图形匹配方法组成比例

本发明专利技术提供一种图形匹配方法，包括：建立图形库，输入待匹配的原始图形；对所述待匹配的原始图形进行相似度检查；若所述待匹配的原始图形与图形库图形通过相似度检查，对所述待匹配的原始图形进行精确图形匹配。本发明专利技术中，能够将原有全局式的精确图形匹配转化为局部式的图形精确匹配，不影响匹配的最终结果，其中的图形的相似度判断由计算机自动实现，大大提升了图形匹配的效率。

Graphic matching method

The present invention provides a method for matching a graphic, including: the establishment of graphics library, input the original graphics matching; original graphics matching the similarity check; if the matching of the original graphics and graphics library graphics by similarity checking, the exact pattern matching the original graphics to be matched to the. In the invention, it can transform the old global exact graphics matching into the local pattern exact matching, and does not affect the final result of matching. The similarity judgement of the graph is automatically realized by the computer, which greatly improves the efficiency of graph matching.

【技术实现步骤摘要】
图形匹配方法
本专利技术涉及光刻
，尤其涉及一种图形匹配方法。
技术介绍
随着集成电路生产工艺进入亚波长技术节点，由于设计变得更加复杂，使用分辨率增强技术修复光刻工艺热点变得更加困难。为了解决这个问题，设计者在产品流片前必须对版图设计中的光刻工艺热点进行检测。因此，光刻工艺热点检查成为可制造性设计中的一项重要技术。然而半导体技术节点的不断深入，流片中产生的光刻工艺热点的数量变得越来越庞大，检查速度变得越来越慢。在大量的版图数据中快速的定位出光刻缺陷图形对产品的快速导入市场有重大的实际意义。图1所示为现有的传统的图形匹配技术流程。流程包括：首先对先前的Tapeout中认定为缺陷热点图形结构建立热点图形库；输入需要在集成电路版图设计原始版图设计数据，接着对原始区域划分，把这些划分好的区域交由不同的处理器同时启动图形匹配引擎；把原始版图设计图形中能匹配上缺陷图形库的图形区域作为结果输出；整个图形匹配的过程为全局过程，浪费大量时间在于启动搜索引擎去匹配那些明显不相似的热点图形区域。现有的图形库匹配技术为全局式的版图热点匹配，匹配数据量大，时间很长。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种图形匹配方法，解决现有技术中图形匹配数据量大、耗时长的技术问题。为了实现上述目的，本专利技术一种图形匹配方法，包括：建立图形库，输入待匹配的原始图形；对所述待匹配的原始图形进行相似度检查；若所述待匹配的原始图形与图形库图形通过相似度检查，对所述待匹配的原始图形进行精确图形匹配。可选的，对所述待匹配的原始图形进行相似度检查的步骤包括：分别对所述图形库图形与待匹配的原始图形进行二进制编码，产生对应的编码方阵；比较所述图形库图形的编码方阵与所述待匹配图形的编码方阵，筛选出所述图形库图形与所述待匹配图形相似的区域。可选的，对所述图形库图形与待匹配的原始图形进行二级制编码的步骤包括：格点化图形，计算格点内图形的密度；若格点密度大于0，则二进制编码设为1，否则设为0，所有格点的二进制编码值组成对应的编码方阵；将所述待匹配的原始图形格点化编码方阵定义为AMN，将所述图形库图形定义为BIJ。可选的，所述待匹配的原始图形与所述所述图形库图形的格点尺寸相同。可选的，所述格点的尺寸为0～2微米。可选的，比较所述图形库图形的编码方阵与所述待匹配图形的编码方阵的步骤包括：从AMN中以A11为起始格点选取大小与BIJ相同的编码方阵AIJ逐一进行格点编码的异或运算，得出格点对应的运算结果值，即i为0～I的自然数，j为0～J的自然数；将AIJ内所有格点的异或运算结果的综合值与总格点数的占比定义为相似判定值P，若所述相似判定值P低于预先设定的相似基准值B，则判定编码方阵AIJ与BIJ为相似区域，否则判定为不相似。可选的，B在0～1之间。可选的，比较所述图形库图形的编码方阵与所述待匹配图形的编码方阵的步骤还包括：若判定为不相似，则重新选取A12为相似区域筛选的起始格点，否则选取A1(J+1)为起点；遍历完成AMN方阵的所有格点，筛选出所有图形相似的区域。可选的，分别沿水平方向、竖直方向对所述待匹配的原始图形格点化编码方阵AMN进行遍历。可选的，对所述待匹配的原始图形进行精确图形匹配的步骤包括：切割选定的相似区域；分配图形匹配子任务；启动图形匹配引擎；输出图形匹配结果。可选的，若所述待匹配的原始图形与图形库图形未通过相似度检查，输出图形匹配结果。与现有技术相比，本专利技术的图形匹配方法具有以下有益效果：本专利技术中，在精确的图形匹配引擎启动前，预先对版图设计数据进行相似度判定，只有相似度判定通过的才启动图形匹配引擎做进一步的图形精确匹配。整个流程嵌套于原有的图形匹配流程内，能够将原有全局式的精确图形匹配转化为局部式的图形精确匹配，不影响匹配的最终结果，其中的图形的相似度判断由计算机自动实现，大大提升了图形匹配的效率。附图说明图1为现有技术中的图形匹配方法的流程图；图2为本专利技术一实施例中图形匹配方法的流程图；图3为本专利技术一实施例中待匹配的原始图形；图4为本专利技术一实施例中格点化待匹配的原始图形的示意图；图5为本专利技术一实施例中待匹配的原始图形的AMN方阵；图6为本专利技术一实施例中AMN方阵与BIJ方阵的相似度匹配示意图；图7为本专利技术一实施例中筛选出的相似区域；图8为本专利技术和现有技术的匹配方法的时间对比。具体实施方式下面将结合示意图对本专利技术的图形匹配方法进行更详细的描述，其中表示了本专利技术的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本专利技术，而仍然实现本专利技术的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本专利技术的限制。在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本专利技术。根据下面说明和权利要求书，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。本专利技术的核心思想在于，提供一种图形匹配方法，包括：建立图形库，输入待匹配的原始图形；对所述待匹配的原始图形进行相似度检查；若所述待匹配的原始图形与图形库图形通过相似度检查，对所述待匹配的原始图形进行精确图形匹配。本专利技术中，在精确的图形匹配引擎启动前，预先对版图设计数据进行相似度判定，只有相似度判定通过的才启动图形匹配引擎做进一步的图形精确匹配。整个流程嵌套于原有的图形匹配流程内，能够将原有全局式的精确图形匹配转化为局部式的图形精确匹配，不影响匹配的最终结果，其中的图形的相似度判断由计算机自动实现，大大提升了图形匹配的效率。以下结合附图对本专利技术图形匹配方法进行具体说明。参考图2中所示，本专利技术的图形匹配方法包括如下步骤：执行步骤S1，建立图形库，输入待匹配的原始图形；执行步骤S2，对所述待匹配的原始图形进行相似度检查；执行步骤S3，若所述待匹配的原始图形与图形库图形通过相似度检查，对所述待匹配的原始图形进行精确图形匹配。若所述待匹配的原始图形与图形库图形未通过相似度检查，输出图形匹配结果。本专利技术中，对所述待匹配的原始图形进行相似度检查的步骤包括：执行步骤S21，分别对所述图形库图形与待匹配的原始图形进行二进制编码，产生对应的编码方阵。具体的，参考图3、图4及图5所示，对所述图形库图形与待匹配的原始图形进行二级制编码的步骤包括：格点化图形，计算格点内图形的密度；若格点密度大于0，则二进制编码设为1，否则设为0，所有格点的二进制编码值组成对应的编码方阵；将所述待匹配的原始图形格点化编码方阵定义为AMN。采用同样的方法，将所述图形库图形定义为BIJ。本实施例中，所述待匹配的原始图形与所述图形库图形的格点尺寸相同，例如，所述格点的尺寸为0～2微米。执行步骤S22，比较所述图形库图形的编码方阵与所述待匹配图形的编码方阵，筛选出所述图形库图形与所述待匹配图形相似的区域。具体的，比较所述图形库图形的编码方阵与所述待匹配图形的编码方阵的步骤包括：参考图6所示，从矩形方阵AMN中以A11为起始格点选取大小与BIJ相同的编码方阵AIJ逐一进行格点编码的异或运算，得出格点对应的运算结果值，即其中，i为0～I的自然数，j为0～J的自然数；将AIJ内所有格点的异或运算结果的综合值与总格点数的占比定义为相似判定值P，若所述相似判定值P低于预先设定的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图形匹配方法，其特征在于，包括：建立图形库，输入待匹配的原始图形；对所述待匹配的原始图形进行相似度检查；若所述待匹配的原始图形与图形库图形通过相似度检查，对所述待匹配的原始图形进行精确图形匹配。

【技术特征摘要】
1.一种图形匹配方法，其特征在于，包括：建立图形库，输入待匹配的原始图形；对所述待匹配的原始图形进行相似度检查；若所述待匹配的原始图形与图形库图形通过相似度检查，对所述待匹配的原始图形进行精确图形匹配。2.如权利要求1所述的图形匹配方法，其特征在于，对所述待匹配的原始图形进行相似度检查的步骤包括：分别对所述图形库图形与待匹配的原始图形进行二进制编码，产生对应的编码方阵；比较所述图形库图形的编码方阵与所述待匹配图形的编码方阵，筛选出所述图形库图形与所述待匹配图形相似的区域。3.如权利要求2所述的图形匹配方法，其特征在于，对所述图形库图形与待匹配的原始图形进行二级制编码的步骤包括：格点化图形，计算格点内图形的密度；若格点密度大于0，则二进制编码设为1，否则设为0，所有格点的二进制编码值组成对应的编码方阵；将所述待匹配的原始图形格点化编码方阵定义为AMN，将所述图形库图形定义为BIJ。4.如权利要求3所述的图形匹配方法，其特征在于，所述待匹配的原始图形与所述所述图形库图形的格点尺寸相同。5.如权利要求4所述的图形匹配方法，其特征在于，所述格点的尺寸为0～2微米。6.如权利要求3所述的图形匹配方法，其特征在于，比较所述图形库图形的编码方阵与所述待匹配图形的编码方阵的步骤包括：...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱忠华，王伟斌，魏芳，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31