一种适用于硅片的抛光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种适用于硅片的抛光装置。它解决了现有刻蚀机采用“水上漂”的刻蚀方式，随着生产的进行，液面上方会有酸雾存在，对硅片上表面的PN结会产生影响等技术问题。本适用于硅片的抛光装置，包括机架，机架上固定有槽体，槽体内固定有支架，支架上设置有用于输送硅片的输送辊，机架上设置有水膜喷淋机构，水膜喷淋机构包括升降板、安装条、转轴、输水管、水箱和辅助板，升降板设置在机架上，升降板与一能带动其上下升降的升降结构相连，转轴水平设置在升降板上，安装条固定在转轴上，输水管固定在安装条上，输水管一端为封闭端，输水管另一端通过连接管和水箱相连通，连接管上还设置有水泵。本实用新型专利技术具有产品质量稳定的优点。

A polishing device suitable for silicon wafer

The utility model provides a polishing device suitable for silicon wafer. It solves the problem of etching machine adopts \etching float\, with the production of a mist will exist above the liquid surface, the surface of silicon PN junction will affect other technical problems. This applies to the silicon wafer polishing device, which comprises a frame body, a fixing frame, a bracket is fixed in the groove, the bracket is provided with a feeding roller for conveying wafer, the frame is provided with a water spraying mechanism, water spray mechanism comprises a lifting plate, a rotating shaft, and install water pipes, water tank and the auxiliary board. The lifting plate is arranged on the frame, and a lifting plate can drive the lifting of the lifting structure is arranged on the lifting shaft horizontal plate, the mounting strip is fixed on the rotary shaft, the water pipe is fixed on the installation of a water pipe, one end is closed end, water pipe connecting pipe and a water tank are connected through the other end. The connecting pipe is also provided with a water pump. The utility model has the advantages of stable quality of the product.

【技术实现步骤摘要】
一种适用于硅片的抛光装置
本技术属于太阳能电池
，涉及一种抛光装置，特别是一种适用于硅片的抛光装置。
技术介绍
传统多晶太阳能电池的生产工序主要为：制绒、扩散、湿法刻蚀、PE镀膜、印刷背面电极、烘干、印刷背面电场、烘干、印刷正面电极、烧结和测试分选。硅片在经过扩散工序过程中，即使采用背靠背的方式进行扩散，硅片的表面及边缘都将不可避免的扩散上磷，电池的边缘就会有N型杂质与P型基底形成PN结，以及扩散的过程中在电池表面形成的磷硅玻璃层(PSG)。PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到PN结的背面，造成短路，降低并联电阻，因此，需要周边刻蚀将边缘的PN结去除，而磷硅玻璃则通过HF短时间浸泡去除。经检索，如中国专利文献公开了一种湿法刻蚀机【申请号：201320194314.0；公开号：CN203179850U】。这种湿法刻蚀机，包括内置有注液装置的刻蚀槽和与所述刻蚀槽通过挡板分隔的溢流槽，所述注液装置的侧壁开设有注液孔；其特征在于，还包括导气管，所述导气管的进气口设置于所述注液装置的腔体内，且位于所述注液孔的上方，所述导气管的出气口设置于所述刻蚀槽内。该专利中公开的刻蚀机虽然能够减少气泡的产生，避免气泡飞溅，但是，该刻蚀机采用“水上漂”的刻蚀方式，随着生产的进行，液面上方会有酸雾存在，对硅片上表面的PN结会产生影响，因此，设计出一种适用于硅片的抛光装置是很有必要的。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种适用于硅片的抛光装置，该抛光装置具有产品质量稳定的特点。本技术的目的可通过下列技术方案来实现：一种适用于硅片的抛光装置，包括机架，其特征在于，所述机架上固定有槽体，槽体内固定有支架，支架上设置有用于输送硅片的输送辊，机架上设置有水膜喷淋机构，水膜喷淋机构包括升降板、安装条、转轴、输水管、水箱和辅助板，升降板设置在机架上，升降板与一能带动其上下升降的升降结构相连，转轴水平设置在升降板上，转轴端部与一能带动其转动的伺服电机相连，安装条固定在转轴上，输水管固定在安装条上，且输水管位于槽体正上方，输水管一端为封闭端，输水管另一端通过连接管和水箱相连通，连接管上还设置有水泵，输水管侧部连接有若干喷头，且喷头的出水孔向下，辅助板上端通过连杆和升降板相连，辅助板下端和挡水片上端相连，挡水片下端具有若干导流孔，辅助板下端还开设有集水槽，集水槽和回水管一端相连通，回水管另一端和水箱相连通。本技术的工作原理如下：通过升降结构使升降板上下移动，升降板使安装条上下移动，安装条带动输水管上下移动，输水管带动喷头上下移动，使喷头位于所需的工作高度，控制伺服电机的输出轴转动，伺服电机的输出轴带动转轴转动，转轴带动安装条转动，安装条带动输水管转动，输水管带动喷头转动，使喷头位于所需的工作角度，开启水泵，通过连接管将水箱中的水输送到输水管中，喷头将水喷洒在硅片上表面，通过挡水片对硅片上表面的水膜进行抹平，多余的水被收集在集水槽内，通过回水管送回到水箱中，使水膜均匀的覆盖在硅片上表面，由于水膜的保护作用，硅片上表面不会和槽体内的溶液接触，可避免过刻的出现，产品质量稳定。所述升降结构包括安装架、导杆、导套、齿轮、齿条和步进电机，安装架固定在机架上，导杆竖直固定在安装架上，导套设置在导杆上，升降板固定在导套上，齿条竖直固定在安装架上，步进电机固定在导套上，步进电机的输出轴水平设置，齿轮固定在步进电机的输出轴端部，且齿轮与齿条相啮合。当需要使升降板上下移动时，控制步进电机的输出轴转动，步进电机的输出轴带动齿轮转动，齿轮与齿条逐渐啮合使导套沿着导杆上下移动，导套带动升降板上下移动，从而可使升降板上下移动。所述导流孔呈倒V形。采用以上结构，通过导流孔可时水通过后向两侧流动，导流效果好。所述升降板上具有指示结构，指示结构包括指针和指示环，指示环固定在安装条上，指示环上具有角度线，指针固定在升降板上，且指针指向指示环。当喷头转动时，指示环也可以跟着转动，通过指针指向指示环，可快速获知喷头所处的工作角度，指示方便。所述机架上还具有控制水泵动作的控制组件，控制组件包括控制器和光电传感器，光电传感器通过定位杆固定在升降板上，且光电传感器的检测部朝下，控制器固定在机架上，光电传感器和水泵通过线路均与该控制器相连。采用以上结构，光电传感器检测到有硅片经过，光电传感器将信号传递给控制器，控制器控制水泵工作，智能化程度高。所述升降板上还固定有能将输水管罩住的阻挡罩。与现有技术相比，本适用于硅片的抛光装置具有以下优点：1、本技术中通过步进电机使喷头位于所需的工作高度，通过伺服电机使喷头位于所需的工作角度，开启水泵，通过连接管将水箱中的水输送到输水管中，喷头将水喷洒在硅片上表面，通过挡水片对硅片上表面的水膜进行抹平，多余的水被收集在集水槽内，由于水膜的保护作用，硅片上表面不会和槽体内的溶液接触，可避免过刻的出现，产品质量稳定。2、导流孔呈倒V形，采用该结构，通过导流孔可使水通过后向两侧流动，导流效果好。3、光电传感器检测到有硅片经过，光电传感器将信号传递给控制器，控制器控制水泵工作，智能化程度高。附图说明图1是本技术的立体结构示意图。图2是本技术拆去部分的立体结构示意图。图3是本技术拆去部分的平面结构示意图。图中，1、机架；2、控制器；3、槽体；4、光电传感器；5、定位杆；6、连杆；7、升降板；8、支架；9、输送辊；11、水箱；12、回水管；13、输水管；14、喷头；15、挡水片；15a、导流孔；16、辅助板；16a、集水槽；17、伺服电机；18、安装条；19、转轴；20、连接管；21、水泵；22、导套；23、导杆；24、齿条；25、步进电机；26、齿轮；27安装架。具体实施方式以下是本技术的具体实施例并结合附图，对本技术的技术方案作进一步的描述，但本技术并不限于这些实施例。如图1-图3所示，本适用于硅片的抛光装置，包括机架1，机架1上固定有槽体3，在本实施例中，机架1上通过螺栓连接的方式固定有槽体3；槽体3内固定有支架8，在本实施例中，槽体3内通过螺栓连接的方式固定有支架8；支架8上设置有用于输送硅片的输送辊9，在本实施例中，输送辊9的数量为三十根，且驱动输送辊9转动采用的是现有技术；机架1上设置有水膜喷淋机构，水膜喷淋机构包括升降板7、安装条18、转轴19、输水管13、水箱11和辅助板16，升降板7设置在机架1上，升降板7与一能带动其上下升降的升降结构相连，转轴19水平设置在升降板7上，转轴19端部与一能带动其转动的伺服电机17相连，在本实施例中，伺服电机17固定在升降板7上，转轴19端部和伺服电机17的输出轴相连；安装条18固定在转轴19上，在本实施例中，安装条18通过焊接的方式固定在转轴19上；输水管13固定在安装条18上，在本实施例中，输水管13通过螺栓连接的方式固定在安装条18上；且输水管13位于槽体3正上方，输水管13一端为封闭端，输水管13另一端通过连接管20和水箱11相连通，连接管20上还设置有水泵21，输水管13侧部连接有若干喷头14，在本实施例中，喷头14的数量为九个；且喷头14的出水孔向下，辅助板16上端通过连杆6和升降板7相连，辅助板16下端和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种适用于硅片的抛光装置，包括机架，其特征在于，所述机架上固定有槽体，槽体内固定有支架，支架上设置有用于输送硅片的输送辊，机架上设置有水膜喷淋机构，水膜喷淋机构包括升降板、安装条、转轴、输水管、水箱和辅助板，升降板设置在机架上，升降板与一能带动其上下升降的升降结构相连，转轴水平设置在升降板上，转轴端部与一能带动其转动的伺服电机相连，安装条固定在转轴上，输水管固定在安装条上，且输水管位于槽体正上方，输水管一端为封闭端，输水管另一端通过连接管和水箱相连通，连接管上还设置有水泵，输水管侧部连接有若干喷头，且喷头的出水孔向下，辅助板上端通过连杆和升降板相连，辅助板下端和挡水片上端相连，挡水片下端具有若干导流孔，辅助板下端还开设有集水槽，集水槽和回水管一端相连通，回水管另一端和水箱相连通。

【技术特征摘要】
1.一种适用于硅片的抛光装置，包括机架，其特征在于，所述机架上固定有槽体，槽体内固定有支架，支架上设置有用于输送硅片的输送辊，机架上设置有水膜喷淋机构，水膜喷淋机构包括升降板、安装条、转轴、输水管、水箱和辅助板，升降板设置在机架上，升降板与一能带动其上下升降的升降结构相连，转轴水平设置在升降板上，转轴端部与一能带动其转动的伺服电机相连，安装条固定在转轴上，输水管固定在安装条上，且输水管位于槽体正上方，输水管一端为封闭端，输水管另一端通过连接管和水箱相连通，连接管上还设置有水泵，输水管侧部连接有若干喷头，且喷头的出水孔向下，辅助板上端通过连杆和升降板相连，辅助板下端和挡水片上端相连，挡水片下端具有若干导流孔，辅助板下端还开设有集水槽，集水槽和回水管一端相连通，回水管另一端和水箱相连通。2.根据权利要求1所述的适用于硅片的抛光装置，其特征在于，所述升降结构包括安装架、导杆、导套、齿轮、齿条和步进电机，安装架固定...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱金浩，蒋剑波，朱世杰，许布，陈珏荣，
申请(专利权)人：浙江光隆能源科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33