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去污膏及其工艺制造技术

技术编号:1696954 阅读:203 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术是一种高效去污膏,由活性剂、摩擦剂、抗沉淀剂,增稠剂等基本成分组成,其中活性剂采用烷基苯磺酸,增稠剂采用羧甲基纤维素钠,磨擦剂采用方解石粉,抗沉淀剂选用硫酸和硅酸钠的混合浆料。各种成分经一定处理后在均质机中搅拌,至均匀混合。本发明专利技术与通常的同类产品相比,去污力强,可用于物体表面各种污垢的清除,尤其可用于油泥、锈斑等硬性污垢的清除,而且制备可在常温常压下进行,工艺简单,成本低廉。(*该技术在2012年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术属于日用化工
,是一种高性能清除污垢用的膏状物及其制备工艺。一些物体表面由于长时间使用,或者由于环境影响,往往产生污垢,锈斑等,既不卫生,又不雅观。目前,通常使用的膏状去污剂对积污或生锈时间较短,或者对软性污垢,有较好的清除效果,但对一些硬性污垢往往无能为力。此外,通常的膏状去污剂一般以脂肪酸的皂化材料作基质,因而合成需要在加温条件下进行。其中的抗沉淀剂均用价格较高的有机类“尼诺尔”或高分子类的“聚乙二醇”等,因而生产工艺较为复杂,成本也较高。本专利技术的目的在于提供一种对软硬污垢均有良好清除效果、工艺简单、成本低廉的无机去污膏及其工艺。本专利技术提出的去污膏由活性剂及其助剂、磨擦剂、抗沉淀剂、增稠剂等基本成份组成,其中活性剂采用通常的烷基苯磺酸,助剂采用三聚磷酸钠,增调剂采用羧甲基纤维素钠,磨擦剂采用方解石粉,抗沉淀剂选用硫酸和硅酸钠的混合浆料。本专利技术采用方解石粉作为磨擦剂,提高了去污膏的去污力。由于方解石与活性剂两者比重悬殊,因此选用本专利技术的抗沉淀剂,抗沉淀效果就比较理想。而且这些材料场为无机物,价格比较便宜。本专利技术中各种成份可采用如下重量配比(设总量为100):烷基苯磺酸:1.5-3.0  三聚磷酸钠:2.0-3.5羧甲基纤维素钠:0.5-1.5  方解石粉:20-35硫酸(98%含量):0.8-2.0  硅酸钠(40Be′):6-15-->液体石蜡(工业级):0.8-1.5  液体烧碱(含量40%):0.8-1.5去离子水:加至100根据需要,去污膏中还可加入适量防腐剂和芳香剂。本专利技术提出的制备工艺如下:1、将液体烧碱用去离子水稀释,然后与烷基苯磺酸一起搅匀,PH值控制在8-10之间;2、将硫酸逐渐加入硅酸钠内,并进行搅拌,控制PH值在5.5~6.5之间,待结晶淅出,滤去废液;3、将羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠分别用去离子水溶解,将方解石粉与液体石蜡混合或不混合;4、然后将上述各种配备好的组份加入均质机中,在常温常压下搅拌,至均匀混合。本专利技术由于不须皂化基质,基活性剂的去污作用明显改进,而且采用了磨擦剂,去污时,表面渗透与磨擦相结合,故去污力大为提高。本专利技术的活性剂虽然较少,但其表面硬污垢去污力超过现有粉状或液体去污材料。本专利技术中磨擦剂、抗沉淀剂价格都比较便宜,而且可在常温常压下制备,工艺简单,节省能源,成本降低。此外,本专利技术不含任何有机溶剂,所以产品不燃烧,不挥发,不异味,无刺激性,使用十分安全。可有效地去除物体表面的各种污垢,尤其可清除硬化的油泥、顽固的锈斑等。同时对金属物表面还有一定的抛光作用,对于工业和民用均适合。实施例:各组份用量见附表。根据需要,在制备时可加入适量防腐剂尼泊金乙酯,适量的芳香剂皂用香精。制备过程如下:用去离子水总量的50%将液体烧碱稀释,再与烷基苯磺酸进一步搅匀,将PH值控制在8-10;将硫酸缓缓加入硅酸钠内,并进行搅拌,使PH值控制在5.5~6.5之间,待结晶淅出,用100目左右的尼龙筛过滤,滤去残液;用去离子水总量的-->30%溶解羧甲基纤维素钠,用去离子水总量的20%溶解三聚磷酸钠,把方解石粉与液体石蜡混合;然后将上述各种配备好的组份加入均质机中,并加入适量尼泊金乙酯和皂用香精,在常温常压下搅拌约一小时,至均匀混合,出料,装瓶。上述3例的组份的去污膏均可由上述工艺流程制备。例1的去污膏稠度略低,例2的去污膏稠度适中,例3的去污膏稠度较高,对物体表面污垢均能有效清除。附表成份(总量为100)例1例2例3烷基苯磺酸1.72.22.7三聚磷酸钠2.22.83.0羧甲基纤维素钠0.811.2方解石粉223033硫酸(含量98%)0.91.31.5硅酸钠(40Be′)7813液体石蜡(工业级)0.811.3液体烧碱(含量40%)0.811.4去离子水至100至100至100本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于清除污垢的膏状物,由活性剂及其助剂、靡擦剂、抗沉淀剂、增稠剂等基本成份组成,所说的活性剂采用烷基苯磺酸,其助剂采用三聚磷酸钠,增稠剂采用羧甲基纤维素钠,其特征在于上述的磨擦剂采用方解石粉,抗沉淀剂采用硫酸和硅酸钠混合浆料。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1、一种用于清除污垢的膏状物,由活性剂及其助剂、磨擦剂、抗沉淀剂、增稠剂等基本成份组成,所说的活性剂采用烷基苯磺酸,其助剂采用三聚磷酸钠,增稠剂采用羧甲基纤维素钠,其特征在于上述的磨擦剂采用方解石粉,抗沉淀剂采用硫酸和硅酸钠混合浆料。2、根据权利要求1所述的用于清除污垢的膏状物,其特征在于各组份的重量配比如下(设总量为100):烷基苯磺酸:1.5-3.0  三聚磷酸钠:2.0-3.5羧甲基纤维素钠:0.5-1.5  方解石粉:20-35硫酸(98%含量):0.8-2.0  硅酸钠(40Be′):6-15液体...

【专利技术属性】
技术研发人员:王金娥
申请(专利权)人:王金娥
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]

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