The present invention describes a method for making a solar cell with a passivation layer and a solar cell. In one example, the solar cell includes a substrate with a first surface and a second surface. A plurality of emission regions are set on the first surface of the substrate and are separated from each other. The amorphous silicon passivation layer is arranged on each emitter region of the plurality of emitter poles, and between the emitter regions in the plurality of emitter poles, directly located on the exposed part of the first surface of the substrate.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】太阳能电池钝化层
本公开的实施例属于可再生能源领域,并且具体地讲,涉及制造具有钝化层的太阳能电池的方法,以及所得太阳能电池。
技术介绍
光伏电池(常被称为太阳能电池)是熟知的用于将太阳辐射直接转换为电能的装置。一般来讲,使用半导体加工技术在半导体基板的表面附近形成p-n结,从而在半导体晶片或基板上制造太阳能电池。照射在基板表面上并进入基板内的太阳辐射在基板块体中形成电子和空穴对。电子和空穴对迁移至基板中的p掺杂区和n掺杂区,从而在掺杂区之间产生电压差。将掺杂区连接至太阳能电池上的导电区,以将电流从电池引导至与其耦接的外部电路。效率是太阳能电池的重要特性,因其直接与太阳能电池发电能力有关。同样,制备太阳能电池的效率直接与此类太阳能电池的成本效益有关。因此,提高太阳能电池效率的技术或提高制造太阳能电池效率的技术是普遍需要的。本公开的一些实施例允许通过提供制造太阳能电池结构的新工艺而提高太阳能电池的制造效率。本公开的一些实施例允许通过提供新型太阳能电池结构来提高太阳能电池效率。附图说明图1A-1D示出了根据本公开实施例的太阳能电池制造中的各个阶段的剖视图,其中:图1A示出了太阳能电池制造中的一个阶段的剖视图,其涉及在所述基板的第一表面上形成多个发射极区;图1B示出了在多个发射极区中的每个发射极区上方以及在多个发射极区中的各发射极区之间形成非晶硅钝化层之后的图1A的结构的剖视图;图1C示出了在所述非晶硅钝化层上形成氮化硅层之后的图1B的结构的剖视图;以及图1D示出了在形成连接到多个发射极区的多个导电触点之后的图1C的结构的剖视图;图2A-2B示出了根据本公开的另一 ...
【技术保护点】
一种太阳能电池,包括:基板,具有第一表面和第二表面;多个发射极区,设置在所述基板的所述第一表面上并且彼此隔开;非晶硅钝化层,设置在所述多个发射极区中的每个发射极区上以及在所述多个发射极区中的各发射极区之间,直接位于所述基板的所述第一表面的暴露部分上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.27 US 14/672,0721.一种太阳能电池,包括:基板,具有第一表面和第二表面;多个发射极区,设置在所述基板的所述第一表面上并且彼此隔开;非晶硅钝化层,设置在所述多个发射极区中的每个发射极区上以及在所述多个发射极区中的各发射极区之间,直接位于所述基板的所述第一表面的暴露部分上。2.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中,所述基板为轻掺杂的N型单晶基板,所述基板的所述第一表面的暴露部分处的磷掺杂浓度大约在1E14-1E16原子每立方厘米的范围内。3.根据权利要求2所述的太阳能电池,其中所述非晶硅钝化层为本征非晶硅层。4.根据权利要求3所述的太阳能电池,其中所述本征非晶硅层的总组分具有的总氢浓度大约在总膜组分的5-30原子百分比的范围内。5.根据权利要求3所述的太阳能电池,其中所述本征非晶硅层的厚度大约在3-15纳米的范围内。6.根据权利要求1所述的太阳能电池,还包括:设置在所述非晶硅钝化层上的一个氮化硅层,所述氮化硅层的厚度大约在30-100纳米的范围内。7.根据权利要求6所述的太阳能电池,还包括:电连接到所述多个发射极区的相应发射极区的多个导电触点,所述多个导电触点穿过所述氮化硅层和所述非晶硅钝化层而形成。8.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中所述太阳能电池为背接触太阳能电池,所述第一表面是所述基板的背面,所述第二表面是所述基板的光接收表面,以及所述多个发射极区是多个交替N型和P型多晶硅发射极区,其均设置于所述基板的所述第一表面上所设置的薄介电层上。9.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中所述多个发射极区是多个N型多晶硅发射极区,所述太阳能电池还包括:多个P型发射极区,设置在所述基板的所述第二表面上并且彼此隔开;第二非晶硅钝化层,设置在所述多个P型发射极区中的每个发射极区上方以及在所述多个P型发射极区中的各发射极区之间,直接位于所述基板的第二表面的暴露部分上。10.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中所述多个发射极区中的每个发射极区通过设置在所述基板的所述第一表面中的多个沟槽彼此隔开,其中所述非晶硅钝化层设置在所述多个沟槽中。11.一种太阳能电池,包括:基板,具有第一表面和第二表面;多个发射极区,设置在所述基板的所述第一表面上并且彼此隔开;介电层,设置在所述多个发射极区中的每个发射极区上以及在所述多个发射极区中的各发射极区之间,直接位于所述基板的所述第一表面的暴露部分上;以及非晶硅钝化层,设置在所述介电层上。12.根据权利要求11所述的太阳能电池,其中,所述基板为N型单晶基板,所述基板第一表面的暴露部分处的的磷掺杂浓度大约在1E18-1E20原子每立方厘米的范围内。13.根据权利要求12所述的太阳能电池,其中,所述非晶硅钝化层是选自由本征非晶硅层、N型非晶硅层和P型非晶硅层组成的组的层。14.根据权利要求13所述的太阳能电池,其中所述非晶硅钝化层的总组分的总氢浓度大约在总膜组分的...
【专利技术属性】
技术研发人员:林承笵,戴维·D·史密斯,迈克尔·C·约翰逊,克里斯廷·布尔特·西蒙斯,
申请(专利权)人:太阳能公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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