The invention discloses a OLED substrate, a manufacturing method and a display device, and relates to the display technology field, which is used to solve the problem that the lead wire is easily broken, so as to ensure the normal display of the OLED display device. The OLED substrate includes a display region and a peripheral region of the array substrate wiring, the display area is provided with a plurality of OLED arrays are arranged, the OLED includes upper and lower electrodes arranged relatively, and located between the upper electrode and the lower electrode of the OLED light emitting layer, and the a lower electrode is formed on the array substrate surface; the peripheral wiring area is provided with a function layer and a signal line function layer partially covering the signal line, edge surface of the functional film layer is provided with electrodes lead wire, one end of the electrode wire and the signal line is not the functional film layer covering part connection, the connection electrode and the other end of the. The OLED substrate provided by the invention is used for the OLED display.
【技术实现步骤摘要】
OLED基板及制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种OLED基板及制作方法、显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode,简称为OLED)因具有高亮度、全视角、响应速度快以及可柔性显示等优点,而被广泛应用于显示领域。目前,在OLED基板中常用的OLED,主要有顶发光OLED、底发光OLED以及两面发光OLED三种。其中,采用顶发光OLED的OLED基板的结构如图1所示,该OLED基板包括具有显示区域A和外围布线区域B的阵列基板,OLED阵列设置在阵列基板位于显示区域A的表面。OLED的阳极31采用铟锡氧化物(IndiumTinOxide,简称ITO)材料形成在薄膜晶体管2背离衬底基板1的一侧,且与薄膜晶体管2的漏极连接;OLED的OLED发光层32形成在其阳极31背离薄膜晶体管2的表面;OLED的阴极33采用金属材料形成在OLED发光层32背离阳极31的表面,且OLED的阴极33利用穿过过孔4的电极引线9,与外围布线区域B的信号线5连接。然而,由于外围布线区域B的信号线5,一般由与显示区域A薄膜晶体管2的源漏极同层制作的金属层形成,当在薄膜晶体管2的源漏极表面层叠形成各功能膜层,比如钝化层6、平坦层7以及像素界定层8时,这些功能膜层也将依次层叠形成在信号线5的表面。因此,利用穿过过孔4的电极引线9来实现OLED的阴极33与信号线5的连接时,由于过孔4需要穿透多层功能膜层,使得过孔4的深度较深,当在过孔4中沉积制作电极引线9时,容易使得电极引线9出现断线的情形,导致信号线5无法与OLED的阴极 ...
【技术保护点】
一种OLED基板,其特征在于,所述OLED基板包括具有显示区域和外围布线区域的阵列基板,所述显示区域设有呈阵列状排布的多个OLED,所述OLED包括相对设置的上电极和下电极,以及位于所述上电极和所述下电极之间的OLED发光层,且所述下电极形成在阵列基板表面;所述外围布线区域设置有功能膜层和信号线,所述功能膜层部分覆盖所述信号线,所述功能膜层的边缘表面设置有电极引线,所述电极引线的一端与所述信号线未被所述功能膜层覆盖的部分连接,另一端与所述上电极连接。
【技术特征摘要】
1.一种OLED基板,其特征在于,所述OLED基板包括具有显示区域和外围布线区域的阵列基板,所述显示区域设有呈阵列状排布的多个OLED,所述OLED包括相对设置的上电极和下电极,以及位于所述上电极和所述下电极之间的OLED发光层,且所述下电极形成在阵列基板表面;所述外围布线区域设置有功能膜层和信号线,所述功能膜层部分覆盖所述信号线,所述功能膜层的边缘表面设置有电极引线,所述电极引线的一端与所述信号线未被所述功能膜层覆盖的部分连接,另一端与所述上电极连接。2.根据权利要求1所述的OLED基板,其特征在于,所述功能膜层的边缘呈台阶状结构;所述电极引线覆盖功能膜层边缘的台阶状表面,且所述电极引线沿着所述台阶状表面的台阶延伸方向,自所述信号线未被所述功能膜层覆盖的部分延伸至所述上电极。3.根据权利要求1或2所述的OLED基板,其特征在于,所述电极引线与所述上电极在一次构图工艺中形成。4.根据权利要求3所述的OLED基板,其特征在于,所述信号线与所述下电极在一次构图工艺中形成;或,所述信号线与所述阵列基板中薄膜晶体管的源漏极在一次构图工艺中形成;或,所述信号线与所述阵列基板中薄膜晶体管的栅极在一次构图工艺中形成。5.根据权利要求1或2所述的OLED基板,其特征在于,所述功能膜层的层数为至少两层;所述电极引线包括至少两段顺次相接的子段引线,且第一段子段引线的始端与所述信号线未被所述功能膜层覆盖的部分连接,最后一段子段引线的尾端与所述上电极连接;其中,每段所述子段引线对应设置在至少一层所述功能膜层的边缘表面。6.根据权利要求5所述的OLED基板,其特征在于,所述阵列基板中薄膜晶体管的栅极,位于衬底基板和所述薄膜晶体管的源漏极之间;所述信号线与所述栅极在一次构图工艺中形成;所述子段引线的数量为...
【专利技术属性】
技术研发人员:程鸿飞,张玉欣,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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