一种掩模板清洗装置以及掩模板清洗系统制造方法及图纸

本申请公开了一种掩模板清洗装置以及掩模板清洗系统，以简化掩模板的清洗工艺，降低掩模板的清洗成本。所述装置包括：清洗腔室，设置于所述清洗腔室内的至少一个导电板，以及设置于所述清洗腔室壁的第一排气阀、第一进气阀以及第一检测部件；所述第一排气阀与真空泵连接，在所述真空泵对所述清洗腔室抽真空的作用下，使得所述清洗腔室达到第一预设真空状态；所述第一进气阀用于在所述清洗腔室达到所述第一预设真空状态时，向所述清洗腔室内注入清洗气体；所述导电板，用于放置待清洗的掩模板，以及在所述清洗腔室达到所述第一预设真空状态时，通过加电使得所述清洗气体电离，电离后的清洗气体对所述掩模板进行清洗。

A mask cleaning device and a mask cleaning system

This application discloses a mask cleaning device and a mask cleaning system to simplify the cleaning process of the mask and reduce the cost of the mask cleaning. The device comprises a cleaning chamber, at least one of the conductive plate is arranged in the cleaning chamber, and a first exhaust valve, is arranged in the cleaning chamber wall of the first inlet valve and a first detecting unit; the first exhaust valve is connected with the vacuum pump, vacuum pump in the vacuum chamber cleaning effect for the next, so that the cleaning chamber reaches a first preset vacuum; the first inlet valve used in the cleaning chamber reaches the first preset vacuum state, injected into the cleaning gas to the cleaning chamber; the conductive plate, with the mask in place cleaning, as well as in the the cleaning chamber reaches the first preset vacuum state, the power that the cleaning gas ionization, gas ionization cleaning after the mask cleaning.

【技术实现步骤摘要】
一种掩模板清洗装置以及掩模板清洗系统
本申请涉及显示
，尤其涉及一种掩模板清洗装置以及掩模板清洗系统。
技术介绍
目前的显示类型主要包括液晶显示(LiquidCrystalDisplay，LCD)、有机发光二极管显示(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)、等离子显示(PlasmaDisplayPanel，PDP)和电子墨水显示等多种。其中，OLED显示器以其轻薄、主动发光、快响应速度、广视角、色彩丰富及高亮度、低功耗、耐高低温等众多优点而被业界公认为是继LCD显示器之后的第三代显示技术，可以广泛用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。现有的OLED发光显示器，在制作有机发光层时，通常是通过掩模板在需要发光的位置进行有机物的蒸镀。然而，蒸镀完有机物后的掩模板，通常需要进行定期清洗以去除附着在其上的有机物。在现有技术中，通常是通过湿法工艺对掩模板上的有机物进行清洗，而湿法清洗工艺不仅需要较长的工艺线，占用较大的使用面积，掩模板的清洗过程繁琐复杂，而且在清洗过程中，会产生清洗废液，为了使产生的废液不对环境不造成污染，还需设置对废液的再处理设备，成本较高。申请内容本申请的目的是提供一种掩模板清洗装置以及掩模板清洗系统，以简化掩模板的清洗工艺，降低掩模板的清洗成本，保护环境。本申请的目的是通过以下技术方案实现的：本申请实施例提供一种掩模板清洗装置，所述装置包括：清洗腔室，设置于所述清洗腔室内的至少一个导电板，以及设置于所述清洗腔室壁的第一排气阀、第一进气阀以及第一检测部件；所述第一排气阀与真空泵连接，在所述真空泵对所述清洗腔室抽真空的作用下，使得所述清洗腔室达到第一预设真空状态；所述第一检测部件用于检测所述清洗腔室是否到达所述第一预设真空状态；所述第一进气阀用于在所述清洗腔室达到所述第一预设真空状态时，向所述清洗腔室内注入清洗气体；所述导电板，用于放置待清洗的掩模板，以及在所述清洗腔室达到所述第一预设真空状态时，通过加电使得所述清洗气体电离，电离后的清洗气体对所述掩模板进行清洗。本申请实施例提供的掩模板清洗装置，包括与真空泵连接的第一排气阀以及用于注入清洗气体的第一进气阀，在清洗腔室达到第一预设真空状态时，由加电的导电板电离清洗气体，使清洗气体形成高能量的等离子体，由等离子体轰击掩模板上的有机物，进而实现对掩模板上有机物的清洗，清洗过程简单快捷，成本较低，并且不会产生清洗废液，避免环境污染。优选的，所述装置还包括：设置于所述清洗腔室壁的第二检测部件，所述第二检测部件用于通过对所述清洗腔室在清洗过程中产生的气体的发光光谱进行检测，确定所述清洗腔室对所述掩模板的清洗程度。本申请实施例的掩模板清洗装置还包括第二检测部件，第二检测部件能够对清洗腔室内气体的发光光谱进行检测，通过检测清洗腔室内有无特定的发射光谱进而确定掩模板是否清理干净。优选的，所述装置还包括：设置于所述清洗腔室壁的第三检测部件，所述第三检测部件用于通过对所述清洗腔室内的气体进行检测，进而确定注入到所述清洗腔室的清洗气体的量，以及确定所述清洗腔室在清洗过程中所产生的杂质气体的成分以及杂质气体的量。本申请实施例的掩模板清洗装置还包括第三检测部件，所述第三检测部件可以对清洗腔室内杂质气体的成分以及杂质气体的量的多少进行检测，进而可以在注入清洗气体时，对注入的清洗气体的量的多少进行检测，并且还可以对清洗气体在清洗过程中产生的杂质气体的成分以及杂质气体的量的多少进行检测，进而可以确定掩模板的污染程度。优选的，所述导电板包括板状的导电板本体，以及设置于所述导电板本体端部，并向垂直于所述导电板本体方向凸起的导电板限位部件，所述导电板本体用于承载所述掩模板，所述导电板限位部件用于限制所述掩模板位于所述导电板本体上。优选的，所述清洗腔室内设置有多个分层设置的所述导电板。本申请实施例提供的掩模板清洗装置，所述清洗腔室内设置有多个分层设置的所述导电板时，可以使掩模板清洗装置同时对多个掩模板进行清洗，节约资源，提高清洗效率。优选的，所述清洗腔室内设置有两个分层设置的所述导电板，分别为上导电板和下导电板；所述下导电板用于承载所述掩模板；所述上导电板用于在加电时，对注入到所述辅助清洗腔室内的所述清洗气体进行电离，使电离的所述清洗气体对承载于所述下导电板上的所述掩模板进行清理。本申请实施例提供的掩模板清洗装置，其清洗腔室设置有相对的上导电板和下导电板，可以对需要进行清洗的一个掩模板进行单独清洗，使掩模板在单位面积上接触到更高的等离子密度，实现对掩模板更高强度的清洗，使掩模板进一步净化。优选的，所述清洗腔室内还包括导轨，至少一个所述导电板与所述导轨相连，使得与所述导轨相连的所述导电板和相邻的所述导电板之间的距离可调。本申请实施例提供的掩模板清洗装置，导电板还与可使导电板进行移动的导轨连接，进而可以使相邻两个导电板之间的距离可调，相邻的导电板的距离减小时，可以使放置于导电板上的掩模板更加靠近导电板，使掩模板在单位面积接触到更多的等离子体，在施加的电压和注入的清洗气体的量相等时，可以使掩模板清洗腔室对掩模板具有更加优异的清洗性能。优选的，所述清洗气体包括：氧气、氩气、氮气、氩气与氧气的组合、或氩气与氮气的组合。本申请实施例提供一种掩模板清洗系统，包括至少一个本申请实施例提供的所述掩模板清洗装置。本申请实施例提供一种掩模板清洗系统，可以包括一个或多个本申请实施例提供的掩模板清洗装置，多个掩模板清洗装置配合使用，可以使对掩模板的清洗更加高效合理。优选的，所述掩模板清洗系统还包括掩模板转移部件，所述模板转移部件用于将所述掩模板由蒸镀装置转移到所述掩模板清洗装置。本申请实施例提供的掩模板清洗系统，还包括掩模板转移部件，模板转移部件用于将所述掩模板由蒸镀装置转移到所述掩模板清洗装置，进而可以在实际的掩模板清洗工艺线上，节约清洗时间，提高清洗效率，避免污染环境。附图说明图1为本申请实施例提供的掩模板清洗装置结构示意图；图2为本申请实施例提供的设置有第二检测部件的掩模板清洗装置结构示意图；图3为本申请实施例提供的设置有第三检测部件的掩模板清洗装置结构示意图；图4为本申请实施例提供的另一种掩模板清洗装置结构示意图；图5为本申请实施例提供的一种掩模板清洗系统结构示意图；图6为本申请实施例提供的一种设置有转移部件的掩模板清洗系统结构示意图。具体实施方式下面结合说明书附图对本申请实施例的实现过程进行详细说明。需要注意的是，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。如图1所示，本申请实施例提供一种掩模板清洗装置，该装置包括：清洗腔室1，设置于清洗腔室1内的至少一个导电板2，具体的，其导电板2可以包括导电板本体21，以及设置于导电板本体21端部，并向垂直于导电板本体21方向凸起的导电板限位部件22，导电板本体21用于承载掩模板，导电板限位部件22用于限制掩模板位于导电板本体21上。以及设置于清洗腔室壁的第一排气阀3、第一进气阀4以及第一检测部件5；第一排气阀3与真空泵6连接，在真空泵6对清洗腔室1抽真空的作用下，使得清洗腔室1达到第一预设真空状态；本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模板清洗装置，其特征在于，所述装置包括：清洗腔室，设置于所述清洗腔室内的至少一个导电板，以及设置于所述清洗腔室壁的第一排气阀、第一进气阀以及第一检测部件；所述第一排气阀与真空泵连接，在所述真空泵对所述清洗腔室抽真空的作用下，使得所述清洗腔室达到第一预设真空状态；所述第一检测部件用于检测所述清洗腔室是否到达所述第一预设真空状态；所述第一进气阀用于在所述清洗腔室达到所述第一预设真空状态时，向所述清洗腔室内注入清洗气体；所述导电板，用于放置待清洗的掩模板，以及在所述清洗腔室达到所述第一预设真空状态时，通过加电使得所述清洗气体电离，电离后的清洗气体对所述掩模板进行清洗。

【技术特征摘要】
1.一种掩模板清洗装置，其特征在于，所述装置包括：清洗腔室，设置于所述清洗腔室内的至少一个导电板，以及设置于所述清洗腔室壁的第一排气阀、第一进气阀以及第一检测部件；所述第一排气阀与真空泵连接，在所述真空泵对所述清洗腔室抽真空的作用下，使得所述清洗腔室达到第一预设真空状态；所述第一检测部件用于检测所述清洗腔室是否到达所述第一预设真空状态；所述第一进气阀用于在所述清洗腔室达到所述第一预设真空状态时，向所述清洗腔室内注入清洗气体；所述导电板，用于放置待清洗的掩模板，以及在所述清洗腔室达到所述第一预设真空状态时，通过加电使得所述清洗气体电离，电离后的清洗气体对所述掩模板进行清洗。2.如权利要求1所述的掩模板清洗装置，其特征在于，所述装置还包括：设置于所述清洗腔室壁的第二检测部件，所述第二检测部件用于通过对所述清洗腔室在清洗过程中产生的气体的发光光谱进行检测，确定所述清洗装置对所述掩模板的清洗程度。3.如权利要求2所述的掩模板清洗装置，其特征在于，所述装置还包括：设置于所述清洗腔室壁的第三检测部件，所述第三检测部件用于通过对所述清洗腔室内的气体进行检测，进而确定注入到所述清洗腔室的清洗气体的量，以及确定所述清洗腔室在清洗过程中所产生的杂质气体的成分以及杂质气体的量。4.如权利要求1所述的掩模板清洗装置，其特征在于，所述导电板...

【专利技术属性】
技术研发人员：裴泳镇，金甲锡，李浩永，丁熙荣，
申请(专利权)人：合肥欣奕华智能机器有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34