一种下置式高效光敏印章机制造技术

本发明专利技术公开了一种下置式高效光敏印章机，包括机箱，所述机箱内部设置有一端开口的曝光腔，曝光腔内部底板上设置有四组呈方形布局的气缸，所述气缸之间设置有灯管，相对平行侧边上的两组气缸上端固定设置有滑轨，两组所述滑轨对称布置，且两组滑轨之间设置有滑板，所述滑板上表面设置有凹槽，凹槽内部设置有定位模板，所述机箱内部的曝光腔顶面固定设置有压模板，所述压模板位于滑板的正上方，且定位模板位于压模板的正投射阴影内。该种下置式高效光敏印章机通过采用下置式曝光结构，增大曝光腔的内部空间省去夹具抽屉结构，采用抽拉滑板结构并采用定位模板便于进行定位操作，大大提高刻章效率，提高成品率和降低能耗。

【技术实现步骤摘要】
一种下置式高效光敏印章机
本专利技术涉及一种印章机，具体为一种下置式高效光敏印章机，属于办公用品加工领域。
技术介绍
光敏印章机(俗称光敏刻章机人像印章机婚庆印章雕刻机)光敏印章作为目前国际上最新型的一种印章，以其制作简单快捷，印章清晰，使用寿命长，适用性强，在我国得以迅速推广，成为我国印章行业升级换代产品。随着公安部标准GA241.9--2000的颁布实施，光敏印章机已被认定为符合标准的首选印章机。现有的光敏印章机采用夹具抽屉式结构，曝光灯管位于曝光腔上方，这种结构，刻章效率低一次仅能刻章一到两枚，而且不易控制打印的印章图案位于光敏垫的中间范围，导致废品率较高，因此我们提出一种下置式高效光敏印章机。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种下置式高效光敏印章机，为了解决上述技术问题，本专利技术提供了如下的技术方案：本专利技术一种下置式高效光敏印章机，包括机箱，所述机箱内部设置有一端开口的曝光腔，曝光腔内部底板上设置有四组呈方形布局的气缸，所述气缸之间设置有灯管，相对平行侧边上的两组气缸上端固定设置有滑轨，两组所述滑轨对称布置，且两组滑轨之间设置有滑板，所述滑板上表面设置有凹槽，凹槽内部设置有定位模板，所述机箱内部的曝光腔顶面固定设置有压模板，所述压模板位于滑板的正上方，且定位模板位于压模板的正投射阴影内。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述定位模板上均布排列设置有多组卡槽，且卡槽贯通定位模板。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述滑板与滑轨连接的两侧面上设置有T型槽，所述滑轨上设置有滑条，所述滑板通过T型槽与滑条面接触连接在滑轨上。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述滑板靠近曝光腔开口的一侧边上设置有拉杆，且拉杆一端外露于机箱的外部。本专利技术所达到的有益效果是：通过采用下置式曝光结构，增大曝光腔的内部空间省去夹具抽屉结构，采用抽拉滑板结构并采用定位模板便于进行定位操作，大大提高刻章效率，提高成品率和降低能耗。附图说明附图用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本专利技术的实施例一起用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1是本专利技术一种下置式高效光敏印章机的总装结构示意图；图2是本专利技术一种下置式高效光敏印章机的A-A截面结构示意图；图3是本专利技术一种下置式高效光敏印章机的定位模板结构示意图。图中：1-机箱；2-压模板；3-滑板；4-拉杆；5-滑轨；6-气缸；7-滑条；8-定位模板；9-卡槽。具体实施方式以下结合附图对本专利技术的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。实施例1如图1-3所示，一种下置式高效光敏印章机，包括机箱1，所述机箱1内部设置有一端开口的曝光腔，曝光腔内部底板上设置有四组呈方形布局的气缸6，所述气缸6之间设置有灯管，相对平行侧边上的两组气缸6上端固定设置有滑轨5，两组所述滑轨5对称布置，且两组滑轨5之间设置有滑板3，滑板3采用钢化透明玻璃，所述滑板3上表面设置有凹槽，凹槽内部设置有定位模板8，所述机箱1内部的曝光腔顶面固定设置有压模板2，所述压模板2位于滑板3的正上方，且定位模板8位于压模板2的正投射阴影内。本实施例中，所述定位模板8上均布排列设置有多组卡槽9，且卡槽9贯通定位模板8，便于进行定位放置光敏垫，所述滑板3与滑轨5连接的两侧面上设置有T型槽，所述滑轨5上设置有滑条7，所述滑板3通过T型槽与滑条7面接触连接在滑轨5上，抽拉式便于放料取料操作，所述滑板3靠近曝光腔开口的一侧边上设置有拉杆4，且拉杆4一端外露于机箱1的外部，便于抽拉操作。本专利技术工作流程和优点：该种下置式高效光敏印章机，刻章时用拉杆4将滑板3抽出，先将打印好图案的硫酸纸放置在凹槽最下层，有字面向上，在平铺一层聚酯膜，然后将定位模板8放置在最上层，卡槽9对准硫酸纸上的图案，将光敏垫放置在卡槽9内，然后将滑板3推进曝光腔，气缸6通电工作，将滑板3向上顶起与压模板2接触压紧，启动设备曝光，结束后气缸6断电复位，将滑板3与压模板2分离，并将滑板3再次抽出取出光敏垫即可，通过采用下置式曝光结构，增大曝光腔的内部空间省去夹具抽屉结构，采用抽拉滑板3结构并采用定位模板8便于进行定位操作，大大提高刻章效率，提高成品率和降低能耗。最后应说明的是：以上所述仅为本专利技术的优选实施例而已，并不用于限制本专利技术，尽管参照前述实施例对本专利技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本专利技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种下置式高效光敏印章机，包括机箱(1)，其特征在于：所述机箱(1)内部设置有一端开口的曝光腔，曝光腔内部底板上设置有四组呈方形布局的气缸(6)，所述气缸(6)之间设置有灯管，相对平行侧边上的两组气缸(6)上端固定设置有滑轨(5)，两组所述滑轨(5)对称布置，且两组滑轨(5)之间设置有滑板(3)，所述滑板(3)上表面设置有凹槽，凹槽内部设置有定位模板(8)，所述机箱(1)内部的曝光腔顶面固定设置有压模板(2)，所述压模板(2)位于滑板(3)的正上方，且定位模板(8)位于压模板(2)的正投射阴影内。

【技术特征摘要】
1.一种下置式高效光敏印章机，包括机箱(1)，其特征在于：所述机箱(1)内部设置有一端开口的曝光腔，曝光腔内部底板上设置有四组呈方形布局的气缸(6)，所述气缸(6)之间设置有灯管，相对平行侧边上的两组气缸(6)上端固定设置有滑轨(5)，两组所述滑轨(5)对称布置，且两组滑轨(5)之间设置有滑板(3)，所述滑板(3)上表面设置有凹槽，凹槽内部设置有定位模板(8)，所述机箱(1)内部的曝光腔顶面固定设置有压模板(2)，所述压模板(2)位于滑板(3)的正上方，且定位模板(8)位于压模板(2)的正投射阴...

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：张宇涛，
类型：发明
国别省市：广东,44