流延膜电晕处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种流延膜电晕处理装置，包括上机架与下机架、设于上机架与下机架上用于压紧流延膜的传动辊、设于下机架内的电晕触头，所述上机架上设置有用于将上机架与下机架之间的气体抽出的抽气管，所述上机架包括有上密封罩，所述下机架包括下密封罩，所述上密封罩两侧转动设置有上密封辊，所述下密封罩两侧转动设置有用于与上密封辊抵触阻止电晕时产生的气体从上机架与下机架之间泄露的下密封辊，其技术方案要点是通过设上密封辊与下密封辊可以使得上密封罩与下密封罩之间的间隙变小，在一定程度上阻止了电晕时的刺激性气体泄漏。

Corona treatment device for casting film

The utility model discloses a corona treatment device comprises an upper casting film, the frame and the lower frame, is arranged on the frame and the next frame used for pressing cast film rolls and arranged on the lower frame of the corona contacts, which are arranged on the machine frame is used to pump gas between the upper frame and the lower frame out of the the frame includes, on the sealing cover, the lower frame including under sealed cover, the sealing cover is sealed and arranged on both sides of the rotation, the lower sealing cover is rotatably arranged on both sides and between the seal and resistance for gas generated by the corona block from the frame and the frame under the leak the sealing roller, the technical proposal is through a sealing roller and the lower sealing roller can make the sealing cover and lower cover seal gap between the small, to a certain extent prevent irritant gas corona leakage.

【技术实现步骤摘要】
流延膜电晕处理装置
本技术涉及流延膜制造设备，特别涉及一种流延膜电晕处理装置。
技术介绍
流延膜是一种平挤薄膜，是主要的包装复合基材，非常方便后续的印刷、复合等工序。但是未经任何处理的流延膜是不适合印涂的，原因是流延膜的表面非常光滑，表面吸附力低，印涂料容易脱落，所以流延膜在印涂前必需进行电晕处理。电晕处理是利用流延膜作为介质阻挡放电，使流延膜的印涂面形成凹凸不平的表面，以提高其表面吸附力。中国专利公告号为CN206140964U的专利公开了一种电晕装置，包括机体，机体开有供流延膜贯穿机体的送料口，在送料口内设置有电晕触头，机体顶端连接有将空气抽离的抽风管，使用时，流延膜通过送料口进入机体内被电晕触头电晕出来，电晕处理时会产生臭氧等对人体有害的其他，通过抽风管将这些气体抽离，但是，在抽离时，由于为了保证流延膜正常通过，通常送料口较大，所以很大一部分有害气体会从送料口泄露，危害工人身体健康。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种流延膜电晕处理装置，使用时有害气体不易发生泄漏。本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种流延膜电晕处理装置，包括上机架与下机架、分别设于上机架与下机架上用于压紧流延膜的传动辊、设于下机架内的电晕触头，所述上机架上设置有用于将上机架与下机架之间的气体抽出的抽气管，所述上机架包括有上密封罩，所述下机架包括下密封罩，所述上密封罩两侧转动设置有上密封辊，所述下密封罩两侧转动设置有用于与上密封辊抵触阻止电晕时产生的气体从上密封罩与下密封罩之间泄露的下密封辊。通过上述技术方案，使用时，由于在上密封罩上设置有上密封辊，下密封罩上设置有下密封辊，所以当流延膜通过时，先通过上密封辊与下密封辊之间，然后再通过传动辊被电晕触头进行电晕处理，处理完之后又通过上密封辊与下密封辊之间出来进行下一步加工，这样在上密封罩与下密封罩之间将只存在极小的间隙，而且在上密封罩上设置有抽气管源源不断的从上密封罩与下密封罩之间抽出气体，所以这些极小的间隙中将只能够供新的空气通过并进入上密封罩与下密封罩之间，很大程度上减少了电晕时产生的有害气体从上密封罩与下密封罩之间泄露，保障工人安全的工作环境，同时由于上密封辊与下密封辊的存在，使得流延膜进入上密封罩与下密封罩之间时不易被上密封罩与下密封罩刮伤，增加了产品的成品率。优选的，所述上密封辊、下密封辊分别位于上密封罩、下密封罩外，且所述上密封辊、下密封辊分别与上密封罩、下密封罩表面之间的距离为1mm~10mm。通过上述技术方案，为了使得上密封辊与下密封辊的存在不影响电晕的进行，将上密封辊与下密封辊设置在上密封罩与下密封罩外侧，同时使得上密封辊与下密封辊与上密封罩与下密封罩之间的距离保持在1~5mm，就可以控制上密封罩与下密封罩之间的间隙，最大程度上阻止有害气体的泄露。优选的，所述上密封罩与下密封罩上分别设置有用于供外界气体单向进入上机架与下机架之间的单项气阀。通过上述技术方案，由于上密封罩与下密封罩之间的间距较小，所以抽气管在对上机架与下机架进行抽气时，外界的气体不能够从上密封罩与下密封罩之间的间隙快速中进入，就会使得抽气时非常费力，因此在上密封罩与下密封罩上设置有单项气阀，使得外界的气体通过单项气阀快速进入上密封罩与下密封罩中，同时一定程度上避免了上密封罩与下密封罩之间的气体从该处排出。优选的，所述单项气阀包括设置在上密封罩与下密封罩上的多个通气孔、用于将通气孔堵住的密封膜片，所述密封膜片位于上密封罩与下密封罩内部。通过上述技术方案，通过设置通气孔与密封膜片，可以在抽气管抽气时，空气从通气孔中涌入然后推动密封膜片形变，使得外界的气体快速通过通气孔进入上密封罩与下密封罩之间，当内部的空气向外运动时，密封膜片将和上密封罩与下密封罩的侧壁紧贴，使得通气孔被堵住，有效避免的上密封罩与下密封罩之间的气体排出，这样有害气体将从抽气管中被抽走，泄露很少极少，保障工人工作环境安全。优选的，所述密封膜片上设置有用于将密封膜片固定在上密封罩与下密封罩上的固定凸起，所述上密封罩与下密封罩上设置有供固定凸起插入的固定孔。通过上述技术方案，由于密封膜片在工作时需要频繁形变，因此工作时容易损坏，需要按时更换密封膜片，通过在密封膜片上设置有固定凸起，同时在上密封罩与下密封罩上设置有与固定凸起配合的固定孔，就可以方便的固定与更换密封膜片。优选的，所述密封膜片为圆形，所述固定凸起位于密封膜片中心，所述通气孔以固定孔为圆心圆周均布在上密封罩与下密封罩上。通过上述技术方案，为了使得通气孔在工作时可以被密封膜片有效密封，将固定块均布在固定孔周围，同时将固定凸起设置在密封膜片中心，这样密封膜片形变时方便形变，同样对各个通气孔的密封效果均较好。优选的，所述密封膜片从远离固定凸起侧到固定凸起侧其厚度逐渐增加。通过上述技术方案，为了使得密封膜片对通气孔的密封效果更好，同样也使得密封膜片在使用中不易损坏，将密封膜片远离固定凸起侧设置较薄，方便密封膜片形变，也使得密封膜片不易发生翻折，避免了密封膜片失去密封作用。优选的，所述下机架上设置有用于驱动上机架远离下机架的驱动装置。通过上述技术方案，在将流延膜穿过上机架与下机架之间时，通过驱动装置将上机架与下机架之间的距离增大，方便流延膜穿过，穿过后又通过驱动装置使得上机架与下机架靠近，这时传动辊将把流延膜压紧在上机架与下机架之间，方便对流延膜进行电晕处理。优选的，所述驱动装置包括固定在下机架上的驱动气缸，所述驱动气缸的活塞杆与上机架固定连接。通过上述技术方案，驱动气缸工作时操作简单方便，不需要频繁维修，且安装简单方便。综上所述，本技术对比于现有技术的有益效果为：通过在上密封罩两侧设置上密封辊，在下密封罩两侧设置下密封辊，可以使得上密封罩与下密封罩之间的间隙较小，有效阻止电晕产生的有害气体从上密封罩和下密封罩之间的间隙中泄露。附图说明图1为实施例的结构示意图；图2为实施例的半剖视图，主要突出单项气阀与电晕触头的结构；图3为图2中A处的放大视图，主要突出密封膜片的结构；图4为图2中B处的放大视图，主要突出上密封辊、下密封辊的结构。附图标记：1、上机架；2、下机架；3、传动辊；4、电晕触头；5、抽气管；6、上密封罩；7、下密封罩；8、上密封辊；9、下密封辊；10、单项气阀；101、通气孔；102、密封膜片；11、固定凸起；12、固定孔；13、驱动气缸；14、流延膜。具体实施方式以下结合附图对本技术作进一步详细说明。本具体实施例仅仅是对本技术的解释，其并不是对本技术的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本技术的权利要求范围内都受到专利法的保护。如图2、4所示，一种流延膜电晕处理装置，包括上机架1与下机架2、设于上机架1与下机架2上用于压紧流延膜14的传动辊3、设于下机架2内的电晕触头4、设于上机架1上的抽气管5，其中，上机架1包括有上密封罩6，下机架2包括下密封罩7，上密封罩6与下密封罩7将传动辊3与电晕触头4包裹住，在在上密封罩6与下密封罩7之间存在一个供流延膜14穿过的空隙，在空隙两侧即上上密封罩6与下密封罩7上分别设置有上密封辊8与下密封辊9，上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种流延膜电晕处理装置，包括上机架(1)与下机架(2)、分别设于上机架(1)与下机架(2)上用于压紧流延膜(14)的传动辊(3)、设于下机架(2)内的电晕触头(4)，所述上机架(1)上设置有用于将上机架(1)与下机架(2)之间的气体抽出的抽气管(5)，其特征是：所述上机架(1)包括有上密封罩(6)，所述下机架(2)包括下密封罩(7)，所述上密封罩(6)两侧转动设置有上密封辊(8)，所述下密封罩(7)两侧转动设置有用于与上密封辊(8)抵触阻止电晕时产生的气体从上密封罩(6)与下密封罩(7)之间泄露的下密封辊(9)。

【技术特征摘要】
1.一种流延膜电晕处理装置，包括上机架(1)与下机架(2)、分别设于上机架(1)与下机架(2)上用于压紧流延膜(14)的传动辊(3)、设于下机架(2)内的电晕触头(4)，所述上机架(1)上设置有用于将上机架(1)与下机架(2)之间的气体抽出的抽气管(5)，其特征是：所述上机架(1)包括有上密封罩(6)，所述下机架(2)包括下密封罩(7)，所述上密封罩(6)两侧转动设置有上密封辊(8)，所述下密封罩(7)两侧转动设置有用于与上密封辊(8)抵触阻止电晕时产生的气体从上密封罩(6)与下密封罩(7)之间泄露的下密封辊(9)。2.根据权利要求1所述的流延膜电晕处理装置，其特征是：所述上密封辊(8)、下密封辊(9)分别位于上密封罩(6)、下密封罩(7)外，且所述上密封辊(8)、下密封辊(9)分别与上密封罩(6)、下密封罩(7)表面之间的距离为1mm~10mm。3.根据权利要求1所述的流延膜电晕处理装置，其特征是：所述上密封罩(6)与下密封罩(7)上分别设置有用于供外界气体单向进入上机架(1)与下机架(2)之间的单项气阀(10)。4.根据权利要求3所述的流延膜电晕处理装置，其特征是：所述单项气阀(10)包括设置在上密封罩(6)与下密...

【专利技术属性】
技术研发人员：张强，
申请(专利权)人：天津市利好卫生材料有限公司，
类型：新型
国别省市：天津,12