显影液承载装置及显影设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显影液承载装置，包括显影液箱体、出液管、废液管、去离子水注入管、显影液注入管、气泡检测装置以及气泡去除装置，所述显影液箱体上设有出液口、废液口，所述出液管和废液管分别与出液口、废液口密封连接，所述去离子水注入管以及显影液注入管分别伸入显影液箱体中，所述气泡检测装置设于显影液箱体上，所述气泡检测装置用于对显影液箱体中是否存在气泡进行检测，所述气泡去除装置设于显示液箱体的腔体中。本发明专利技术还提供了一种显影设备，包括所述的显影液承载装置以及喷头，所述喷头与出液管连接。与现有技术相比，通过气泡去除装置以及气泡检测装置，对显影液箱体中的气泡进行监测以及对气泡进行消除，提高显影的均一性。

Developing liquid carrying device and developing equipment

The present invention provides a developer carrying device, including a developer box, a liquid outlet pipe, waste pipe, deionized water injection pipe, developer injection pipe, bubble detection device and bubble removing apparatus, the developer box is provided with a liquid outlet and liquid outlet, seal is connected with the liquid outlet pipe and waste liquid pipe are respectively connected with the liquid outlet and liquid, the deionized water injection tube and developer injection pipe are inserted into the developer box, the air bubble detection device is arranged on the developer box, the air bubble detection device used to detect whether there is bubble developer box, the bubble removing device is arranged on the display. In the case of liquid. The invention also provides a developing device, including the developing liquid carrying device and the sprinkler, which is connected with the outlet pipe. Compared with the existing technology, the bubbles in the developer tank are monitored and the bubbles are eliminated through the bubble removal device and the bubble detection device to improve the uniformity of the development.

【技术实现步骤摘要】
显影液承载装置及显影设备
本专利技术涉及一种液晶显示面板制作，特别是一种显影液承载装置及显影设备。
技术介绍
曝光显影技术是芯片领域中非常重要的环节，是当今用来制备精密器件微纳米图形最常用的手法。其基本工作原理是，首先在清洗洁净的衬底表面均匀涂布一层光刻胶；然后利用掩膜曝光技术，通过紫外光的照射，使受到紫外光照射的光刻胶部分性状发生改变；最后通过显影液的清洗，将人们所需要的光刻胶图形保留下来，完成微纳米图形的设计。目前显影机是将高浓度的显影液(KOH)与去离子水(DIW)在显影液箱体中混合稀释，混合速率慢；在稀释过程中会有气泡产生，气泡会使得显影液密度发生波动，同时气泡使得液位虚高，容易触发溢流传感器，导致排液，造成显影液的浪费；在显影时，溶液中留存的气泡会在喷头附近聚集，影响显影的均一性与显影效果。
技术实现思路
为克服现有技术的不足，本专利技术提供一种显影液承载装置及显影设备，从而消除气泡，提高显影的均一性。本专利技术提供了一种显影液承载装置，包括显影液箱体、出液管、废液管、去离子水注入管、显影液注入管、气泡检测装置以及气泡去除装置，所述显影液箱体上设有出液口、废液口，所述出液管和废液管分别与出液口、废液口密封连接，所述去离子水注入管以及显影液注入管分别伸入显影液箱体中，所述气泡检测装置设于显影液箱体上，所述气泡检测装置用于对显影液箱体中是否存在气泡进行检测，所述气泡去除装置设于显示液箱体的腔体中。进一步地，所述气泡检测装置包括投射光源以及反射光源接收器，所述显影液箱体的四周侧壁上至少有一侧侧壁为透明形成检测区，所述投射光源以及反射光源接收器设于检测区的一侧上，所述投射光源投射至检测区上。进一步地，所述气泡去除装置为超声波发生装置。进一步地，所述超声波发生装置外设有耐酸碱腐蚀的外壳。进一步地，所述超声波发生装置的频率为30-100MHz。进一步地，所述外壳由不锈钢材料制成。进一步地，所述显影液箱体的其余三侧侧壁上覆盖有第一不透光层。进一步地，所述显影液箱体的其余三侧侧壁为透明。进一步地，所述显影液箱体上位于检测区的一侧设有气泡检测装置容置腔，所述投射光源以及反射光源接收器分别设于气泡检测装置容置腔中与检测区相邻的两侧腔体壁上，所述气泡检测装置容置腔中与检测区相邻以及相对的腔体壁上设有第二不透光层。本专利技术还提供了一种显影设备，包括所述的显影液承载装置以及喷头，所述喷头与出液管连接。本专利技术与现有技术相比，通过在显影液箱体上气泡检测装置以及在显影液箱体中设置气泡去除装置，通过气泡检测装置对显影液箱体中的气泡进行监测，通过气泡去除装置对显影液箱体中的显影液以及去离子水进行混合后所产生的气泡进行去除；从而消除气泡，提高显影的均一性。附图说明图1是本专利技术显影设备的结构示意图；图2是本专利技术气泡检测装置的结构示意图；图3是本专利技术的控制器与装置的连接示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步详细说明。如图1所示，本专利技术公开了一种显影液承载装置，该承载装置包括显影液箱体1、出液管2、废液管3、去离子水注入管4、显影液注入管5、气泡检测装置6以及气泡去除装置7，其中：所述显影液箱体1为立方体结构，其内部用于装显影液以及去离子水；在显影液箱体1上设有出液口11、废液口12，同时还设有两个管孔16；所述出液管2和废液管3分别与出液口11、废液口12密封连接，所述去离子水注入管4以及显影液注入管5分别通过管孔16伸入到显影液箱体1的腔体中；所述气泡检测装置6设于显影液箱体1上，所述气泡检测装置6用于对显影液箱体1中的混合溶液是否存在气泡进行检测，所述气泡去除装置7设于显示液箱体1的腔体中，气泡去除装置7用于对显影液以及去离子水混合溶液进行充分的混合以及去除混合溶液中的气泡。具体地，出液口11和废液口12均设于显影液箱体1靠近底部处，这样的设置能够使废液排出的更干净；去离子水注入管4以及显影液注入管5伸入显影液箱体1中的部分为占去离子水注入管4以及显影液注入管5总长度的四分之三～五分之四之间，从而使去离子水注入管4以及显影液注入管5能够尽量靠近显影液箱体1的腔体底部，可以使混合溶液在浸没管路的条件下继续注入，防止液体在注入时产生剧烈晃动；气泡去除装置7设于显影液箱体1的腔体底部上，可以增大与混合溶液浸没的面积，这样能够提高混匀的效果以及去除气泡的效果；气泡检测装置6设于显影液箱体1外靠近显影液箱体1的底部处，优选为设于气泡检测装置6位于气泡去除装置7之上。如图1和图2所示，气泡检测装置6包括投射光源61以及反射光源接收器62，在显影液箱体1的四周侧壁上至少有一侧侧壁为透明形成检测区63，所述投射光源61以及反射光源接收器62设于检测区63的一侧上，所述投射光源61的光源投射至检测区63上，具体地，投射光源61的入射角度为45-60度之间，优选为51度，所述反射光源接收器62的设置位置根据投射光源61的入射角度而定，在此不做具体限定。本专利技术的气泡检测装置6还包括一测量电路，测量电路与反射光源接收器62连接，测量电路可采用现有技术中常规的光电检测电路实现，在此不做具体限定；所述测量电路用于通过反射光源接收器62获取反射光，并对反射光进行检测，根据结果判断是否存在气泡，一般情况下，反射光源接收器62接收光脉冲，接收的光脉冲信号经放大、整流和有源滤波后输出，在测量电路中一般均设置一放大器，在这里，还可以在放大器上设置一阈值电位，使无气泡不产生全反射时输出为零；而一旦有气泡出现，输出信号，这里零为不输出信号。本专利技术的气泡检测装置6的工作原理如下：当显影液箱体1中不存在气泡时，投射光源61产生一束平行光射向检测区63，光透过检测区63后通过混合溶液折射且大部分被吸收，反射光很弱，因此反射光源接收器62接收的为不是全反射光，因此测量电路不发出输出信号；当混合溶液中存在气泡时，由于气泡检测装置6设计对空气产生全反射，因此检测区63将光进行反射，此时反射光最强，因此反射光源接收器62将接收的光通过测量电路后，输出信号。所述投射光源61的光源可由发光二极管产生，优选为1千周的光脉冲；在发光二极管的前端设有光学镜片组，用于使发出的光为平行光。所述反射光源接收器62可采用光敏三极管，在光敏三极管上设置有用于聚焦的光学镜片组。本专利技术中，显影液箱体1的其余三侧侧壁上覆盖有第一不透光层13，但本专利技术不限于此，还可以是显影液箱体1的其余三侧侧壁为透明。所述第一不透光层13设于显影液箱体1的腔体壁上或设于显影液箱体1的外壁上，如图2所示，在显影液箱体1上位于检测区63的一侧设有气泡检测装置容置腔14，所述投射光源61以及反射光源接收器62分别设于气泡检测装置容置腔14中与检测区63相邻的两侧腔体壁上，所述气泡检测装置容置腔14中与检测区63相邻以及相对的腔体壁上设有第二不透光层15，即除检测区63以外的气泡检测装置容置腔15的腔体壁上均设置有第二不透光层15，从而保证了不会有多余的光线进入气泡检测装置容置腔14中，影响检测的效果；具体地，反射光源接收器62根据投射光源61的入射角度而定，在此不做具体限定。如图1所示，气泡去除装置7为超声波发生装置，在超声波发生器外设有耐酸碱腐蚀的外壳71；所述超声波发生装置为现有技术，在此不做具体限定；具体地，超声本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影液承载装置，其特征在于：包括显影液箱体(1)、出液管(2)、废液管(3)、去离子水注入管(4)、显影液注入管(5)、气泡检测装置(6)以及气泡去除装置(7)，所述显影液箱体(1)上设有出液口(11)、废液口(12)，所述出液管(2)和废液管(3)分别与出液口(11)、废液口(12)密封连接，所述去离子水注入管(4)以及显影液注入管(5)分别伸入显影液箱体(1)中，所述气泡检测装置(6)设于显影液箱体(1)上，所述气泡检测装置(6)用于对显影液箱体(1)中是否存在气泡进行检测，所述气泡去除装置(7)设于显示液箱体(1)的腔体中。

【技术特征摘要】
1.一种显影液承载装置，其特征在于：包括显影液箱体(1)、出液管(2)、废液管(3)、去离子水注入管(4)、显影液注入管(5)、气泡检测装置(6)以及气泡去除装置(7)，所述显影液箱体(1)上设有出液口(11)、废液口(12)，所述出液管(2)和废液管(3)分别与出液口(11)、废液口(12)密封连接，所述去离子水注入管(4)以及显影液注入管(5)分别伸入显影液箱体(1)中，所述气泡检测装置(6)设于显影液箱体(1)上，所述气泡检测装置(6)用于对显影液箱体(1)中是否存在气泡进行检测，所述气泡去除装置(7)设于显示液箱体(1)的腔体中。2.根据权利要求1所述的显影液承载装置，其特征在于：所述气泡检测装置(6)包括投射光源(61)以及反射光源接收器(62)，所述显影液箱体(1)的四周侧壁上至少有一侧侧壁为透明形成检测区(63)，所述投射光源(61)以及反射光源接收器(62)设于检测区(63)的一侧上，所述投射光源(61)投射至检测区(63)上。3.根据权利要求1或2所述的显影液承载装置，其特征在于：所述气泡去除装置(7)为超声波发生装置。4.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵芬利，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44