配置为使用电磁辐射从基板移除涂层的系统技术方案

本申请涉及配置为使用电磁辐射从基板移除涂层的系统。一种移除系统被配置为从组件的基板移除涂层。第一能量源和第二能量源每个都被配置为将电磁辐射引导到组件上，电磁辐射产生相应的第一特性和第二特性。传感器检测由第一电磁辐射流和第二电磁辐射流产生的第一特性和第二特性。控制器被设置为从传感器接收检测到的第一特性和第二特性，以及从相应的第一能量源和第二能量源接收相关的第一功率水平和第二功率水平。响应于从传感器接收的第一特性和第二特性以及从第一能量源和第二能量源接收的相关的功率水平，控制器将更新的功率水平发送到第一能量源和第二能量源中的至少一个中。

A system configured to remove a coating from a substrate using electromagnetic radiation

This application involves a system configured to remove a coating from a substrate using electromagnetic radiation. A removal system is configured to remove the coating from the substrate of the component. The first energy source and the second energy source are each configured to guide the electromagnetic radiation to the component, and the electromagnetic radiation produces the corresponding first and second characteristics. The sensor detects the first and second characteristics of the first electromagnetic radiation flow and the second electromagnetic radiation flow. The controller is set to receive the first and second characteristics detected from the sensor, and to receive the first power level and the second power level from the corresponding first energy source and the second energy source. In response to the first characteristic and the second characteristic received from the sensor and the related power level received from the first energy source and the second energy source, the controller sends the updated power level to at least one of the first energy source and the second energy source.

【技术实现步骤摘要】
配置为使用电磁辐射从基板移除涂层的系统本申请是申请日为2012年10月22日，申请号为201280063143.6，专利技术名称为“配置为使用电磁辐射从基板移除涂层的系统”的申请的分案申请。相关申请的交叉引用本申请要求在2011年10月21号递交的申请号为61/549,818的美国临时专利申请的权益，该美国临时专利申请据此以引用方式被全部并入。
本公开涉及一种被配置为使用电磁辐射从基板除去涂层的系统。
技术介绍
飞机、车辆、船以及许多其它构造物具有原始、被喷涂的表面、或者以其它方式被涂层覆盖的表面。随着时间的推移，该涂层可能变得黯淡、脱落，或者需要被移除以便另外的涂层可以被应用于该表面。
技术实现思路
一种移除系统，其被设置为从组件的基板上移除涂层。第一能量源被设置为被以第一功率水平赋能，以将第一电磁辐射流引导到组件上，以便第一电磁辐射流产生组件上的第一特性。第二能量源被设置为被以第二功率水平赋能，以将第二电磁辐射流引导到组件上，以便第二电磁辐射流产生组件上的第二特性。传感器被设置为检测由第一电磁辐射流和第二电磁辐射流产生的第一特性和第二特性。控制器可操作地连接到第一能量源和第二能量源以及传感器。控制器被设置为从传感器接收检测到的第一特性和第二特性，以及从各自的第一能量源和第二能量源中接收相关的第一功率水平和第二功率水平。控制器被设置为响应于从传感器接收的第一特性和第二特性和从第一能量源和第二能量源接收的相关功率水平，将更新的第一功率水平和第二功率水平传输到第一能量源和第二能量源中的至少一个。一种从基板移除涂层的方法，包括将第一电磁辐射流从第一能量源引导到组件。第一能量源被以第一功率水平赋能，以便第一电磁辐射流使第一特性在组件上产生。第二电磁辐射流从处在第二功率水平第二能量源被引导到组件中，以便第二电磁辐射流使第二特性在组件上产生。第二能量源被以第二功率水平赋能，以便第二电磁辐射流使第二特性在组件上产生。组件的第一特性和第一能量源的相关第一功率水平被检测到。组件的第二特性和第二能量源的相关第二功率水平被检测到。被检测到的第一特性和第二特性以及相关的第一功率水平和第二功率水平中的至少一个被传输到控制器。基于检测到的第一特性和第二特性，在控制器中确定涂层是否被布置在组件的基板上。更新的功率水平被传输到第一能量源和第二能量源中的至少一个。结合附图，根据执行本专利技术的最佳模式和其它实施方式中的一些的下列详细描述，本专利技术的上述技术特征和优点以及其它技术特征和优点很清晰明显。本申请还涉及以下内容：1)一种移除系统，其被配置为从组件的基板移除涂层，所述系统包括：第一能量源，其被配置为被以第一功率水平赋能，以将第一电磁辐射流引导到所述组件上，以便所述第一电磁辐射流产生所述组件上的第一特性；第二能量源，其被配置为被以第二功率水平赋能，以将第二电磁辐射流引导到所述组件上，以便所述第二电磁辐射流产生所述组件上的第二特性；传感器，其被配置为检测由所述第一电磁辐射流和所述第二电磁辐射流产生的所述第一特性和所述第二特性；控制器，其可操作地连接到所述第一能量源和所述第二能量源以及所述传感器；其中，所述控制器被配置为从所述传感器接收检测到的所述第一特性和所述第二特性，以及从分别的所述第一能量源和所述第二能量源接收相关的所述第一功率水平和所述第二功率水平；以及其中，所述控制器被配置为响应于从所述传感器接收的所述第一特性和所述第二特性以及从所述第一能量源和所述第二能量源接收的相关的所述功率水平，将更新的第一功率水平和第二功率水平发送到所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一个能量源。2)如1)所述的移除系统，其中所述第一能量源被配置为将所述第一电磁辐射流引导到所述组件上，以便产生的所述第一特性表示所述涂层从所述基板的移除。3)如2)所述的移除系统，其中所述第二能量源被配置为将所述第二电磁辐射流引导到所述组件上，以便产生的所述第二特性表示所述涂层是否存在于所述基板上。4)如3)所述的移除系统，还包括功率源，该功率源可操作地连接到所述第一能量源和所述第二能量源；其中，所述控制器是闭环过程控制器，该闭环控制器配置为从所述传感器和所述功率源接收输入；以及其中，所述控制器被配置为响应于从所述传感器和所述功率源接收的输入，为所述功率源中的至少一个提供信号，以控制由所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一个所发射的功率。5)如4)所述的移除系统，其中所述传感器是光学传感器和光谱分析器之一。6)如1)所述的移除系统，其中所述第一特性和所述第二特性包括波长和强度。7)一种从组件的基板移除涂层的方法，所述方法包括：将第一电磁辐射流从第一能量源引导到所述组件上；其中所述第一能量源被以第一功率水平赋能，以便所述第一电磁辐射流使第一特性在所述组件上产生；将第二电磁辐射流从处在第二功率水平的第二能量源引导到所述组件上，以便所述第二电磁辐射流使第二特性在所述组件上产生；其中所述第二能量源被以第二功率水平赋能，以便所述第二电磁辐射流使第二特性在所述组件上产生；检测所述组件的第一特性以及所述第一能量源的相关的所述第一功率水平；检测所述组件的第二特性以及所述第二能量源的相关的所述第二功率水平；将检测到的所述第一特性和所述第二特性以及相关的所述第一功率水平和所述第二功率水平中的至少一个发送给控制器；根据检测到的所述第一特性和所述第二特性，在所述控制器中确定所述涂层是否布置在所述组件的基板上；以及响应于确定所述涂层是否被布置在所述基板上，将更新的功率水平发送到所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一个能量源。8)如7)所述的方法，其中，产生的所述第一特性表示所述涂层从所述基板的移除。9)如8)所述的方法，其中，产生的所述第二特性表示所述涂层是否存在于所述基板上。10)如9)所述的方法，还包括：从传感器和所述功率源接收输入；以及响应于从所述传感器和所述功率源接收的输入，为所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一个能量源提供信号，以控制功率的发射。11)如10)所述的方法，其中所述传感器是光学传感器和光谱分析器之一。12)如7)所述的方法，其中所述第一特性和所述第二特性包括波长和强度。附图简述图1是一种移除系统的示意性图示，该移除系统被设置为从组件的基板中移除涂层；图2是所述移除系统的示意性图示；图3是示出了两个传感器的移除系统的示意性图示；图4是组件的概括示意图，该组件具有被布置在基板上的多层涂层；以及图5是在多路激光穿过组件时由移除系统的传感器检测到的强度和波长的示意性图解示图。详细说明参考附图，其中相同的参考数字指示相同的组件，被设置为采用第一电磁辐射流16a从组件15的基板14上移除涂层12的移除系统如图1中的10所示。移除系统10包括第一能量源18、传感器20、控制器22、以及可选显示单元24。参照图4，涂层12可以是布置在彼此之上(图4)的不同涂层12的一个或多个层25。更具体地，层25可以包括第一层25a和第二层25b。然而，应该意识到的是，层25可以是任意个数的层。基板14是底层材料，涂层12的一层或多层25布置在其顶上。此外，涂层12的每一层25可以具有厚度26，该厚度26在横跨基板14上是不均匀的。进一步地，每一层25可以具有厚度26a、26b、26c、2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种移除系统，其被配置为从组件的基板移除涂层，所述系统包括：第一能量源，其被配置为被以第一功率水平赋能，以将第一电磁辐射流引导到所述组件上，以便所述第一电磁辐射流产生所述组件上的第一特性；第二能量源，其被配置为被以第二功率水平赋能，以将第二电磁辐射流引导到所述组件上，以便所述第二电磁辐射流产生所述组件上的第二特性；传感器，其被配置为检测由所述第一电磁辐射流和所述第二电磁辐射流产生的所述第一特性和所述第二特性；控制器，其可操作地连接到所述第一能量源和所述第二能量源以及所述传感器；其中，所述控制器被配置为从所述传感器接收检测到的所述第一特性和所述第二特性，以及从分别的所述第一能量源和所述第二能量源接收相关的所述第一功率水平和所述第二功率水平；以及其中，所述控制器被配置为响应于从所述传感器接收的所述第一特性和所述第二特性以及从所述第一能量源和所述第二能量源接收的相关的所述功率水平，将更新的第一功率水平和第二功率水平发送到所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一个能量源。

【技术特征摘要】
2011.10.21 US 61/549,8181.一种移除系统，其被配置为从组件的基板移除涂层，所述系统包括：第一能量源，其被配置为被以第一功率水平赋能，以将第一电磁辐射流引导到所述组件上，以便所述第一电磁辐射流产生所述组件上的第一特性；第二能量源，其被配置为被以第二功率水平赋能，以将第二电磁辐射流引导到所述组件上，以便所述第二电磁辐射流产生所述组件上的第二特性；传感器，其被配置为检测由所述第一电磁辐射流和所述第二电磁辐射流产生的所述第一特性和所述第二特性；控制器，其可操作地连接到所述第一能量源和所述第二能量源以及所述传感器；其中，所述控制器被配置为从所述传感器接收检测到的所述第一特性和所述第二特性，以及从分别的所述第一能量源和所述第二能量源接收相关的所述第一功率水平和所述第二功率水平；以及其中，所述控制器被配置为响应于从所述传感器接收的所述第一特性和所述第二特性以及从所述第一能量源和所述第二能量源接收的相关的所述功率水平，将更新的第一功率水平和第二功率水平发送到所述第一能量源和所述第二能量源中的至少一个能量源。2.如权利要求1所述的移除系统，其中所述第一能量源被配置为将所述第一电磁辐射流引导到所述组件上，以便产生的所述第一特性表示所述涂层从所述基板的移除。3.如权利要求2所述的移除系统，其中所述第二能量源被配置为将所述第二电磁辐射流引导到所述组件上，以便产生的所述第二特性表示所述涂层是否存在于所述基板上。4.如权利要求3所述的移除系统，还包括功率源，该功率源可操作地连接到所述第一能量源和所述第二能量源；其中，所述控制器是闭环过程控制器，该闭环控制器配置为从所述传感器和所述功率源接收输入；以及其中，所述控制器被配置为响应于从所述传感器和所述功率源接收的输入，为所述功率源中的至少一个提供信号，以...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐纳德·E·斯普伦塔尔，基思·A·杰弗里斯，
申请(专利权)人：苏尔清洁公司，
类型：发明
国别省市：美国,US