基底抛光系统及基底抛光方法技术方案

本公开提供了一种基底抛光系统和使用该基底抛光系统的基底抛光方法，该基底抛光系统包括：抛光机和基底输送器。抛光机包括：下表面板，安装有基底；以及上表面板，面对下表面板并且与下表面板协作抛光基底，上表面板具有比安装在下表面板上的基底的面积大的面积。基底输送器与抛光机相邻，并且在第一方向上将基底输送到抛光机并从抛光机输送基底，基底输送器在抛光基底之前将基底附着到下表面板，并且在抛光基底之后将基底与下表面板分离。

Base polishing system and base polishing method

The present disclosure provides a substrate polishing system and a substrate polishing method using the substrate polishing system. The substrate polishing system comprises a polishing machine and a base conveyor. The polishing machine includes: the lower table panel, the substrate installed, and the upper panel, facing the lower panel and working with the bottom panel to polish the substrate. The upper panel has larger area than the base plate installed on the bottom panel. The base conveyor is adjacent to the polishing machine, and the substrate is transported to the polishing machine in the first direction and transported to the substrate from the polishing machine. The substrate conveyer is attached to the lower panel before polishing the substrate, and the substrate is separated from the lower panel after polishing the substrate.

【技术实现步骤摘要】
基底抛光系统及基底抛光方法本申请要求于2016年8月12日提交的第10-2016-0103305号韩国专利申请的优先权和全部权益，该韩国专利申请的内容通过引用全部包含于此。
本公开涉及一种基底抛光系统和用于使用该基底抛光系统抛光基底的方法。
技术介绍
在用于显示装置的晶体管的有源层中使用的非晶硅具有相对低的作为电荷载流子的电子的迁移率。然而，与由非晶硅制造的薄膜晶体管(“TFT”)相比，显示装置的具有包括多晶硅或由多晶硅制成的有源层的晶体管可以在基底上更容易地实现驱动电路。
技术实现思路
为了相对容易地抛光待处理物体的突起，示例性实施例提供了一种基底抛光系统和使用该基底抛光系统的基底抛光方法。一个示例性实施例提供了一种基底抛光系统，所述基底抛光系统包括：抛光机和基底输送器。抛光机包括：下表面板，安装有基底；以及上表面板，面对下表面板并且与下表面板协作抛光基底，上表面板具有比安装在下表面板上的基底的面积大的面积。基底输送器与抛光机相邻，并且在第一方向上将基底输送到抛光机并从抛光机输送基底，基底输送器在抛光基底之前将基底附着到下表面板，并且在抛光基底之后将基底与下表面板分离。基底抛光系统还可以包括：传送机，在第一方向上与抛光机相邻，并且在与第一方向交叉的第二方向上将基底输送到基底输送器和从基底输送器输送基底。基底输送器可以在第一方向上与传送机和抛光机叠置。抛光机还可以包括：抛光盒，形成设置有下表面板的抛光空间；喷嘴，将浆料供应至抛光空间；以及浆料罐，连接到喷嘴。基底输送器可以包括：支撑框架，在第一方向上与传送机和抛光机叠置，并且包围位于传送机和抛光盒上方的上部空间；移动框架，连接到支撑框架，在第一方向上在传送机与抛光盒之间可移动，并且在与第一方向和第二方向交叉的第三方向上在上部空间与抛光空间之间可移动；移动连接器，将移动框架连接到支撑框架，移动连接器在第一方向上沿支撑框架可移动，并且在第三方向上相对于支撑框架可移动；以及基底保持件，连接到移动框架，并且用基底保持件将基底固定到基底输送器并将基底从基底输送器释放。支撑框架可以包括：第一子框架，在抛光盒的第一侧处在第一方向上从传送机延伸到抛光机；以及第二子框架，在抛光盒的第二侧处在第二方向上与第一子框架分离并在第一方向上从传送机延伸到抛光机，抛光盒的第二侧在第二方向上与抛光盒的第一侧相对。第一子框架和第二子框架可以各自包括导轨，移动连接器在第一方向上沿导轨可移动。移动连接器可以包括：第一部件，在第一方向上沿支撑框架可移动；以及第二部件，连接到第一部件并且在第三方向上相对于支撑框架可移动。基底输送器还可以喷射流体，并且还可以包括：第一喷射器，连接到移动框架并且设置为与基底保持件相邻，第一喷射器在第二方向上相对于移动框架可移动，流体通过第一喷射器能够喷射；以及第二喷射器，连接到支撑框架并设置为与抛光空间中的下表面板相邻，并且在第二方向上相对于支撑框架可移动，流体通过第二喷射器能够喷射。支撑框架可以包括在第二方向上延伸以横跨抛光空间的第三子框架，并且第二喷射器可以连接到第三子框架，并在第二方向上相对于第三子框架可移动。基底输送器还可以包括：海绵，连接到移动框架并且设置为与基底保持件相邻，并且在第二方向和第三方向上相对于移动框架可移动；以及清洗盒，设置在与移动框架连接的海绵之下。基底输送器还可以包括擦拭器，擦拭器连接到移动框架并且设置为与基底保持件相邻，并且在第三方向上相对于移动框架可移动。用于抛光基底的方法包括：由基底输送器将未抛光基底从传送机输送到抛光机的下表面板；由基底输送器将从传送机输送的未抛光基底附着到抛光机的下表面板，基底输送器将未抛光基底从传送机输送到下表面板；通过使用抛光机抛光附着到下表面板的未抛光基底，以形成抛光基底；由基底输送器将使用抛光机抛光的抛光基底与抛光机的下表面板分离，基底输送器输送并附着未抛光基底；由基底输送器将抛光基底从抛光机输送到传送机，基底输送器将抛光基底与下表面板分离；以及由基底输送器清洁抛光机的下表面板，基底输送器从抛光机输送抛光基底。将未抛光基底输送到抛光机的下表面板可以包括将未抛光基底附着到基底输送器的基底保持件上。将未抛光基底附着到抛光机的下表面板可以包括通过基底输送器的海绵将未抛光基底按压到下表面板，基底输送器将未抛光基底从传送机输送到下表面板。所述方法还可以包括通过使用位于海绵之下的清洗盒来清洁将未抛光基底从传送机输送到下表面板的基底输送器的海绵。抛光附着到下表面板的未抛光基底可以包括面对下表面板设置上表面板，并且上表面板与下表面板协作抛光未抛光基底，上表面板具有比未抛光基底大的面积。将抛光基底与下表面板分离可以包括通过输送和附着未抛光基底的基底输送器的第一喷射器和第二喷射器将流体喷射到彼此附着的抛光基底与下表面基底之间的界面。将抛光基底从抛光机输送到传送机可以包括将抛光基底附着到基底输送器的基底保持件，基底输送器将抛光基底与下表面板分离。清洁抛光机的下表面板可以包括通过使用基底输送器的擦拭器擦拭下表面板的表面，基底输送器从抛光机输送抛光基底。根据一个或更多个示例性实施例，为了易于抛光待处理的物体的突起，提供了使用设置有基底保持件、海绵、第一喷射器和第二喷射器以及擦拭器的同一基底输送装置的基底抛光系统以及使用这样的抛光系统的基底抛光方法。附图说明通过参照附图进一步详细地描述本公开的示例性实施例，本公开的上述和其它优点和特征将变得更加明显，在附图中：图1是根据本专利技术的基底抛光系统的示例性实施例的透视图。图2是图1中示出的基底抛光系统的浆料罐的示例性实施例的透视图。图3是图1中示出的基底抛光系统的基底输送装置的示例性实施例的一部分的透视图。图4是图3中示出的基底输送装置的抽吸部件和第一喷射器的示例性实施例的透视图。图5是图3中示出的基底输送装置的海绵和擦拭器的示例性实施例的透视图。图6是图3中示出的基底输送装置的海绵和清洗盒的另一个示例性实施例的透视图。图7是图3中示出的基底输送装置的擦拭器的示例性实施例的透视图。图8是示出根据本专利技术的基底抛光方法的示例性实施例的流程图。图9至图14是说明根据本专利技术的基底抛光方法的示例性实施例的剖视图。具体实施方式将在下文中参照附图更全面地描述本专利技术，附图中示出了本专利技术的示例性实施例。如本领域技术人员将认识到的是，在不脱离本专利技术的精神和范围的情况下，可以以各种不同方式来修改描述的实施例。为了清楚地描述本专利技术，将省略与描述不相关的部分。在整个说明书中，同样的附图标记表示同样的元件将理解的是，当诸如层、膜、区域或基底的元件被称作“在”另一个元件“上”时，该元件可以直接在所述另一元件上，或者也可以存在中间元件。相反，当元件被称作“直接在”另一个元件“上”时，不存在中间元件。如这里使用的，当元件被称作“连接”到另一个元件时，所述连接可以是物理连接、电连接和/或流体连接。将理解的是，尽管在这里可使用术语“第一”、“第二”、“第三”等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受这些术语的限制。这些术语仅用来将一个元件、组件、区域、层或部分与另一个元件、组件、区域、层或部分区分开。因此，在不脱离这里的教导的情况下，下面讨论的“第一元件”、“组件”、“区本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基底抛光系统，所述基底抛光系统包括：抛光机，所述抛光机包括：下表面板，安装有基底；以及上表面板，面对所述下表面板，并且与所述下表面板协作抛光所述基底，所述上表面板具有比安装在所述下表面板上的所述基底的面积大的面积；以及基底输送器，与所述抛光机相邻，并且在第一方向上将所述基底输送到所述抛光机并从所述抛光机输送所述基底，所述基底输送器在抛光所述基底之前将所述基底附着到所述下表面板，并且在抛光所述基底之后将所述基底与所述下表面板分离。

【技术特征摘要】
2016.08.12 KR 10-2016-01033051.一种基底抛光系统，所述基底抛光系统包括：抛光机，所述抛光机包括：下表面板，安装有基底；以及上表面板，面对所述下表面板，并且与所述下表面板协作抛光所述基底，所述上表面板具有比安装在所述下表面板上的所述基底的面积大的面积；以及基底输送器，与所述抛光机相邻，并且在第一方向上将所述基底输送到所述抛光机并从所述抛光机输送所述基底，所述基底输送器在抛光所述基底之前将所述基底附着到所述下表面板，并且在抛光所述基底之后将所述基底与所述下表面板分离。2.根据权利要求1所述的基底抛光系统，所述基底抛光系统还包括：传送机，在所述第一方向上与所述抛光机相邻，并且在与所述第一方向交叉的第二方向上将所述基底输送到所述基底输送器并从所述基底输送器输送所述基底，其中，所述基底输送器在所述第一方向上与所述传送机和所述抛光机叠置。3.根据权利要求2所述的基底抛光系统，其中所述抛光机还包括：抛光盒，形成设置有所述下表面板的抛光空间；喷嘴，将浆料供应至所述抛光空间；以及浆料罐，连接到所述喷嘴。4.根据权利要求3所述的基底抛光系统，其中所述基底输送器包括：支撑框架，在所述第一方向上与所述传送机和所述抛光机叠置，并且包围位于所述传送机和所述抛光盒上方的上部空间；移动框架，连接到所述支撑框架，在所述第一方向上在所述传送机与所述抛光盒之间可移动，并且在与所述第一方向和所述第二方向交叉的第三方向上在所述上部空间与所述抛光空间之间可移动；移动连接器，将所述移动框架连接到所述支撑框架，所述移动连接器在所述第一方向上沿所述支撑框架可移动，并且在所述第三方向上相对于所述支撑框架可移动；以及基底保持件，连接到所述移动框架，并且用所述基底保持件将所述基底固定到所述基底输送器并将所述基底从所述基底输送器释放。5.如权利要求4所述的基底抛光系统，其中所述支撑框架包括：第一子框架，在所述抛光盒的第一侧处在所述第一方向上从所述传送机延伸到所述抛光机；以及第二子框架，在所述抛光盒的第二侧处在所述第二方向上与所述第一子框架分离并在所述第一方向上从所述传送机延...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵玹辰，裴俊和，秋秉权，姜秉薰，千俊赫，崔贞惠，丁荣镐，曹雨辰，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR