快速查找和修正版图数据中异常图形的方法技术

本发明专利技术公开了一种快速查找和修正版图数据中异常图形的方法，包含：步骤一、解析版图数据，根据设计规则将查找到的异常图形进行编码；步骤二、根据编码，对于各个异常图形进行坐标值提取、层次信息提取、单元体名称提取并进行数据存储；步骤三、将版图中的异常图形进行特征扫描，判断是否符合自动化修正的标准，如符合则进行自动处理，如不符合则以报错信息输出相应的提示，以便人工进行判断和修正版图；步骤四、对于步骤三修正后的数据再次进行分析，输出结果。如本次版图数据中未查找到任何异常图形，则判定为数据异常图形检查合格，否则判定为数据异常图形检查不合格。

A method for fast finding and correcting abnormal patterns in the layout data

The invention discloses a method, a fast way to find abnormal graphics and modify the layout data contains: step one, according to the analysis of layout data, design rules will find abnormal graphics encoding; step two, according to the encoding, for various abnormal graphics coordinates extraction, hierarchical information extraction, extraction and unit name data storage; step three, the layout of the abnormal graphics feature scan, to determine whether the standard automatic correction, such as the automatic processing, such as does not comply with the corresponding output prompt with error information, so that manual and modified layout judgment; step four, step three for the data again analysis of the output results. If no abnormal graph is found in the layout data, it is judged that the data abnormal graph is qualified, otherwise it will be unqualified for data abnormal graph examination.

【技术实现步骤摘要】
快速查找和修正版图数据中异常图形的方法
本专利技术涉及半导体制造领域，特别是指一种快速查找和修正版图数据中异常图形的方法。
技术介绍
在客户版图数据检查的过程中，会碰到许多复杂的结构设计。受EDA(电子设计自动化)工具所限，无法有效地对这些异常图形进行处理，所以一般在数据处理前时，就预先进行检查和判断，可以避免异常图形的流出。其中self-intersectingpath(自相交的图形)就是一个很好的例子：EDA工具在进行DRC(DesignRuleCheck)时，无法识别此类path，导致后续数据在进行EB(层次演算)后，此类图形可能会丢失。这个方法不同于以往目视检查的方法，而是将此类数据图形的特征进行编码，实现自动化查找。一，禁用图形是如何产生的？画版图时，我们会调用PCELL(参数化单元)来提高效率，而PCELL是通过直接计算点的坐标生成的，所以在当各个点的坐标运算异常的情况下，错误就会出现。自动版图设计工具，一些自动化的版图工具在布局布线时也会产生一些禁用图形。禁用图形包括一些path点的坐标过于集中、自相交的path、宽度为零的path、封闭的path、锐角path以及一些具有重叠线的path。二，版图数据中为什么要禁用某些图形？1.有不能被EDA软件识别的可能性：很多禁用图形不能被EB(层次运算)处理软件所读取，尤其是一些比较老的工具，如Silver。2.处理结果的不确定性：EB处理软件对一些禁用图形有两种不同的处理方法，不同的设置，会导致处理结果的不同，所以最好的方法是不要出现这些图形，做到源头控制。3.MaskShop(光罩厂)的诉求：目前我们已将局大多数工艺的EB(层次运算)转移到MaskShop来操作，但沟通时他们提出数据中不要出现这些图形。也是同样出于异常图形可能丢失而导致光罩制版错误带来的风险。4.图形丢失：造成掩模板重新制版，比如在两个0.35μm工艺产品光罩制版后发现禁用图形丢失，可能会造成多块mask重做，对线上客户产品的交货日期造成了很大的延误。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种快速查找和修正版图数据中异常图形的方法，可预先进行检查和判断，避免异常图形的流出。为解决上述问题，本专利技术所述的快速查找和修正版图数据中异常图形的方法，包括如下的步骤：步骤一、解析版图数据，根据设计规则将查找到的异常图形进行编码；步骤二、根据编码，对于各个异常图形进行坐标值提取、层次信息提取、单元体名称提取并进行数据存储；步骤三、对版图中的异常图形进行特征扫描，然后与后台数据库中存储的设计规则信息进行比较，判断是否符合自动化修正的标准；如符合则进行自动处理，如不符合则以报错信息输出相应的提示，以便人工进行判断和修正版图；步骤四、对于修正后的数据再次进行分析，输出结果；如本次版图数据中未查找到任何异常图形，则判定为数据异常图形检查合格，否则判定为数据异常图形检查不合格。进一步地，所述步骤一中，设计规则是指已经定义并存储用作比对样本的几种异常图形。进一步地，所述步骤三中，输出的提示包含错误类型、存储的异常图形坐标值、层次信息、单元体名称。进一步地，所述步骤三中，自动处理包括：对于无意义的异常图形会进行自动过滤，对于有意义的图形并存在自动处理后不确定情况的，不进行自动修正而是改为输出异常报错，进行人工判断，从而保证设计数据的真实要求。进一步地，若本方法进行步骤一时未查找到任何异常图形，则标识数据OK，不再进行后续步骤。本专利技术所述的快速查找和修正版图数据中异常图形的方法，将现有的人工检查或不检查更新换代为机器自动检查，从而大大提高了工作效率，并且避免了出错数据的流出。附图说明图1是异常图形示例。图2是本专利技术方法步骤图。具体实施方式本专利技术所述的快速查找和修正版图数据中异常图形的方法，包括如下的步骤：步骤一，解析版图数据，根据设计规则将查找到的异常图形时进行编码，如TypeA1，TypeB2,TypeC3等，所述设计规则指已经定义的几种异常图形，如图1所示。如未查找到任何异常图形，则标识数据OK，不进行后续步骤。步骤二，根据编码，对于各种异常图形进行坐标提取、层次信息提取，单元体名提取等。步骤三，将后台数据库中设置的异常图形信息与第2步得到实际版图中的异常信息进行比较，如符合规则(即满足可自动化修正)的就进行处理，否则将异常图形的所有信息通过输出报错信息(比如LOG，日志文件)的方式，提醒用户进行人工判断和修正。输出的提示包含错误类型、存储的异常图形坐标值、层次信息、单元体名称等。步骤四，对于第3步中进行人工修正的数据重新进行特征扫描，如版图中全部图形符合设计规则的，判定为异常图形检查合格；否则，判定为异常图形检查不合格。常见的异常图形如图1所示，图1中(a)所示是一种oneverticepath，即path的点的坐标都集中于一点，这种图形没有任何物理意义，不能被EDA工具所读取，所以自动修正时直接过滤掉此类图形。如图1中(b)所示，是一种zerowidthpath，宽度等于0的path，这种图形没有任何物理意义，所以自动修正时直接过滤掉此类图形。如图1中(c)所示，是一种twistedpath，EDA工具在对这种图形进行DRC(设计规则)检查时，无法识别此类path，在进行EB处理后，此类图形会丢失。如流出该错误，会造成光掩膜板实际损失，所以自动检查时采取异常报错，提醒用户进行版图修改。如图1中(d)所示，是一种shortsegmentpath，使用EDA工具对这种图形进行处理后可能会产生两种不同的结果，其中结果1的path与实际版图不符，为避免此类问题发生，所以自动检查时采取异常报错，提醒用户在版图上进行修改。如图1中(e)所示，是一种closepath，左侧实际版图图形经过EDA工具处理后会变成右侧图形，中间有被切割掉的情况，所以自动检查时采取异常报错，提醒用户进行版图修改。如图1中(f)所示，是一种acutepath,实际画的版图为锐角path，经过EB处理后，会生成两种不同的结果。结果1本身不符合设计要求，结果2虽然将角度进行圆化，但毕竟修动了原图形，前后差异大，所以自动检查时采取异常报错，提醒用户进行版图修改。如图1中(f)所示，是一种spikepath，版图中出现具有重叠线的path，EDA工具在对上述图形进行DRC检查时，无法识别此类path，在进行EB处理后，此类图形可能会丢失。如流出该错误，会造成光刻掩膜板的损失，所以自动检查时采取异常报错，提醒用户进行版图修改。以上仅列举了一些比较常见的异常图形，但实际应用环境中，碰到的异常图形远不止此处列举的几种。本申请的方法优点还在于，本领域技术人员完全可通过改变算法规则来灵活实现更复杂的异常图形的检查要求，可以实现命令行模式，无图形界面，以文本形式输出结果，人工参与度低，输出结果定位准确，使错误率大幅降低。以上仅为本专利技术的优选实施例，并不用于限定本专利技术。对于本领域的技术人员来说，本专利技术可以有各种更改和变化。凡在本专利技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种快速查找和修正版图数据中异常图形的方法，其特征在于：包含如下的步骤：步骤一、解析版图数据，根据设计规则将查找到的异常图形进行编码；步骤二、根据编码，对于各个异常图形进行坐标值提取、层次信息提取、单元体名称提取并进行数据存储；步骤三、对版图中的异常图形进行特征扫描，然后与后台数据库中存储的设计规则信息进行比较，判断是否符合自动化修正的标准；如符合则进行自动处理，如不符合则以报错信息输出相应的提示，以便人工进行判断和修正版图；步骤四、对于修正后的数据再次进行分析，输出结果；如本次版图数据中未查找到任何异常图形，则判定为数据异常图形检查合格，否则判定为数据异常图形检查不合格。

【技术特征摘要】
1.一种快速查找和修正版图数据中异常图形的方法，其特征在于：包含如下的步骤：步骤一、解析版图数据，根据设计规则将查找到的异常图形进行编码；步骤二、根据编码，对于各个异常图形进行坐标值提取、层次信息提取、单元体名称提取并进行数据存储；步骤三、对版图中的异常图形进行特征扫描，然后与后台数据库中存储的设计规则信息进行比较，判断是否符合自动化修正的标准；如符合则进行自动处理，如不符合则以报错信息输出相应的提示，以便人工进行判断和修正版图；步骤四、对于修正后的数据再次进行分析，输出结果；如本次版图数据中未查找到任何异常图形，则判定为数据异常图形检查合格，否则判定为数据异常图形检查不合格。2.如权利要求1所述的快速查找和修正版图数据中异常图形的方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：张燕荣，张兴洲，
申请(专利权)人：上海华虹宏力半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31