一种显示面板、其制作方法及显示装置制造方法及图纸

技术编号:17035600 阅读:23 留言:0更新日期:2018-01-13 20:59
本发明专利技术公开了一种显示面板、其制作方法及显示装置,该显示面板,包括:衬底基板,以及依次设置于衬底基板之上的底栅膜层、有源膜层和顶栅膜层,其中,底栅膜层的图形与有源膜层的图形在衬底基板上的正投影具有第一重叠区域;顶栅膜层的图形与有源膜层的图形在衬底基板上的正投影具有第二重叠区域;第一重叠区域和第二重叠区域不完全重叠;有源膜层由金属氧化物材料构成,在有源膜层指向衬底基板的方向上,有源膜层中氧空穴的浓度呈增大的趋势。本发明专利技术实施例提供的显示面板,具有至少两种不同类型的TFT器件,不同类型的TFT器件具有不同的阈值电压,从而可以提高显示面板的工作稳定性和可靠性。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板、其制作方法及显示装置
本专利技术涉及显示
,尤指一种显示面板、其制作方法及显示装置。
技术介绍
薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT)为显示装置的各种电路中的重要部件,已广泛应用于液晶显示器(LiquidCrystalDisplay,LCD)和有机电致发光(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)中。薄膜晶体管的常见结构包括:底栅型(Backchannel,BCE),刻蚀阻挡型(Etchstopper,ESL),以及顶栅型(Topgate)等类型。新一代薄膜晶体管技术中以铟镓锌氧化物(indiumgalliumzincoxide,IGZO)等金属氧化物材料作为有源层的材料。现有技术中,整面显示面板上的金属氧化物TFT的特性均为同一水平,即显示面板上的TFT具有大致相同的阈值电压,而在显示面板正常工作时,不同功能的电路中的TFT长期处在不同的偏压作用,因而不同功能的TFT的阈值电压漂移方向不同,例如,像素电路的TFT长期处于栅极正电压作用,即长期处于正向偏置(PBTS)状态,使得TFT的阈值电压正向漂移(shift),而扫描电路中的TFT受栅极负电压的作用,长期处于下拉状态,即长期处于负向偏置(NBTS),使得TFT的阈值电压负向漂移。因此,在相同水平的阈值电压下,很难保证所有的TFT器件都能正常工作。此外,在显示器件出厂前,需要进行高温高湿环境的可靠性评估(RA),而金属氧化物TFT的高温稳定性(BiasThermalStress,BTS)比非晶硅(a-Si)和低温多晶硅(LowTemperaturePoly-silicon,LTPS)TFT较差,高温高湿的可靠性评估成为金属氧化物TFT量产的技术难点,而OLED器件相比于LCD器件,电路更加复杂,TFT晶体管更多,高温高湿的环境下器件的可靠性更难以保证。然而,现有技术中,不能有效的调节金属氧化物TFT的阈值电压,如果整面显示面板上的TFT的阈值电压为同一水平,尤其在经过高温高湿的可靠性评估以后,很难保证所有的TFT器件(例如开关管或输出管等)都能正常工作。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置,用以解决现有技术中存在的不能有效的调节金属氧化物TFT的阈值电压,导致不能保证所有的TFT器件都能正常工作的问题。第一方面,本专利技术实施例提供了一种显示面板,包括:衬底基板,以及依次设置于所述衬底基板之上的底栅膜层、有源膜层和顶栅膜层,其中,所述底栅膜层的图形与所述有源膜层的图形在所述衬底基板上的正投影具有第一重叠区域;所述顶栅膜层的图形与所述有源膜层的图形在所述衬底基板上的正投影具有第二重叠区域;所述第一重叠区域和所述第二重叠区域不完全重叠;所述有源膜层由金属氧化物材料构成,在所述有源膜层指向所述衬底基板的方向上,所述有源膜层中氧空穴的浓度呈增大的趋势。第二方面,本专利技术实施例提供了一种显示面板的制作方法,包括:在衬底基板上形成底栅膜层;采用金属氧化物材料在所述底栅膜层之上形成有源膜层;对所述有源膜层进行补氧处理,以使所述有源膜层中氧空穴的浓度,在所述有源膜层指向所述衬底基板的方向上呈增大的趋势;在所述有源膜层之上形成顶栅膜层;其中,所述底栅膜层的图形与所述有源膜层的图形在所述衬底基板上的正投影具有第一重叠区域;所述顶栅膜层的图形与所述有源膜层的图形在所述衬底基板上的正投影具有第二重叠区域;所述第一重叠区域和所述第二重叠区域不完全重叠。第三方面,本专利技术实施例还提供了一种显示面板,包括:上述显示面板。在一种可能的实现方式中,在本专利技术实施例提供的中,本专利技术有益效果如下:本专利技术实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置,该显示面板,包括:衬底基板,以及依次设置于衬底基板之上的底栅膜层、有源膜层和顶栅膜层,其中,底栅膜层的图形与有源膜层的图形在衬底基板上的正投影具有第一重叠区域;顶栅膜层的图形与有源膜层的图形在衬底基板上的正投影具有第二重叠区域;第一重叠区域和第二重叠区域不完全重叠;有源膜层由金属氧化物材料构成,在有源膜层指向衬底基板的方向上,有源膜层中氧空穴的浓度呈增大的趋势。本专利技术实施例提供的显示面板,由于共用同一层有源膜层,且第一重叠区域和第二重叠区域不完全重合,因而具有至少两种不同类型的TFT器件,例如顶栅型TFT和底栅型TFT,而且,在有源膜层指向衬底基板的方向上,有源膜层中氧空穴的浓度呈增大的趋势,因而使不同类型的TFT器件具有不同的阈值电压,从而可以提高显示面板的工作稳定性和可靠性。附图说明图1a为本专利技术实施例提供的显示面板的截面示意图之一;图1b为本专利技术实施例提供的显示面板的俯视图之一;图2a为本专利技术实施例提供的显示面板的截面示意图之二;图2b为本专利技术实施例提供的显示面板的俯视图之二;图3a为本专利技术实施例提供的显示面板的截面示意图之三;图3b为本专利技术实施例提供的显示面板的俯视图之三;图4a为本专利技术实施例提供的显示面板的截面示意图之四;图4b为本专利技术实施例提供的显示面板的俯视图之四;图5a为本专利技术实施例提供的有机电致发光显示面板的结构示意图;图5b为本专利技术实施例提供的有机电致发光显示面板的截面示意图;图5c为补入的氧原子的浓度与有源膜层的深度之间的关系示意图;图6a为VSR电路中9T2C结构的连接关系示意图;图6b为VSR电路中9T2C结构的时序图;图7a和图7b分别为本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法的流程图;图8a~图8j为本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法的结构示意图;图9为本专利技术实施例提供的显示装置的结构示意图;其中,101、衬底基板;102、底栅膜层;103、有源膜层;104、顶栅膜层;105、第一绝缘层;106、第二绝缘层;107、源漏极层;108、第三绝缘层;201、第一重叠区域;202、第二重叠区域;203、阳极层;204、像素限定层;205、阴极层。具体实施方式针对现有技术中存在的不能有效的调节金属氧化物TFT的阈值电压,导致不能保证所有的TFT器件都能正常工作的问题,本专利技术实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置。下面结合附图,对本专利技术实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例,目的只是示意说明本
技术实现思路
。本专利技术实施例提供了一种显示面板,如图1a~4b所示,包括:衬底基板101,以及依次设置于衬底基板101之上的底栅膜层102、有源膜层103和顶栅膜层104,其中,底栅膜层102的图形与有源膜层103的图形在衬底基板101上的正投影具有第一重叠区域201;顶栅膜层104的图形与有源膜层103的图形在衬底基板101上的正投影具有第二重叠区域202;第一重叠区域201和第二重叠区域202不完全重叠;有源膜层103由金属氧化物材料构成,在有源膜层103指向衬底基板101的方向上,有源膜层103中氧空穴的浓度呈增大的趋势。本专利技术实施例提供的显示面板中,由于共用同一层有源膜层103,且第一重叠区域201和第二重叠区域202不完全重合,因而具有至少两种不同类型的TFT器件,例如顶栅型TFT和底栅型TFT,而且,在有源膜层103指向衬底基板101的方向上,有源膜层103中氧空本文档来自技高网
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一种显示面板、其制作方法及显示装置

【技术保护点】
一种显示面板,其特征在于,包括:衬底基板,以及依次设置于所述衬底基板之上的底栅膜层、有源膜层和顶栅膜层,其中,所述底栅膜层的图形与所述有源膜层的图形在所述衬底基板上的正投影具有第一重叠区域;所述顶栅膜层的图形与所述有源膜层的图形在所述衬底基板上的正投影具有第二重叠区域;所述第一重叠区域和所述第二重叠区域不完全重叠;所述有源膜层由金属氧化物材料构成,在所述有源膜层指向所述衬底基板的方向上,所述有源膜层中氧空穴的浓度呈增大的趋势。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:衬底基板,以及依次设置于所述衬底基板之上的底栅膜层、有源膜层和顶栅膜层,其中,所述底栅膜层的图形与所述有源膜层的图形在所述衬底基板上的正投影具有第一重叠区域;所述顶栅膜层的图形与所述有源膜层的图形在所述衬底基板上的正投影具有第二重叠区域;所述第一重叠区域和所述第二重叠区域不完全重叠;所述有源膜层由金属氧化物材料构成,在所述有源膜层指向所述衬底基板的方向上,所述有源膜层中氧空穴的浓度呈增大的趋势。2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一重叠区域和所述第二重叠区域不重叠;位于所述第一重叠区域的所述底栅膜层与所述有源膜层构成底栅结构,位于所述第二重叠区域的所述顶栅膜层与所述有源膜层构成顶栅结构。3.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一重叠区域和所述第二重叠区域部分重叠;在所述第一重叠区域与所述第二重叠区域的重叠区域中,所述底栅膜层、所述有源膜层以及顶栅膜层构成双栅结构;在与所述第二重叠区域不重叠的所述第一重叠区域中,所述底栅膜层和所述有源膜层构成底栅结构;在与所述第一重叠区域不重叠的所述第二重叠区域中,所述顶栅膜层和所述有源膜层构成顶栅结构。4.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,在所述有源膜层指向所述衬底基板的方向上,所述有源膜层中氧空穴的浓度在一定深度范围内呈均匀分布而后逐渐增大。5.如权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述一定深度范围为6.如权利要求1~5任一项所述的显示面板,其特征在于,所述有源膜层的厚度在1~100nm范围内。7.如权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄静敬费强
申请(专利权)人:上海天马有机发光显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:上海,31

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