会造成图像伪影,导致图像成像质量差,不利于医生的诊断。
技术实现思路
基于此,有必要针对目前因球管位置偏移引起X射线输出波动导致的图像出现伪影的问题,提供一种能够对球管的焦点位置以及射线强度进行跟踪避免图像成像出现伪影的参考探测装置,同时还提供一种射线源的射线探测方法,以及提供一种含有上述参考探测装置的CT设备。上述目的通过下述技术方案实现:一种参考探测装置,用于探测射线源发射的射线,所述参考探测装置具有供所述射线通过的入射窗,所述参考探测装置还包括:探测组件,所述射线穿设所述入射窗并投射到所述探测组件上;所述探测组件根据所述射线投射在所述探测组件的投影区域内探测到的射线能量信息确定射线源的焦点位置;和/或,根据所述探测组件的预设区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的射线强度;其中,所述入射窗具有至少两条沿不同方向延伸的边沿,以限定所述投影区域和/或所述预设区域。在其中一个实施例中,所述参考探测装置还包括截面呈L型的挡板,用于遮挡所述射线,L型的所述挡板的两个所述边沿形成所述入射窗。在其中一个实施例中,所述 ...
【技术保护点】
一种参考探测装置,用于探测射线源发射的射线,其特征在于,所述参考探测装置具有供所述射线通过的入射窗,所述参考探测装置还包括:探测组件,所述射线穿设所述入射窗并投射到所述探测组件上;所述探测组件根据所述射线投射在所述探测组件的投影区域内探测到的射线能量信息确定射线源的焦点位置;和/或,根据所述探测组件的预设区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的射线强度;其中,所述入射窗具有至少两条沿不同方向延伸的边沿,以限定所述投影区域和/或所述预设区域。
【技术特征摘要】
1.一种参考探测装置,用于探测射线源发射的射线,其特征在于,所述参考探测装置具有供所述射线通过的入射窗,所述参考探测装置还包括:探测组件,所述射线穿设所述入射窗并投射到所述探测组件上;所述探测组件根据所述射线投射在所述探测组件的投影区域内探测到的射线能量信息确定射线源的焦点位置;和/或,根据所述探测组件的预设区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的射线强度;其中,所述入射窗具有至少两条沿不同方向延伸的边沿,以限定所述投影区域和/或所述预设区域。2.根据权利要求1所述的参考探测装置,其特征在于,所述参考探测装置还包括截面呈L型的挡板,用于遮挡所述射线,L型的所述挡板的两个所述边沿形成所述入射窗。3.根据权利要求2所述的参考探测装置,其特征在于,所述探测组件包括探测芯片和信号处理板,所述探测芯片位于所述入射窗的下方,所述射线经所述入射窗后投射于所述探测芯片上以形成所述投影区域和/或所述预设区域;所述信号处理板与所述探测芯片电连接,所述信号处理板根据所述投影区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的焦点位置,和/或,根据所述预设区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的射线强度。4.根据权利要求3所述的参考探测装置,其特征在于,所述预设区域位于所述射线通过所述入射窗在所述探测芯片上形成的本影范围内。5.根据权利要求3所述的参考探测装置,其特征在于,所述射线通过所述入射窗投射至所述探测芯片上形成的所述投影区域至少包括本影区域和半影区域,所述信号处理板根据所述本影区域和所述半影区域的关系计算所述射线源的焦点位置。6.根据权利要求5所述的参考探测装置,其特征在于,沿其中一个所述边沿的延伸方向可将所述投影区域分为第一区域和第二区域,根据所述探测芯片在所述第一区域和所述第二区域内探测到的射线能量的关系确定所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:叶婷,杜岩峰,
申请(专利权)人:上海联影医疗科技有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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