多晶硅还原炉电极制造技术

本实用新型专利技术公开一种多晶硅还原炉电极，其包括能与石墨座锥孔配合的锥头，及中心设置有水冷空腔的电极体，所述电极体周围穿套有绝缘套筒且电极体与锥头固定相连，其中电极体与锥头对接相连的一段为连接段；该连接段与锥头外表面均设置有粗化层，所述连接段与锥头粗化层上分别喷涂有结合层，结合层的外表面设置有外涂层。本实用新型专利技术中所述电极体与锥头一体相连，且电极体与锥头相连的一段为连接段，该连接段与锥头外表面均经过喷砂或抛丸形成粗化层，而连接段与锥头的粗化层上还喷涂有结合层，该结合层上设置有外涂层。本实用新型专利技术具有表面硬度高，光洁度高级涂层不易损坏等优点，从而达到电极不易受损等优点。

Polysilicon reduction furnace electrode

The utility model discloses a polysilicon reduction furnace electrode, comprising a conical head with graphite cone seat, and the center is provided with a water-cooled electrode, around the electrode body is sheathed with an insulating sleeve and the electrode body is fixed with a conical head connected to one electrode body is connected with a conical head for docking the connecting section; the connection section and the outer surface of the cone is provided with thick layer, the connection section and the cone head armoring layer respectively coated with a bonding layer, with the outer surface of the layer is arranged on the outer coating. The utility model in the development of the electrode body and the cone head is connected, and the electrode body and the cone head connected to a connecting section, the connection section and the cone outer surface after sandblasting or shot blasting forming armoring layer, and the coarse layer connection section and the cone head is coated with the bonding layer. The combination layer is arranged on the outer coating. The utility model has the advantages of high surface hardness, no easy damage to the high finish coating, and so on, so that the electrode can not be easily damaged, and so on.

【技术实现步骤摘要】
多晶硅还原炉电极
本技术涉及一种多晶硅还原炉电极，按国际专利分类表(IPC)划分属于电极制造及加工

技术介绍
目前，多晶硅生产主要采用改良西门子法工艺，其原理就是在还原炉中采用高压击穿方式使硅芯成为导体，提升电流使硅芯温度快速上升，于1100℃左右的高纯硅芯上用高纯氢还原高纯三氯氢硅，生成多晶硅沉积在硅芯上，生成多晶硅棒。而制备多晶硅的电机棒外表面一般不采用任何镀层，或者仅仅采用化学电镀的方式在电极棒的端处电镀金属银，如公开专利文献CN201320543114.1所公开的一种用于西门子法生产多晶硅的还原电机棒，其利用于电机棒本体表面增加氧化镀层的方式，以防止还原生产中电极棒接触表面的铜氧化。使用电镀工艺中，外表面电镀的银层厚度不能低于0.08mm，该厚度在实际实用过程中会出现脱落及破损的情况，进而导致电极棒导电率的降低，从而在多晶硅的还原生产过程中出现拉弧现象，影响生产。拉弧显现使得电机棒发黑，需经打磨其表面后才能继续使用，但长此以往导致电极棒铜壁变薄，直径变小，甚至在使用中出现打穿漏水的显现，同时直径变小会使其与石墨卡座的接触不良，从而提高生产中拉弧及硅棒倒伏出现的概率，而拉弧出现后电极棒的表面会出现局部灼烧损伤，造成电极棒中铜离子由于电弧发生产生气化并直接影响生产的多晶硅质量，且长期在强酸环境下裸露的筒棒极易被腐蚀，造成成品多晶硅的污染。另，现有的还原电极与还原炉筒之间存在导电现象，导致电极裸铜部分与三氯氢硅、四氯化硅的直接接触，影响产品纯度。因此在现有多晶硅还原炉电极上，如何进一步完善、升级多晶硅还原炉上电极不易被镀层易脱落导致极易腐蚀的同时延长电极使用寿命、提高耐压度并避免多晶硅被污染等是目前超多晶硅还原炉电极结构中研发人员的重要课题之一。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术提供了一种多晶硅还原炉电极，其主要解决现有电极棒电极不易被镀层易脱落导致极易腐蚀等技术问题。为达到上述目的，本技术是通过以下技术方案实现的：多晶硅还原炉电极，其包括能与石墨座锥孔配合的锥头，及中心设置有水冷空腔的电极体，所述电极体周围穿套有绝缘套筒且其与锥头固定相连，其中电极体与锥头对接相连的一段为连接段；该连接段与锥头外表面均设置有粗化层，所述连接段与锥头粗化层上分别喷涂有结合层，结合层的外表面有外涂层，所述外涂层包括第一外涂层及第二外涂层；其中，所述第一外涂层为锥头外围设置导体层，第二外涂层为连接段外围设置由纯陶瓷粉末制成的绝缘层。进一步，所述结合层均为纯银粉末为原料制成的喷涂层。进一步，所述结合层均为纯银粉末与一种或几种陶瓷粉末组合的混合粉末为原料制成的喷涂层。进一步，所述结合层为镍、铝合金任意一种金属材料制成的喷涂层。进一步，所述第一外涂层为纯银粉末为原料制成的喷涂层。进一步，所述第一外涂层为纯银粉末与一种或几种陶瓷粉末组合的混合粉末为原料制成的喷涂层。进一步，所述结合层的厚度范围为3mm～8mm，所述外涂层的厚度范围为0.08mm～0.1mm。进一步，所述结合层的粗度范围为20～40μm，外涂层的粗度范围为48～115μm。进一步，所述粗化层为采用喷砂或抛丸工艺所形成的不规则凹凸层。本技术中所述的连接段与锥头的外表面需要经过粗化处理，而粗化处理可以采用喷砂或抛丸工艺完成，粗化处理的目的是将其外表面的氧化物的细微杂质去除，同能还可以在连接段及锥头的外表面形成凹凸不同的结构，并在粗化后的结构依次设置结合层及外涂层，其中结合层及外涂层使用预热到100℃至1300℃的压缩其他(通常为空气、氮气、氦气或者氩气中的一种或者集中混合气体)，在0.5到5MPa的压力下，通过喷枪适合粒度的原材料粉末告诉冲击连接段及锥头的外表面，使得材料粉末全部或者部分塑性变形，形成一种致密、结合强度高且硬度很高的喷涂层，再对外涂层的外表面进行机加工或者抛光处理，形成尺寸精准且表面光洁度极高的产品。与现有技术相比较，本技术的优点：本技术中所述电极体与锥头一体相连，且电极体与锥头相连的一段为连接段，该连接段与锥头外表面均经过喷砂或抛丸形成粗化层，而连接段与锥头的粗化层上还喷涂有结合层，该结合层上设置有外涂层，其中结合层在能与外涂层实现有效结合的同时还能达到缓冲及吸收力的目的，另，连接段的外涂层采用纯陶瓷粉末进行喷涂得到的一种具有绝缘性能的喷涂层结构，使得电机耐压度达到80KV，同时本新型具有表面硬度高，光洁度高级涂层不易损坏等优点，从而达到电极不易受损等优点。附图说明图1是本技术实施例一结构剖面图；图2是本技术实施例一中V处局部结构放大图；图3是本技术实施例二结构剖面图；图4是本技术实施例二中V处局部结构放大图；图5是本技术实施例三结构剖面图；图6是本技术实施例三中V处局部结构放大图。具体实施方式为使本技术实施的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行更加详细的描述。在附图中，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本技术方案的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术保护范围的限制，下面结合附图对本技术作进一步说明：实施例一：请参阅图1所示，一种多晶硅还原炉电极，其包括能与石墨座锥孔配合的锥头1，及中心设置有水冷空腔的电极体2，所述电极体2周围穿套有绝缘套筒3且电极体2与锥头1固定相连，其中电极体2与锥头1对接相连的一段为连接段21。具体的说：所述锥头1与电极体2一体相连，形成材料为纯铜或不锈钢的一体式结构。请参阅图1所示，前述连接段21与锥头1外表面均设置有粗化层4，所述连接段21与锥头1粗化层4上分别喷涂有结合层5，结合层5的外表面设置有外涂层6。请参阅图1所示，前述粗化层4为采用喷砂或抛丸工艺所形成的不规则凹凸层，且结合层5与粗化层4配合相连。请参阅图1所示，前述连接段21及锥头1处设置的结合层5的厚度范围为3mm～8mm，且结合层5的粗度范围为20～40μm。所述连接段21及锥头1处设置的结合层5可以均为纯银粉末为原料制成的喷涂层，连接段21及锥头1处设置的结合层5也可以均为纯银粉末与一种或几种陶瓷粉末组合的混合粉末为原料制成的喷涂层，连接段21及锥头1处设置的结合层5还可以均为镍、铝合金任意一种金属材料制成的喷涂层。具体的说：所述连接段21及锥头1处设置的结合层5可以均为纯银粉末为原料制成的喷涂层，其中纯银粉的质量百分数为98％～100％；所述连接段21及锥头1处设置的结合层5也可以均为纯银粉末与一种或几种陶瓷粉末组合的混合粉末为原料制成的喷本文档来自技高网...

【技术保护点】
多晶硅还原炉电极，其特征在于：其包括能与石墨座锥孔配合的锥头，及中心设置有水冷空腔的电极体，所述电极体周围穿套有绝缘套筒且其与锥头固定相连，其中电极体与锥头对接相连的一段为连接段；该连接段与锥头外表面均设置有粗化层，所述连接段与锥头粗化层上分别喷涂有结合层，结合层的外表面设置有外涂层，所述外涂层包括第一外涂层及第二外涂层；其中，所述第一外涂层为锥头外围设置导体层，第二外涂层为连接段外围设置由纯陶瓷粉末制成的绝缘层。

【技术特征摘要】
1.多晶硅还原炉电极，其特征在于：其包括能与石墨座锥孔配合的锥头，及中心设置有水冷空腔的电极体，所述电极体周围穿套有绝缘套筒且其与锥头固定相连，其中电极体与锥头对接相连的一段为连接段；该连接段与锥头外表面均设置有粗化层，所述连接段与锥头粗化层上分别喷涂有结合层，结合层的外表面设置有外涂层，所述外涂层包括第一外涂层及第二外涂层；其中，所述第一外涂层为锥头外围设置导体层，第二外涂层为连接段外围设置由纯陶瓷粉末制成的绝缘层。2.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉电极，其特征在于：所述结合...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗文富，黄国良，罗传熙，
申请(专利权)人：厦门佰事兴新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建,35