对食品接触表面去污、清洁和消毒的方法技术

本发明专利技术涉及原位清洁过程及其清洁组合物。更具体地讲，本发明专利技术涉及用于移除粘附到食品加工设备和制备后生产线的所述内部金属表面或连接处的烧灼食物类污垢的清洁过程。所述CIP方法包括使所述污垢与氧化组合物接触，以氧化所述污垢并使其在高温下溶解，从而有助于使所述污垢从金属表面移除。另外所述方法包括使去污和消毒溶液通过。

Methods of decontamination, cleaning and disinfection of the surface of food

The present invention relates to a cleaning process in situ and a cleaning composition. More specifically, the invention relates to the cleaning process for removing food burning dirt adhered to the inner metal surface or joint of food processing equipment and the production line. The CIP method includes contacting the dirt and oxidation composition to oxidize the dirt and make it dissolve at high temperature, thus helping to remove the dirt from the metal surface. In addition, the method includes the passage of a decontamination and disinfection solution.

【技术实现步骤摘要】
对食品接触表面去污、清洁和消毒的方法
本专利技术涉及原位清洁过程及其清洁组合物。更具体地讲，本专利技术涉及用于去除粘附到食品加工设备和制备后生产线的内部金属表面或连接处食物类污垢的清洁过程。
技术介绍
近年来，如茶或咖啡等类型的即饮/即食型饮料由于结合了茶作为健康饮料的优点和即用型制备饮料的携带便利性而经历了快速增长。在制造此类饮料时，对叶或豆类加热，使其释放挥发性化合物。另外，许多食品和饮料产品都是通过蒸发而浓缩或形成的。工业加工的即饮型饮料可包含多种添加剂，包括风味剂、甜味剂、碳水化合物、植物油、矿物盐、食品添加剂、蛋白质或奶制品。工业中在加工咖啡或茶饮料时，对牛奶固形物加热，这通常导致有机和无机污垢形成并沉积到加工设备(包括管道和输送线)的内壁上，并且这种经过烧灼的污垢在金属表面上变得顽固。在进入新的生产线之前或甚至在转换之前清洁和去除沉积的污垢是非常重要的任务。主要的污垢来源是被处理的食物产品。大多数饮料包含称为儿茶素的简单类黄酮，而制备茶时叶子经历的加工和氧化使得这些简单类黄酮转变成称为茶黄素和茶红素的更复杂的种类。事实证明，复杂种类(例如，茶黄素和茶红素)强劲地粘附到金属表面，例如加工设备的内壁，并且在没有高成本、耗能和耗时的清洁过程的情况下，这种污垢或污渍可能极其难以完全去除。微生物生物膜也促成了表面上的污垢增加。如本领域已知，原位清洁(CIP，Cleaning-in-place)是工业认可的过程，该过程通过在不拆除设备的情况下使清洁溶液通过系统来清洁和消毒液体食品/饮料制造设备的槽和管道的内表面。通常，CIP方案涉及五个重要步骤：预冲洗、清洁剂清洗(酸/碱)、冲洗、清洁剂清洗(酸/碱)和最终冲洗。在CIP之后单独进行消毒。清洁周期中所用的清洁组合物是评估CIP的清洁效力的重要考虑因素之一。已发现，常规的CIP过程使用碱性清洁剂或碱处理以及诸如过氧化氢的氧化剂。EP1,725,645公开了使用过氧化物(优选地过氧化氢)清洁生产或加工乳制品的设备。将乳过氧物酶和硫氰酸盐加入包含过氧化氢的清洁溶液。进行补充性添加，以便使相对于受污和/或污染的设备的清洁效力增加更多。WO2007/050291A1公开了常规的CIP过程前的预处理组合物。其涉及包括用强酸性溶液(优选地酸性过氧化物溶液)处理受污表面的方法。该预处理是除实际CIP过程之外需要执行的另外的过程。已经注意到，在大多数常规操作中，清洁溶液被制成苛性碱与一些氧化剂(诸如过氧化氢、过硫酸钠、过硼酸钠、过碳酸钠、高锰酸钾)作为有效组合物的水溶液。已知的方法与一些问题相关，诸如一旦清洁周期完成，清洁溶液将因形成沉淀而被排放到排水管中。碱处理将去除污染槽壁的蛋白质污垢和盐，但不能用作消毒剂。另外，酸处理有时是中和碱性环境和/或去除无机污垢沉积所必要的。因此总体清洁周期步骤以及时间延长。本专利技术的专利技术人已作出若干努力以开发减少了总体清洁步骤(例如预处理、碱处理和最终必要步骤即冲洗步骤)的CIP过程/方案。本专利技术提供了提高食品合规性和易用性(包括非常有效的茶/咖啡污垢清洁性能)的CIP方案。将对文献、行动、材料、装置、制品等的论述包括在本说明书中仅仅是为了提供本专利技术的背景。不暗示或表示任何或所有这些事项构成了现有技术基础的一部分，或为本领域中与本专利技术相关的常见性一般知识，因为它在本申请的各权利要求项的优先权日之前已存在。
技术实现思路
在本专利技术中，原位清洁方法和清洁组合物意外地被证明非常有效，其中发现了减少了总体清洁步骤(例如预处理、碱处理和最终必要步骤即冲洗步骤)的CIP过程/方案。另外，本专利技术提供了提高食品合规性和易用性(包括非常有效的茶/咖啡污垢清洁性能)的CIP方案。更具体地讲，本专利技术涉及用于去除粘附到食品加工设备内部金属表面或连接处和制备后的生产线的食物类污垢的清洁过程。本专利技术的又一个方面是提供用于清洁制备即饮型/即食型饮料所用的加工设备和生产线的方法。本专利技术的另一个方面是提供有效地氧化沉积到金属表面上的有机和无机食物类污垢的清洁方法。本专利技术的另一个方面是提供用于清洁加工设备的可重复使用/再循环若干次而不损耗有效清洁性能的组合物。本专利技术的另一个方面是提供使用包含对金属无腐蚀性的清洁剂的清洁组合物清洁的过程。由于广泛的调查，专利技术人已发现，使用除包含无机酸之外包含高锰酸钾的清洁组合物，可有效地将烧灼污垢从金属表面去除。本专利技术的一个实施例包括有效去除饮料制造设备中沉积的无机和有机烧灼食物类污垢的CIP清洁过程，包括在60至80℃之间的温度下使包含氧化剂和无机酸的清洁组合物流过，这氧化了烧灼食物类污垢。进一步用水去污和冲洗系统。本专利技术的另一个实施例涉及用于清洁饮料制造设备的CIP清洁过程。清洁过程的目的在于实现化学和细菌学清洁，这意味着所述过程提供了用化学氧化溶液进行的第一彻底清洁步骤，然后用消毒溶液进行消毒。所述CIP过程包括以下步骤：a)任选地用水冲洗，以去除液体和松散颗粒，b)在环境温度以上使包含氧化剂和无机酸的清洁溶液流过，c)使水流过以冲洗过量的清洁溶液d)在环境温度下使去污和消毒溶液流过，作为冲洗步骤的一部分。最著名和最常用的CIP系统适于使用或运行该CIP过程。通常将清洁溶液从由存储清洁溶液的若干槽组成的中央CIP工位分配到CIP回路。通过蒸汽加热溶液，并且不断地监测和调节溶液的浓度。本专利技术所公开的饮料设备不限于用于酸奶制备、即饮型饮料诸如茶、咖啡、果汁、啤酒、碳酸饮料、汤、番茄酱、果酱、果泥和蔬菜泥等的巴氏灭菌器、储奶罐、发酵罐。参照以下具体实施方式和附图可以更好地理解本专利技术的这些和其他方面和特征。专利技术陈述一种用于清洁食品饮料加工设备的原位清洁过程，该过程包括：(a)使受污表面与包含至少一种氧化剂和至少一种调节剂的清洁组合物接触，其中清洁组合物溶液的温度升高至20℃以上，以及(b)引入水，用于冲洗设备，(c)将包含至少一种还原剂的去污溶液引入到用于步骤(b)的冲洗的水中，其中，在与去污组合物接触之后，还原剂与步骤(a)的痕量氧化剂反应并且也对基底表面消毒；其中，所述过程是一体化的并且从原位清洁系统连续运行至封闭加工设备中。步骤a)所述的温度高于环境温度，更具体地讲为约50℃至95℃。上面所述过程运行从30分钟至300分钟的足够长的时间段，优选地从45分钟至100分钟。根据权利要求1所述的原位清洁方法，其中清洁组合物中的氧化剂浓度在0.01至5重量％的范围内。用于步骤a)的清洁组合物中的氧化剂为高锰酸钾并且具有0.01至5重量％范围内的浓度。用于步骤a)的清洁组合物中的调节剂选自硝酸、磷酸、甲磺酸、盐酸或它们的混合物并且具有0.01至10重量％范围内的浓度。用于步骤c)的去污组合物中的还原剂选自过氧化氢、过乙酸或它们的混合物并且具有0.01至5重量％范围内的浓度。附图说明：在如此概括地描述了本专利技术之后，现在将参考附图，所述附图不一定按比例绘制，并且其中：图1：表示在使用不同的清洁溶液时红茶(blacktea)污垢面板的重量损失。图2：表示在使用不同的清洁溶液时奶茶污垢面板的重量损失。具体实施方式：下文将参照附图更全面地描述本专利技术，附图中只显示了本专利技术的一些实施例，而非全部实施例。实际上，这些专利技术可以按不同的形式实施并且不应当理解为限于本本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于清洁食品饮料加工设备的原位清洁过程，所述过程包括：(a)使所述污面与包含至少一种氧化剂和至少一种调节剂的清洁组合物接触，其中所述清洁组合物溶液的温度升高至20℃以上，以及(b)引入水以冲洗所述设备，(c)引入所述去污溶液以供步骤(b)的冲洗，所述去污溶液包含所述水中的至少一种还原剂，其中，在与所述去污组合物接触时，所述还原剂与步骤(a)所述的痕量氧化剂反应，并且对所述基底表面消毒；其中所述过程为一体化的并且从原位清洁系统连续运行至所述封闭加工设备中。

【技术特征摘要】
2016.05.24 IN 2016210178851.一种用于清洁食品饮料加工设备的原位清洁过程，所述过程包括：(a)使所述污面与包含至少一种氧化剂和至少一种调节剂的清洁组合物接触，其中所述清洁组合物溶液的温度升高至20℃以上，以及(b)引入水以冲洗所述设备，(c)引入所述去污溶液以供步骤(b)的冲洗，所述去污溶液包含所述水中的至少一种还原剂，其中，在与所述去污组合物接触时，所述还原剂与步骤(a)所述的痕量氧化剂反应，并且对所述基底表面消毒；其中所述过程为一体化的并且从原位清洁系统连续运行至所述封闭加工设备中。2.根据权利要求1所述的原位清洁方法，其中清洁组合物中的所述氧化剂浓度在0.01至5重量％的范围...

【专利技术属性】
技术研发人员：巴威石·坎蒂拉尔·帕特尔，赫曼特·希瓦拉姆·戈德博尔，
申请(专利权)人：密封空气印度PVT有限公司，
类型：发明
国别省市：印度,IN