低辐射镀膜玻璃和设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种低辐射镀膜玻璃和设备，所述低辐射镀膜玻璃至少包括在玻璃层上依次设置的第一介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层以及第二介质层，所述第一介质层和第二介质层都分别选自Si3N4、TiO、SnO、ZnO或ZnSnO中的任意一种或几种；所述第一阻挡层和第二阻挡层都分别选自Ni、Cr、NiCr或NiCrO中的任意一种或几种；所述功能层为银；所述第一介质层的厚度是15~40nm；所述第一阻挡层的厚度是0.5~10nm；所述功能层的厚度是7~11nm；所述第二阻挡层的厚度是0.5~10nm；所述第二介质层的厚度是25~50nm。本实用新型专利技术所述的低辐射镀膜玻璃具有良好的光学性能以及热学性能。

Low radiation coated glass and equipment

The utility model provides a low-E glass and equipment, the Low-E glass comprises a glass layer at least on the first dielectric layer, a first barrier layer, function layer and a second barrier layer and a second dielectric layer and the first dielectric layer and the second dielectric layer are respectively selected from any Si3N4, TiO, SnO, ZnO or ZnSnO in one or several; the first barrier layer and a second barrier layer are selected from Ni, Cr, NiCr or any NiCrO in one or several of the functional layer; silver; the first dielectric layer thickness is 15~40nm; the first barrier layer thickness is 0.5~10nm; the functional layer thickness is 7~11nm; the second barrier layer thickness is 0.5~10nm; the second dielectric layer thickness is 25~50nm. The low radiation coated glass provided by the utility model has good optical and thermal properties.

【技术实现步骤摘要】
低辐射镀膜玻璃和设备
本专利技术涉及一种镀膜玻璃领域，具体涉及一种低辐射镀膜玻璃和设备。
技术介绍
低辐射镀膜玻璃是指通过磁控真空溅射的方法在玻璃表面镀上由纳米级的氮化物、氧化物膜和具有低辐射率的金属膜等组成的混合膜层。极大的降低了玻璃表面辐射率，其具有一定的光学和热学性能，已经广泛应用在建筑领域。低辐射镀膜玻璃具有传热系数低和反射红外线等特点。由低辐射镀膜玻璃组合而成的中空产品，可见光可有效的透过膜系和玻璃，肉眼看不见的红外线80％以上被膜系反射。随着节能减排政策的倡导，市场对低辐射镀膜玻璃的要求也越来越高，不仅要求其具有良好的光学和热学性能，还要求其美观、对环境友好，不造成光的二次污染。传统的低辐射镀膜玻璃的生产隔离系数低，真空环境差、冷却效率低等问题，会严重影响制备的膜层质量。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种低辐射镀膜玻璃，用于解决现有技术中的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种低辐射镀膜玻璃，所述低辐射镀膜玻璃至少包括在玻璃层上依次设置的第一介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层以及第二介质层，所述第一介质层的厚度是15～40nm，其材料选自Si3N4、TiO、SnO、ZnO或ZnSnO中的任意一种或几种混合；所述第一阻挡层厚度是0.5～10nm，其材料选自Ni、Cr、NiCr或NiCrO中的任意一种或几种混合；所述功能层厚度是7～11nm，含有银；所述第二阻挡层的厚度是0.5～10nm；其材料选自Ni、Cr、NiCr或NiCrO中的任意一种或几种混合；所述第二介质层的厚度是25～50nm；其材料选自Si3N4、TiO、SnO、ZnO或ZnSnO中的任意一种或几种混合。优选地，所述第一介质层的厚度是25～30nm；所述第一阻挡层的厚度是3～10nm；所述功能层的厚度是7～8nm；所述第二阻挡层的厚度是3～5nm；所述第二介质层的厚度是36～40nm。本专利技术的另一方面提供了一种低辐射镀膜玻璃的镀膜段，所述镀膜段至少包括：若干隔离腔室、传输单元、气体隔离单元，阴极靶材、抽真空单元、以及冷却单元；每个所述隔离腔室依次连接，每个所述隔离腔室的顶部设置可打开的盖板；每个所述隔离腔室的内部设置气体隔离单元或者阴极靶材；所述传输单元设置在隔离腔室内的下部并贯通所有隔离腔室；每个装有所述气体隔离单元的隔离腔室上的盖板上设置抽真空装置；安装有所述阴极靶材的隔离腔室内部还设置冷却单元。在本专利技术中所述的镀膜段是磁控溅射设备的主要工作单元，在镀膜段之前和之后还设置一些其他工作单元，例如完整的生产线包括自动上片台，清洗机，传输轨道，进片室、缓冲室、过渡室、镀膜段、过渡室、缓冲室、出片室、传输轨道、自动下片台。优选地，所述气体隔离单元包括横向设置的横向隔板和纵向设置的纵向隔板，所述横向隔板位于传输单元的上方，所述纵向隔板上端达到隔离腔室的顶部，下端达到横向隔板。优选地，所述冷却单元包括设置在第二隔离腔室内下部的冷却水管道，所述冷却水管道与外部水源连通。优选地，所述阴极靶材选自SiAl靶材、TiO靶材、SnAl靶材、ZnAl靶材、ZnSn靶材、AZO靶材、Ni靶材、Cr靶材、NiCr靶材、Ag靶材中的任意一种或几种。如上所述，本专利技术的低辐射镀膜玻璃及其制备方法，具有以下有益效果：在浮法玻璃基板表面制备由多层介质层/阻挡层/功能层Ag/阻挡层/多层介质层组成的膜系结构，使其不仅具有良好的光学和热学性能(U值小于1.5)，还具备美观、对环境友好，不会造成光的二次污染。U值是玻璃组件的传热系数。U值越低，通过玻璃的传热量也越低。附图说明图1显示为本专利技术实施例1的基本结构示意图。图2显示为实施例1中第4个隔离腔室的结构放大图。图3显示为镀膜玻璃的结构示意图。1玻璃101第一介质层102第一阻挡层103功能层104第二阻挡层105第二介质层2第2个隔离腔室3第3个隔离腔室4第4个隔离腔室41盖板42抽真空单元43抽气口44进片口45辊子46T形隔板403纵向隔板404横向隔板7第7个隔离腔室8第8个隔离腔室11第11个隔离腔室13第13个隔离腔室15第15个隔离腔室33第33个隔离腔室34第34个隔离腔室38第38个隔离腔室39第39个隔离腔室具体实施方式以下由特定的具体实施例说明本专利技术的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其他优点及功效。请参阅图1。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本专利技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本专利技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本专利技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本专利技术可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更
技术实现思路
下，当亦视为本专利技术可实施的范畴。实施例1如图1～2所示，本专利技术提供一种用于生产镀膜玻璃的镀膜段，所述用于生产镀膜玻璃的镀膜段包括但不限于：40个隔离腔室、每个隔离腔室采用标准化设计，都是规则的6面体，因此，大小相同，形状一致。每个所述隔离腔室长3900mm，宽900mm，高1000mm。当然，所述隔离腔室的个数是可以根据需要而调节的，其大小和具体的形状也是可以调节的。在其他实施例中，所述隔离腔室共40个，并依次连接，其中第2个隔离腔室2和第3个隔离腔室3、第7个隔离腔室7、第8个隔离腔室8、第11个隔离腔室11、第13个隔离腔室13安装、第15个隔离腔室15、、第18个隔离腔室、第19个隔离腔室、第22个隔离腔室、第23个隔离腔室、第26个隔离腔室、、第28个隔离腔室、第30个隔离腔室、第33个隔离腔室33、第34个隔离腔室34、第38个隔离腔室38、第39个隔离腔室39安装阴极靶材，其余的隔离腔室中安装气体隔离单元。图2显示为其中第4个隔离腔室4的结构示意图。由于其他隔离腔室与其结构类似，因此，可以作为参考。可见每个隔离腔室的下方都设置进片口44。相邻的两个隔离腔室之间还设置抽气口43。所述进片口的面积约为0.07m2，所述抽气孔的面积约为0.24m2。因此相邻的两个隔离腔室通过进片口和抽气口连通。每个隔离腔室的顶部都设置可打开的盖板41，每个所述盖板41大小都相等。优选地，所述盖板和所述隔离腔室之间还设有密封圈，使得密封效果更好。在每个隔离腔室的内部的下部都设置传输单元，因此所述传输单元时贯通所有隔离腔室的，(在最后一个隔离腔室还设置出片口)。在本实施例中，所述传输单元采用的是传输辊道，所述传输辊道包括若干个辊子45，每个辊子都水平的设置在隔离腔室进片口的下方，保证从进片口进来的玻璃能被传输到下一个隔离腔室。在本实施例中，每个隔离腔室的下方安装3个辊子。在其他实施例中，所述传输单元也可以采用传输带。一般的，上述靶材的安装的顺序和个数，是根据所需制备的玻璃而调节的。例如第2和第3个安装的是SiAl靶材，且是连续安装的，但是在其他实施例中可以只安装了一个SiAl靶材，也可以安装更多的SiAl靶材，此时可以不连续本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射镀膜玻璃至少包括在玻璃层上依次设置的第一介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层以及第二介质层，所述第一介质层的厚度是15～40nm，其材料选自Si3N4、TiO、SnO、ZnO或ZnSnO中的任意一种或几种混合；所述第一阻挡层厚度是0.5～10nm，其材料选自Ni、Cr、NiCr或NiCrO中的任意一种或几种混合；所述功能层厚度是7～11nm，含有银；所述第二阻挡层的厚度是0.5～10nm；其材料选自Ni、Cr、NiCr或NiCrO中的任意一种或几种混合；所述第二介质层的厚度是25～50nm；其材料选自Si3N4、TiO、SnO、ZnO或ZnSnO中的任意一种或几种混合。

【技术特征摘要】
1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射镀膜玻璃至少包括在玻璃层上依次设置的第一介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层以及第二介质层，所述第一介质层的厚度是15～40nm，其材料选自Si3N4、TiO、SnO、ZnO或ZnSnO中的任意一种或几种混合；所述第一阻挡层厚度是0.5～10nm，其材料选自Ni、Cr、NiCr或NiCrO中的任意一种或几种混合；所述功能层厚度是7～11nm，含有银；所述第二阻挡层的厚度是0.5～10nm；其材料选自Ni、Cr、NiCr或NiCrO中的任意一种或几种混合；所述第二介质层的厚度是25～50nm；其材料选自Si3N4、TiO、SnO、ZnO或ZnSnO中的任意一种或几种混合。2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质层的厚度是25～30nm；所述第一阻挡层的厚度是3～10nm；所述功能层的厚度是7～8nm；所述第二阻挡层的厚度是3～5nm；所述第二介质层的厚度是36～40nm。3.一种生产如权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃的镀膜段，其特征在于，所述镀膜段至...

【专利技术属性】
技术研发人员：井治，刘锐，张超群，王程，葛治亮，王贝，邓君，
申请(专利权)人：中国建材国际工程集团有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31