一种镀层稳定高导电性真空镀膜件制造技术

本实用新型专利技术公开了一种镀层稳定高导电性真空镀膜件，它涉及镀膜技术技术领域，它包含真空室、抽气管、惰性气体通道、坩埚支架、坩埚、转筒、滚轮凹槽、滚轮、皮带、电机、镀膜件支架、镀膜件固定夹、镀膜件、凹槽和贯穿孔，真空室下侧设有抽气管和惰性气体通道，真空室内侧设有坩埚支架，坩埚支架上设有坩埚，坩埚左右两侧设有转筒，转筒上侧设有滚轮凹槽，滚轮凹槽与滚轮吻合，滚轮通过皮带与电机连接。它采用表面经过处理的镀件，增加镀膜的面积，同时真空镀膜时采用旋转的滚筒，产生气流，将粒子向上带，让其附着在镀件上，防止粒子附着在真空镀膜室内壁上，造成原料的浪费，同时造成了真空镀膜速度的降低。

A coating stabilized high conductivity vacuum coating

The utility model discloses a stable high conductive coating vacuum coating, which relates to the technical field of coating technology, which includes a vacuum chamber, a suction pipe, the inert gas channel, crucible bracket, crucible, drum, roller, roller, groove belt, motor, a bracket, a plating coating, coating, clamp the groove and a through hole is arranged on the lower side of the exhaust pipe, the vacuum chamber and the inert gas channel, the vacuum chamber side is provided with a support bracket is provided with a crucible, crucible crucible, crucible on both sides of a rotating drum, drum is provided with a groove roller, roller groove and roller roller is connected with the motor with belt. It uses the surface after plating processing, increase the coating area, at the same time when the rotary drum vacuum coating, generates air particle to let its belt, attached to the plating part, to prevent the adhesion of particles in the vacuum coating chamber wall, causing the waste of raw materials, at the same time, resulting in lower vacuum coating speed.

【技术实现步骤摘要】
一种镀层稳定高导电性真空镀膜件
：本技术涉及一种镀层稳定高导电性真空镀膜件，属于镀膜

技术介绍
：真空镀膜是将一种物质镀在另一种物质的表面，达到改变这种物质性质的作用，在一些特殊的材料要求时，既能满足要求，又能够降低材料成本，特别是在对导电性能要求比较高的材料上利用真空镀膜镀上一层金子这种高导电性能的金属，能够有效的提高导电性能，同时又降低材料成本。传统在进行增强导电性镀膜时往往采用的是普通镀膜法，被镀膜的物件也是普通物件，这种方法由于镀膜时大部分镀膜粒子会被浪费，从而导致镀膜厚度不够，镀膜时间比较久的个问题，既增加了成本，又降低了材料的性能，因此针对现有技术的不足我们需要进行技术革新。
技术实现思路
：针对上述问题，本技术要解决的技术问题是提供一种镀层稳定高导电性真空镀膜件。本技术的镀层稳定高导电性真空镀膜件，它包含真空室、抽气管、惰性气体通道、坩埚支架、坩埚、转筒、滚轮凹槽、滚轮、皮带、电机、镀膜件支架、镀膜件固定夹、镀膜件、凹槽和贯穿孔，真空室下侧设有抽气管和惰性气体通道，真空室内侧设有坩埚支架，坩埚支架上设有坩埚，坩埚左右两侧设有转筒，转筒上侧设有滚轮凹槽，滚轮凹槽与滚轮吻合，滚轮通过皮带与电机连接，真空室内部顶端设有镀膜件支架，镀膜件支架上设有镀膜件固定夹，镀膜件固定夹上设有镀膜件，镀膜件外侧设有凹槽，镀膜件上设有多个贯穿孔。作为优选，所述的转筒内侧设有扰流扇叶。作为优选，所述的转筒通过大轴承与真空室内壁连接。作为优选，所述的坩埚支架与镀膜件支架之间连接有高压电流。作为优选，所述的电机外侧设有防护罩。本技术的有益效果：它采用表面经过处理的镀件，增加镀膜的面积，同时真空镀膜时采用旋转的滚筒，产生气流，将粒子向上带，让其附着在镀件上，防止粒子附着在真空镀膜室内壁上，造成原料的浪费，同时造成了真空镀膜速度的降低。附图说明：为了易于说明，本技术由下述的具体实施及附图作以详细描述。图1为本技术的结构示意图；图2为本技术的镀膜件截面结构示意图。1-真空室；2-抽气管；3-惰性气体通道；4-坩埚支架；5-坩埚；6-转筒；7-滚轮凹槽；8-滚轮；9-皮带；10-电机；11-镀膜件支架；12-镀膜件固定夹；13-镀膜件；14-凹槽；15-贯穿孔。具体实施方式：如图1和图2所示，本具体实施方式采用以下技术方案：它包含真空室1、抽气管2、惰性气体通道3、坩埚支架4、坩埚5、转筒6、滚轮凹槽7、滚轮8、皮带9、电机10、镀膜件支架11、镀膜件固定夹12、镀膜件13、凹槽14和贯穿孔15，真空室1下侧设有抽气管2和惰性气体通道3，真空室1内侧设有坩埚支架4，坩埚支架4上设有坩埚5，坩埚5左右两侧设有转筒6，转筒6上侧设有滚轮凹槽7，滚轮凹槽7与滚轮8吻合，滚轮8通过皮带9与电机10连接，真空室1内部顶端设有镀膜件支架11，镀膜件支架11上设有镀膜件固定夹12，镀膜件固定夹12上设有镀膜件13，镀膜件13外侧设有凹槽14，镀膜件13上设有多个贯穿孔15。其中，所述的转筒6内侧设有扰流扇叶，这样设置可以产生向上推动的气流，从而能够将镀膜蒸汽，推向镀膜件13，达到最大效率的镀膜。；所述的转筒6通过大轴承与真空室1内壁连接，可以让转筒6转动的更加顺畅；所述的坩埚支架4与镀膜件支架11之间连接有高压电流，可以产生电离去，让离子加快撞击镀膜件13，从而让镀膜层更加稳定；所述的电机10外侧设有防护罩，可以对电机10起到一定的防护作用，防止电机内线路被镀膜影响发生短路损坏。本具体实施方式采用电离镀膜法，同时再镀膜区的两侧加上转筒6，让转筒6转动产生气流，将高导电的镀膜原料离子推向镀膜件13，防止沉积在真空室的内壁上，造成大量的原料浪费，从而降低镀膜速度，和镀膜厚度，同时镀膜件13上设有凹槽14和贯穿孔15加大了镀膜件13的表面积，在通过加快镀膜速度，在镀膜件13的表面多镀膜厚度和镀膜面积都增加的情况下，有效的增加镀膜件13的导电性。以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀层稳定高导电性真空镀膜件，它包含真空室(1)、抽气管(2)、惰性气体通道(3)、坩埚支架(4)、坩埚(5)、转筒(6)、滚轮凹槽(7)、滚轮(8)、皮带(9)、电机(10)、镀膜件支架(11)、镀膜件固定夹(12)、镀膜件(13)、凹槽(14)和贯穿孔(15)，真空室(1)下侧设有抽气管(2)和惰性气体通道(3)，真空室(1)内侧设有坩埚支架(4)，坩埚支架(4)上设有坩埚(5)，坩埚(5)左右两侧设有转筒(6)，转筒(6)上侧设有滚轮凹槽(7)，滚轮凹槽(7)与滚轮(8)吻合，滚轮(8)通过皮带(9)与电机(10)连接，真空室(1)内部顶端设有镀膜件支架(11)，镀膜件支架(11)上设有镀膜件固定夹(12)，镀膜件固定夹(12)上设有镀膜件(13)，镀膜件(13)外侧设有凹槽(14)，镀膜件(13)上设有多个贯穿孔(15)。

【技术特征摘要】
1.一种镀层稳定高导电性真空镀膜件，它包含真空室(1)、抽气管(2)、惰性气体通道(3)、坩埚支架(4)、坩埚(5)、转筒(6)、滚轮凹槽(7)、滚轮(8)、皮带(9)、电机(10)、镀膜件支架(11)、镀膜件固定夹(12)、镀膜件(13)、凹槽(14)和贯穿孔(15)，真空室(1)下侧设有抽气管(2)和惰性气体通道(3)，真空室(1)内侧设有坩埚支架(4)，坩埚支架(4)上设有坩埚(5)，坩埚(5)左右两侧设有转筒(6)，转筒(6)上侧设有滚轮凹槽(7)，滚轮凹槽(7)与滚轮(8)吻合，滚轮(8)通过皮带(9)与电机(10)连接，真空室(1)内部顶端设有镀膜件支架(11)，镀膜件支架(11...

【专利技术属性】
技术研发人员：张建国，
申请(专利权)人：佛山市正一包装材料有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44