【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术属于日用化工
,是一种高性能清除污垢用的膏状物及其制备工艺。一些物体表面由于长时间使用,或者由于环境影响,往往产生污垢,锈斑等,既不卫生,又不雅观。目前,通常使用的膏状去污剂对积污或生锈时间较短,或者对软性污垢,有较好的清除效果,但对一些硬性污垢往往无能为力。此外,通常的膏状去污剂一般以脂肪酸的皂化材料作基质,因而合成需要在加温条件下进行。其中的抗沉淀剂均用价格较高的有机类“尼诺尔”或高分子类的“聚乙二醇”等,因而生产工艺较为复杂,成本也较高。本专利技术的目的在于提供一种对软硬污垢均有良好清除效果、工艺简单、成本低廉的无机去污膏及其工艺。本专利技术提出的去污膏由活性剂及其助剂、磨擦剂、抗沉淀剂、增稠剂等基本成份组成,其中活性剂采用通常的烷基苯磺酸,助剂采用三聚磷酸钠,增调剂采用羧甲基纤维素钠,磨擦剂采用方解石粉,抗沉淀剂选用硫酸和硅酸钠的混合浆料。本专利技术采用方解石粉作为磨擦剂,提高了去污膏的去污力。由于方解石与活性剂两者比重悬殊,因此选用本专利技术的抗沉淀剂,抗沉淀效果就比较理想。而且这些材料场为无机物,价格比较便宜。本专利技术中各种成份可采用如下重量配比(设总量为100):烷基苯磺酸:1.5-3.0 三聚磷酸钠:2.0-3.5羧甲基纤维素钠:0.5-1.5 方解石粉:20-35硫酸(98%含量):0.8-2.0 硅酸钠(40Be′):6-15-->液体石蜡(工业级):0.8-1.5 液体烧碱(含量40%):0.8-1.5去离子水:加至100根据需要,去污膏中还可加入适量防腐剂和芳香剂。本专利技术提出的制备工艺如下:1、将液体烧 ...
【技术保护点】
一种用于清除污垢的膏状物,由活性剂及其助剂、靡擦剂、抗沉淀剂、增稠剂等基本成份组成,所说的活性剂采用烷基苯磺酸,其助剂采用三聚磷酸钠,增稠剂采用羧甲基纤维素钠,其特征在于上述的磨擦剂采用方解石粉,抗沉淀剂采用硫酸和硅酸钠混合浆料。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1、一种用于清除污垢的膏状物,由活性剂及其助剂、磨擦剂、抗沉淀剂、增稠剂等基本成份组成,所说的活性剂采用烷基苯磺酸,其助剂采用三聚磷酸钠,增稠剂采用羧甲基纤维素钠,其特征在于上述的磨擦剂采用方解石粉,抗沉淀剂采用硫酸和硅酸钠混合浆料。2、根据权利要求1所述的用于清除污垢的膏状物,其特征在于各组份的重量配比如下(设总量为100):烷基苯磺酸:1.5-3.0 三聚磷酸钠:2.0-3.5羧甲基纤维素钠:0.5-1.5 方解石粉:20-35硫酸(98%含量):0.8-2.0 硅酸钠(40Be′):6-15液体...
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