一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low‑E玻璃制造技术

本发明专利技术涉及玻璃生产技术领域，具体涉及一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low‑E玻璃，包括玻璃基体和镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层，其特征在于：所述复合膜层包括自所述玻璃基体表面朝外依次沉积的第一SiNx层、第一ZnOx层、第一NiCr层、第一Ag层、第二NiCr层、第一AZO层、第二SiNx层、ZnSnOx层、第二ZnOx层、第三NiCr层、第二Ag层、第四NiCr层、第二AZO层和第三SiNx层，本发明专利技术通过优化膜层结构，使双银Low‑E玻璃的复合膜层中含有ZnSnOx层和ZnOx层，该两种材料在钢化过程中，由于受热延展性强，可在不减薄金属层和NiCr层厚度的情况下，使钢化后透过率增加，因而也能保证较低的辐射率，本发明专利技术的可钢化双银Low‑E玻璃可以实现透过率≥70%，辐射率≤0.05。

A high transmittance can be toughened Low double silver E glass low radiation rate

The present invention relates to the technical field of glass production, in particular to a high transmittance low emissivity can be toughened Low double silver E glass, including glass substrate and coating is arranged on the side surface of the glass matrix composite coating, which is characterized in that the composite film includes from the glass substrate surface in the first SiNx layer outwards first, the deposition of ZnOx layer, NiCr layer, the first layer, the first Ag second NiCr layer, AZO layer, the first second SiNx layer, ZnSnOx layer, ZnOx layer, second layer, third NiCr second Ag fourth NiCr layer, second layer, AZO layer and SiNx layer third, the optimization of the film structure, the composite double silver E glass film Low contains ZnSnOx layer and ZnOx layer, the two kinds of materials in tempering process, the thermal ductility is strong, can be in the thin metal layer and the NiCr layer thickness, the transmittance increases after tempering Therefore, to ensure the lower radiation rate, the invention can double silver Low E toughened glass can be realized through rate greater than 70%, the radiation rate is less than 0.05.

【技术实现步骤摘要】
一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃
本专利技术涉及玻璃生产
，具体涉及一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃。
技术介绍
现有技术中的可钢化双银Low-E玻璃，其采用的膜层结构一般为：SiNx\AZO\NiCr\Ag\NiCr\AZO\SiNx\AZO\NiCr\Ag\NiCr\AZO\SiNx；此种膜层结构生产出的可钢化双银Low-E玻璃的透过率通常小于70％，为了做到高透过率，必须降低Ag层和NiCr层的厚度，由此造成这种产品的辐射率也偏高，现有技术中可钢化双银Loe-E玻璃的辐射率通常高于0.06，现有技术中的可钢化双银Low-E玻璃无法兼具高透过率和低辐射率的优点。
技术实现思路
本专利技术提供一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，其在不减薄原有膜层结构中银层或镍铬层厚度的情况下，通过优化膜层结构，使双银Low-E玻璃兼具高透过率和低辐射率的优点。为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，包括玻璃基体和镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层，所述复合膜层包括自所述玻璃基体表面朝外依次沉积的第一SiNx层、第一ZnOx层、第一NiCr层、第一Ag层、第二NiCr层、第一AZO层、第二SiNx层、ZnSnOx层、第二ZnOx层、第三NiCr层、第二Ag层、第四NiCr层、第二AZO层和第三SiNx层。进一步的，所述复合膜层由自所述玻璃基体表面朝外依次沉积的所述第一SiNx层、所述第一ZnOx层、所述第一NiCr层、所述第一Ag层、所述第二NiCr层、所述第一AZO层、所述第二SiNx层、所述ZnSnOx层、所述第二ZnOx层、所述第三NiCr层、所述第二Ag层、所述第四NiCr层、所述第二AZO层和所述第三SiNx层组成。进一步的，所述第一ZnOx层的厚度为1-30nm，所述ZnSnOx层的厚度为10-50nm，所述第二ZnOx层的厚度为1-30nm。进一步的，所述第一ZnOx层的厚度为10-25nm，所述ZnSnOx层的厚度为20-40nm，所述第二ZnOx层的厚度为10-25nm。进一步的，所述第一SiNx层的厚度为10-30nm，所述第一NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第一Ag层的厚度为0.5-20nm，所述第二NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第一AZO层的厚度为1-20nm、所述第二SiNx层的厚度为10-50nm、所述第三NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第二Ag层的厚度为0.5-20nm、所述第四NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第二AZO层的厚度为1-20nm、所述第三SiNx层的厚度为10-50nm。进一步的，所述第一SiNx层的厚度为15-25nm，所述第一NiCr层的厚度为1-3nm、所述第一Ag层的厚度为5-15nm，所述第二NiCr层的厚度为1-3nm、所述第一AZO层的厚度为5-16nm、所述第二SiNx层的厚度为20-40nm、所述第三NiCr层的厚度为1-3nm、所述第二Ag层的厚度为5-15nm、所述第四NiCr层的厚度为1-3nm、所述第二AZO层的厚度为5-16nm、所述第三SiNx层的厚度为20-40nm。进一步的，所述复合膜层为由自所述玻璃基体的表面向外依次层叠的第一SiNx层/第一ZnOx层/第一NiCr层/第一Ag层/第二NiCr层/第一AZO层/第二SiNx层/ZnSnOx层/第二ZnOx层/第三NiCr层/第二Ag层/第四NiCr层/第二AZO层/第三SiNx层组成，所述复合膜层中各膜层的厚度分别为24nm/10nm/1.5nm/6.4nm/2nm/10nm/25nm/35nm/20nm/2.9nm/12.3nm/1nm/12nm/25nm。进一步的，所述复合膜层为由自所述玻璃基体的表面向外依次层叠的第一SiNx层/第一ZnOx层/第一NiCr层/第一Ag层/第二NiCr层/第一AZO层/第二SiNx层/ZnSnOx层/第二ZnOx层/第三NiCr层/第二Ag层/第四NiCr层/第二AZO层/第三SiNx层组成，所述复合膜层中各膜层的厚度分别为15nm/12nm/1.4nm/6.5nm/1.4nm/12nm/24nm/36nm/18nm/0.8nm/12nm/1.3nm/10nm/27nm。进一步的，所述复合膜层为由自所述玻璃基体的表面向外依次层叠的第一SiNx层/第一ZnOx层/第一NiCr层/第一Ag层/第二NiCr层/第一AZO层/第二SiNx层/ZnSnOx层/第二ZnOx层/第三NiCr层/第二Ag层/第四NiCr层/第二AZO层/第三SiNx层组成，所述复合膜层中各膜层的厚度分别为16nm/15nm/0.5nm/5.6nm/1.5nm/15nm/28nm/35nm/15nm/0.5nm/15nm/1.1nm/15nm/21nm。进一步的，所述复合膜层为由自所述玻璃基体的表面向外依次层叠的第一SiNx层/第一ZnOx层/第一NiCr层/第一Ag层/第二NiCr层/第一AZO层/第二SiNx层/ZnSnOx层/第二ZnOx层/第三NiCr层/第二Ag层/第四NiCr层/第二AZO层/第三SiNx层组成，所述复合膜层中各膜层的厚度分别为20nm/10nm/1.2nm/6.0nm/1.4nm/14nm/32nm/30nm/18nm/1.4nm/16nm/1.5nm/16nm/30nm。采用以上技术方案后，本专利技术与现有技术相比具有如下优点：本专利技术通过优化膜层结构，使双银Low-E玻璃的复合膜层中含有ZnSnOx层和ZnOx层，该两种材料在钢化过程中，由于受热延展性强，在不减薄金属层和NiCr层厚度的情况下，使钢化后透过率增加，因而也能保证较低的辐射率，本专利技术的可钢化双银Low-E玻璃可以实现透过率≥70％，辐射率≤0.05，从而兼具高透过率和低辐射率的优点。附图说明附图1为本专利技术的结构示意图。其中，100、玻璃基体；200、复合膜层；1、第一SiNx层；2、第一ZnOx层；3、第一NiCr层；4、第一Ag层；5、第二NiCr层；6、第一AZO层；7、第二SiNx层；8、ZnSnOx层；9、第二ZnOx层；10、第三NiCr层；11、第二Ag层；12、第四NiCr层；13、第二AZO层；14、第三SiNx层。具体实施方式下面结合附图及实施例对本专利技术作进一步说明。如图1所示，一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，包括玻璃基体100和镀设于所述玻璃基体100一侧表面的复合膜层200，所述复合膜层200包括自所述玻璃基体100表面朝外依次沉积的第一SiNx层1、第一ZnOx层2、第一NiCr层3、第一Ag层4、第二NiCr层5、第一AZO层6、第二SiNx层7、ZnSnOx层8、第二ZnOx层9、第三NiCr层10、第二Ag层11、第四NiCr层12、第二AZO层13和第三SiNx层14。在本实施例中，第一SiNx层1的厚度为10-30nm，第一ZnOx层2的厚度为1-30nm，第一NiCr层3的厚度为0.1-5nm、第一Ag层4的厚度为0.5-20nm，第二NiCr层5的厚度为0.1-5nm、第一AZO层6的厚度为1-20nm、第二SiNx层7本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low‑E玻璃，包括玻璃基体和镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层，其特征在于：所述复合膜层包括自所述玻璃基体表面朝外依次沉积的第一SiNx层、第一ZnOx层、第一NiCr层、第一Ag层、第二NiCr层、第一AZO层、第二SiNx层、ZnSnOx层、第二ZnOx层、第三NiCr层、第二Ag层、第四NiCr层、第二AZO层和第三SiNx层。

【技术特征摘要】
1.一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，包括玻璃基体和镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层，其特征在于：所述复合膜层包括自所述玻璃基体表面朝外依次沉积的第一SiNx层、第一ZnOx层、第一NiCr层、第一Ag层、第二NiCr层、第一AZO层、第二SiNx层、ZnSnOx层、第二ZnOx层、第三NiCr层、第二Ag层、第四NiCr层、第二AZO层和第三SiNx层。2.根据权利要求1所述的一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，其特征在于：所述复合膜层由自所述玻璃基体表面朝外依次沉积的所述第一SiNx层、所述第一ZnOx层、所述第一NiCr层、所述第一Ag层、所述第二NiCr层、所述第一AZO层、所述第二SiNx层、所述ZnSnOx层、所述第二ZnOx层、所述第三NiCr层、所述第二Ag层、所述第四NiCr层、所述第二AZO层和所述第三SiNx层组成。3.根据权利要求1所述的一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，其特征在于：所述第一ZnOx层的厚度为1-30nm，所述ZnSnOx层的厚度为10-50nm，所述第二ZnOx层的厚度为1-30nm。4.根据权利要求3所述的一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，其特征在于：所述第一ZnOx层的厚度为10-25nm，所述ZnSnOx层的厚度为20-40nm，所述第二ZnOx层的厚度为10-25nm。5.根据权利要求3或4所述的一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，其特征在于：所述第一SiNx层的厚度为10-30nm，所述第一NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第一Ag层的厚度为0.5-20nm，所述第二NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第一AZO层的厚度为1-20nm、所述第二SiNx层的厚度为10-50nm、所述第三NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第二Ag层的厚度为0.5-20nm、所述第四NiCr层的厚度为0.1-5nm、所述第二AZO层的厚度为1-20nm、所述第三SiNx层的厚度为10-50nm。6.根据权利要求5所述的一种高透过率低辐射率的可钢化双银Low-E玻璃，其特征在于：所述第一SiNx层的厚度为15-25nm，所述第一NiCr层的厚度为1-3nm、所述第一Ag层的厚度为5-15nm，所述第二NiCr层的厚度为1-3nm、所述第一AZO层的厚度为5-16nm、所述第二SiNx层的厚度为20-40nm、所述第三NiCr层的厚度为1-3nm、所述第二Ag层的厚度为5-15nm、所述第四NiCr层的厚度为1-3nm、所述第二AZO层的厚度...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋保柱，唐晶，武瑞军，
申请(专利权)人：吴江南玻华东工程玻璃有限公司，中国南玻集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32