用于处理基板的装置和方法制造方法及图纸

公开了一种用于对基板进行液体处理的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括：液体处理单元，其通过将液体供应到基板上来对基板进行液体处理；重量测量单元，其测量基板上的残留液体的重量；以及传送单元，其在液体处理单元和重量测量单元之间传送基板。因此，可以更迅速地测量残留液体的重量。

Devices and methods for processing substrates

A device and method for liquid treatment of a substrate is disclosed. An apparatus for processing a substrate includes: a liquid processing unit, the liquid supply to the substrate to the substrate is subjected to liquid treatment; weight measurement unit, the measurement of the residual liquid on the substrate weight; and a transmission unit, the transmitting substrate in the liquid processing unit and weight measurement unit. Therefore, the weight of the residual liquid can be measured more quickly.

【技术实现步骤摘要】
用于处理基板的装置和方法
本专利技术涉及一种用液体处理基板的装置和方法。
技术介绍
为了制造半导体装置，通过各种工艺例如光刻、蚀刻、灰化、离子注入和薄膜沉积在基板上形成期望的图案。在该工艺中使用各种处理液，并且在该工艺中产生污染物和颗粒。为了解决这个问题，在处理之前和之后执行清洁污染物和颗粒的清洁工艺。通常地，清洁工艺包括液体处理工艺和干燥工艺。在液体处理工艺中，将处理液供应到基板上，并且在干燥工艺中，去除基板上所残留的液体。液体处理工艺包括对基板进行化学处理并用有机溶剂替换基板上所残留的液体的操作。如果基板的处理表面被有机溶剂替换，则执行去除有机溶剂的干燥工艺。执行干燥工艺的腔室与液体处理工艺的腔室不同。因此，已进行液体处理工艺的基板从液体处理室被传送到干燥室。然后，当残留在基板上的有机溶剂大于预设范围时，有机溶剂会作为颗粒污染周边装置。与此不同，当有机溶剂的量小于预设范围时，由图案的倾斜现象导致工艺缺陷。此外，提供挥发性材料作为通常使用的有机溶剂，并且一部分有机溶剂可以在传送基板时挥发。因此，在设置基板处理系统的工艺中，测量基板的重量，以使残留在基板上的有机溶剂在预设范围内。如果基板的液体处理工艺完成，则由操作者在从基板处理系统中直接提取基板之后测量基板的重量，并且再次将其搬入基板处理系统中。然而，基板处理系统具有不同的内部环境和外部环境。因此，即使当在外部测定的基板的重量在预设范围内时，在实际工艺期间，残留液体的重量也可能偏离预设范围。此外，在由操作者直接将基板搬入和搬出基板处理系统的工艺中可能花费许多时间。此外，当操作者从系统中提取基板时，残留液体可能挥发，因此操作者可能暴露于对人体有害的残留液体。
技术实现思路
本专利技术构思提供了一种用于快速设置基板处理系统的装置和方法。本专利技术构思提供了一种用于在实际基板处理环境中测量基板上的残留液体的重量的装置和方法。本专利技术构思还提供了一种用于在测量残留液体的重量的同时防止残留液体暴露于操作者的装置和方法。本专利技术构思的实施方式提供了一种用于对基板进行液体处理的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括：液体处理单元，其通过将液体供应到基板上来对基板进行液体处理；重量测量单元，其测量基板上的残留液体的重量；以及传送单元，其在液体处理单元和重量测量单元之间传送基板。该装置还可以包括暂时存放基板的缓冲单元，并且重量测量单元可以设置在缓冲单元中。缓冲单元可以包括具有缓冲空间的缓冲室，其中容纳基板，并且重量测量单元和缓冲室可以彼此堆叠。液体可以是异丙醇(IPA)。所述装置还可以包括控制传送单元的控制器，并且控制器可以控制传送单元以：在基板被搬入液体处理单元之前将基板传送到重量测量单元，以及将经过液体处理单元液体处理的基板传送到重量测量单元。控制器可以在将基板搬入液体处理单元之前从重量测量单元接收基板的处理前重量，并且可以从重量测量单元接收从液体处理单元搬出的基板的处理后重量，并且基于处理前重量和处理后重量之间的差异来计算基板上的残留液体的重量。如果计算的液体重量偏离预设值，则控制器可以调节从液体处理单元供应的液体的流量，以使液体的重量包括预设值。一种用于处理基板的方法可以包括通过液体处理单元对基板进行液体处理，并测量基板上的残留液体的重量。液体的重量可以通过设置在暂时存放基板的缓冲单元中的重量测量单元来测量。对基板的液体处理可以包括将处理液供应到基板上，并且处理液可以是异丙醇(IPA)。重量测量包括在对基板进行液体处理之前测量基板的处理前重量，以及在对基板进行液体处理之后测量基板的处理后重量。该方法还可以包括在测量处理后重量之后基于处理前重量与处理后重量之间的差异计算残留液体的重量。该方法可以进一步包括在计算重量之后，如果液体的重量偏离预设值，则调节从液体处理室供应到基板的处理液的流量，以使液体的重量包括预设值。一种用于处理基板的装置可以包括：液体处理单元，其通过将液体供应到基板上来对基板进行液体处理；干燥单元，其干燥经过液体处理单元液体处理的基板；重量测量单元，测量基板上的残留液体的重量；以及传送单元，其在液体处理单元、干燥单元和重量测量单元中的任两个之间传送基板。该装置还可以包括暂时存放基板的缓冲单元，并且重量测量单元可以设置在缓冲单元中。所述装置还可以包括控制传送单元的控制器，并且控制器可以控制传送单元以：在基板被搬入液体处理单元之前将基板传送到重量测量单元，以及将经过液体处理单元液体处理的基板传送到重量测量单元。控制器可以在基板被搬入液体处理单元之前从重量测量单元接收基板的处理前重量，并且可以从重量测量单元接收从液体处理单元搬出的基板的处理后重量，并且可以基于处理前重量和处理后重量之间的差异来计算基板上的残留液体的重量。附图说明根据参考以下附图的以下描述，上述和其它目的和特征将变得显而易见，除非另有说明，其中相同的附图标记表示各个附图中的相同部件，其中：图1是表示本专利技术构思的第一实施方式的基板处理系统的平面图；图2是表示图1的缓冲单元和重量测量单元的透视图；图3是表示图2的缓冲单元和重量测量单元的截面图；图4是表示用于清洁图1的第一处理室中的基板的装置的截面图；图5是表示用于干燥图1的第二处理室中的基板的装置的截面图；图6是表示图5的基板支撑单元的透视图；图7是表示设置图1的基板处理系统的工艺的流程图；图8至图10是表示在设置图1的基板处理系统的同时传送基板的工艺的图；以及图11是表示图1的基板处理系统的另一个实施方式的平面图。具体实施方式本专利技术构思的实施方式可以以各种形式进行修改，并且本专利技术构思的范围不应被解释为受限于以下描述的本专利技术构思的实施方式。提供本专利技术构思的实施方式以向本领域技术人员更完整地描述本专利技术构思。因此，将附图中的部件的形状等夸大以强调更清楚的描述。将参考图1至图11描述本专利技术构思的实施方式。图1是表示根据本专利技术构思的第一实施方式的基板处理系统的平面图。参考图1，基板处理系统1具有转位模块10和工艺处理模块20，并且转位模块100包括多个载入埠120和输送框架140。可以将载入埠120、输送框架140和工艺处理模块20顺序地排成一行。以下，将布置载入埠120、输送框架140和工艺处理模块20的方向称为第一方向12，将在俯视角中垂直于第一方向12的方向称为第二方向14，并且将垂直于包括第一方向12和第二方向14的平面的方向称为第三方向16。其中接收基板W的载体18安置在载入埠120上。设置多个载入埠120，并将它们沿着第二方向14排成一行。图1表示设置有四个载入埠。载入埠120的数量可以根据例如工艺处理模块20的工艺效率或占地面积的情况而增加或减少。在载体18中形成有设置成支撑基板周边的多个槽(未示出)。沿着第三方向16设置多个槽，并且基板位于载体130中，以使基板堆叠成沿着第三方向16彼此间隔开。正面开口标准箱(FOUP)可以用作载体18。输送框架140在位于载入埠120上的载体18与缓冲单元220之间输送基板W。转位轨道142和转位机器人144设置在输送框架140中。转位轨道142布置成使其长度方向平行于第二方向14。转位机器人144安装在转位轨道142上，并沿着转位轨道142在第二方向14上线性移动。转位机器人144具有基座144a、主本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于处理基板的装置，包括：液体处理单元，其通过将液体供应到基板上来对所述基板进行液体处理；重量测量单元，其测量所述基板上的残留液体的重量；以及传送单元，其在所述液体处理单元和所述重量测量单元之间传送所述基板。

【技术特征摘要】
2016.05.27 KR 10-2016-00658521.一种用于处理基板的装置，包括：液体处理单元，其通过将液体供应到基板上来对所述基板进行液体处理；重量测量单元，其测量所述基板上的残留液体的重量；以及传送单元，其在所述液体处理单元和所述重量测量单元之间传送所述基板。2.根据权利要求1所述的装置，还包括：缓冲单元，其暂时存放所述基板，其中，所述重量测量单元设置在所述缓冲单元中。3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述缓冲单元包括缓冲室，所述缓冲室中具有容纳所述基板的缓冲空间，其中，所述重量测量单元和所述缓冲室彼此堆叠。4.根据权利要求1所述的装置，其中，所述液体包括异丙醇。5.根据权利要求1所述的装置，还包括：控制器，其控制所述传送单元，其中，所述控制器控制所述传送单元以：在所述基板被搬入所述液体处理单元之前将所述基板传送到所述重量测量单元，以及将经过所述液体处理单元液体处理的所述基板传送到所述重量测量单元。6.根据权利要求5所述的装置，其中，所述控制器在所述基板被搬入所述液体处理单元之前从所述重量测量单元接收所述基板的处理前重量，并且从所述重量测量单元接收从所述液体处理单元搬出的所述基板的处理后重量，并且基于所述处理前重量和所述处理后重量之间的差异来计算所述基板上的所述残留液体的重量。7.根据权利要求6所述的装置，其中，如果所计算的所述残留液体的重量偏离预设值，则所述控制器调节从所述液体处理单元供应的所述液体的流量，以使所述残留液体的重量包括所述预设值。8.一种用于处理基板的方法，所述方法包括：通过液体处理单元对基板进行液体处理；以及测量所述基板上的残留液体的重量。9.根据权利要求8所述的方法，其中，通过被设置在暂时存放所述基板的缓冲单元中的重量测量单元来测量所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李孝元，李暎熏，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR