皮肤放射性沾染的无水去污胶制造技术

本发明专利技术公开一种皮肤放射性沾染的无水去污胶，包括去污粉、乙二胺四乙酸二钠、柠檬酸、六偏磷酸钠、胶水、少许普鲁士蓝和超氧化物岐化酶，它能快速有效地去除各种核素造成的皮肤放射性沾染，尽可能地降低其对皮肤的刺激及毒性作用，同时改变了去污方法和程序，以最少的固体量快速地、最大限度地包容绝大部分皮肤表面的放射性沾染物，从而减少去污过程中放射性废水的产生量，同时使后续去污过程中产生的固体污染物的放射性比活度达到放射性物质的豁免水平。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种皮肤放射性沾染的无水去污胶，主要由下列重量配比的成分制成：（１）去污粉１．８－２．２％（２）乙二胺四乙酸二钠０．３－０．５％（３）柠檬酸０．２－０．５％（４）六偏磷酸钠０．２－０．５％ （５）胶水９６．３－９７．５％。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：符荣初，宋妙发，
申请(专利权)人：苏州大学放射医学研究所，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]