本发明专利技术的感受性测量装置包括：平台，该平台对样本容器进行载放；温度调整装置，该温度调整装置具备配置于所述样本容器的上下的上侧加温体和下侧加温体；以及拍摄装置，该拍摄装置具备照明设备和拍摄设备，用于对所述样本容器进行拍摄，所述上侧加温体和所述下侧加温体分别包括以下构造：作为周边部的第1区域的温度比包含中央部的第2区域的温度要高。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感受性测量装置及检查装置
本专利技术涉及感受性测量装置、以及包括该感受性测量装置的检查装置。
技术介绍
将添加有细菌和抗菌剂的样本容器在调节至适合细菌增殖的温度的环境下进行培养，利用吸光度、浊度等来对增殖的程度进行测量，由此来进行细菌的药剂感受性试验。当前，在一昼夜培养后，进行温度测定、目视观察、或者吸光度的光学性测定，从而进行关于细菌增殖的检查。为了对细菌增殖的程度进行判定，在适合细菌增殖的温度下进行长时间培养，从而使增殖的状态充分产生差异，以进行判定。在美国CLSI(ClinicalandLaboratoryStandardsInstitute：临床实验室标准化协会)中，将此时的培养条件定为35℃±2℃。这里，在感受性检查中，因培养液的温度差而产生的增殖的偏差通过长时间培养后是否超过规定浓度来进行判定，因此，±2℃左右的温度偏差不会成为问题。像一昼夜那样的长时间的培养时间及其后所实施的检查工序会造成下药的延迟并给患者带来较大的负担。因此，为了迅速地进行治疗，希望缩短检查的时间。为了在短时间内对细菌的增殖进行判断，重要的是在均匀的温度下对样本容器内的各样本槽(well)的培养液进行管理，并尽可能使样本槽间的培养条件相一致。通常，在具有多个样本槽的样本容器中利用培养箱(恒温槽)来进行培养，但在现有的装置中，无法在培养箱内部配置拍摄设备来进行光学测定。另外，存在利用培养箱来对样本容器进行加热、从而在浊度测定时将该样本容器传送至测定部的装置(专利文献1)。然而，在像这样的装置中，在利用拍摄设备来进行拍摄的期间，存在样本容器的温度下降的问题。浊度测量能用比较短的时间来进行测量，能无视测量中的温度下降。然而，在用拍摄设备来进行拍摄的情况下会耗费时间，在对所有的样本槽进行拍摄的期间内样本容器的温度会下降，之后的增殖会产生偏差。因此，难以获得正确的判定结果。另一方面，存在利用加温设备(加热板)在测定设备的正下方进行加温的装置(专利文献2)。在该装置的情况下，难以使样本容器的各样本槽内的培养液的温度均匀。这是由于一般加热板端部的热量容易逃逸，温度会下降。即使在这种情况下，关于之后的细菌增殖量也会产生偏差，从而难以获得正确的判定结果。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利特开2011－103786号公报专利文献2：日本专利特许5307539号
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题为了根据短时间内的细菌培养结果来对药剂感受性试验的结果进行判断，需要使样本容器内的培养条件比花费一昼夜所进行的现有的感受性试验的情况要更均匀。特别是温度条件对细胞培养的影响较大，需要减小样本容器内的温度的偏差。本专利技术提供一种能使样本容器内的温度条件保持均匀的技术。用于解决技术问题的技术手段例如，为了解决上述问题，采用权利要求书中所记载的结构。本申请包含有多个解决上述问题的手段，若举出其中的一个示例，则提供一种感受性测量装置，该感受性测量装置包括：平台，该平台对样本容器进行载放；温度调整装置，该温度调整装置具备配置于所述样本容器的上下的上侧加温体和下侧加温体；以及拍摄装置，该拍摄装置具备照明设备和拍摄设备，用于对所述样本容器进行拍摄，所述上侧加温体和所述下侧加温体分别具备以下构造：作为周边部的第1区域的温度比包含中央部的第2区域的温度要高。专利技术效果根据本专利技术，在感受性测量装置中，能使样本容器内的温度条件保持均匀。与本专利技术相关联的其它特征通过本说明书的描述、附图来明确。另外，除上述以外的问题、结构及效果通过以下实施例的说明来进一步明确。附图说明图1是表示实施例1所涉及的细菌感受性测量装置的结构的剖视图。图2是实施例1所涉及的细菌感受性测量装置中的上侧加热体的俯视图。图3是实施例1所涉及的细菌感受性测量装置中的下侧加热体的俯视图。图4是表示XY平台的其它示例的剖视图。图5是表示实施例2所涉及的细菌感受性测量装置的结构的剖视图。图6是表示实施例3所涉及的细菌感受性测量装置的结构的剖视图。图7是表示实施例4所涉及的细菌感受性测量装置的结构的剖视图。图8是表示实施例5所涉及的细菌感受性测量装置的结构的剖视图。图9是表示实施例6所涉及的细菌感受性测量装置的结构的剖视图。图10是具备细菌感受性测量装置的检查装置的一个示例。具体实施方式下面，参照附图，对本专利技术的实施例进行说明。此外，附图虽然示出了遵循本专利技术的原理的具体实施例，但这些是用于本专利技术的理解，绝非用于对本专利技术进行限定性解释。在以下的说明中，对XYZ直角坐标系进行设定，参照该XYZ直角坐标系来对各构件的位置关系进行说明。然后，将水平面内的规定方向设为X轴方向，在水平面内将与X轴方向正交的方向设为Y方向，将分别与X轴方向和Y轴方向正交的方向(即垂直方向)设为Z轴方向。以下的实施例涉及一种检查装置，该检查装置在样本容器内对细菌进行加温培养，并对药剂感受性进行判断。检查装置包括细菌感受性测量装置。细菌感受性测量装置利用光学测定装置每隔规定时间对细菌的增殖量进行测定。检查装置是如下装置：该装置对由光学测定装置所获得的测定数据进行累积，根据测定数据来对增殖量的变化进行分析，从而对药剂感受性进行判断。[实施例1]图1是表示实施例1所涉及的细菌感受性测量装置的结构的剖视图。细菌感受性测量装置是为了对细菌的药剂感受性进行检查而对样本容器10的各样本槽进行光学测定的装置。作为一个示例，样本容器10有96个样本槽。细菌感受性测量装置包括：用于载放样本容器10的XY平台90；用于对样本容器10进行温度调整以促进细菌的培养的温度调整装置；以及用于对培养后的细菌进行光学测定的拍摄设备50。XY平台90具有用于对具有多个样本槽的样本容器10进行载放的载放台91。XY平台90构成为使样本容器10能沿X轴方向和Y轴方向移动。温度调整装置是用于使样本容器10的多个样本槽的温度保持一致的装置。温度调整装置包括上侧加温体20和下侧加温体30。在该示例中，上侧加温体20和下侧加温体30是加热器。此外，上侧加温体20和下侧加温体30利用未图示的支承机构支承于夹住XY平台90的位置。样本容器10利用XY平台90而配置于上侧加温体20与下侧加温体30之间，以使得不与上侧加温体20和下侧加温体30相接触。图2表示上侧加温体20的俯视图，图3表示下侧加温体30的俯视图。作为本专利技术的特征，上侧加温体20具备以下构造：作为上侧加温体20的周边部的第1区域201的温度比包含中央部的第2区域202的温度要高。同样，下侧加温体30具备以下构造：作为下侧加温体30的周边部的第1区域301的温度比包含中央部的第2区域302的温度要高。上侧加温体20和下侧加温体30的端部的热量容易逃逸，温度容易下降。使热量容易逃逸的上侧加温体20的第1区域201和下侧加温体30的第1区域301的温度升高，从而能使保持于它们内侧的样本容器10的多个样本槽的温度保持一致。在本示例中，上侧加温体20是玻璃加热器。玻璃加热器具有将透明发热体夹在两块玻璃之间的构造。作为一个示例，通过使透明发热体蒸镀于玻璃上来制作玻璃加热器。如上所述，为了在第1区域201和第2区域202设置温度差，也可以将温度容易逃逸的第1区域201中的透明发热体进行密集配置，而将第2区域202中的透明发热体进行稀疏配本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种感受性测量装置，其特征在于，包括：平台，该平台对样本容器进行载放；温度调整装置，该温度调整装置具备配置于所述样本容器的上下的上侧加温体和下侧加温体；以及拍摄装置，该拍摄装置具备照明设备和拍摄设备，用于对所述样本容器进行拍摄，所述上侧加温体和所述下侧加温体分别具备以下构造：作为周边部的第1区域的温度比包含中央部的第2区域的温度要高。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.04.23 JP 2015-0887721.一种感受性测量装置，其特征在于，包括：平台，该平台对样本容器进行载放；温度调整装置，该温度调整装置具备配置于所述样本容器的上下的上侧加温体和下侧加温体；以及拍摄装置，该拍摄装置具备照明设备和拍摄设备，用于对所述样本容器进行拍摄，所述上侧加温体和所述下侧加温体分别具备以下构造：作为周边部的第1区域的温度比包含中央部的第2区域的温度要高。2.如权利要求1所述的感受性测量装置，其特征在于，所述上侧加温体和所述下侧加温体具备以下构造：所述第1区域的发热量比所述第2区域的发热量要大。3.如权利要求2所述的感受性测量装置，其特征在于，所述上侧加温体和所述下侧加温体的至少一方具备线状发热体，并且具备以下构造：所述第1区域内的相邻的线状发热体的间隔比所述第2区域内的相邻的线状发热体的间隔要小。4.如权利要求2所述的感受性测量装置，其特征在于，所述上侧加温体和所述下侧加温体的至少一方具备膜状发热体，并且具备以下构造：所述第1区域内的膜状发热体的厚度比所述第2区域内的膜状发热体的厚度要大。5.如权利要求1所述的感受性测量装置，其特征在于，所述上侧加温体和所述下侧加温体的至少一方是玻璃加热器。6.如权利要求5所述的感受性测量装置，其特征在于，所述上侧加温体是玻璃加热器，所述照明设备配置于所述上侧加热体的上方，所述下侧加热体具有用于所述拍摄设备的孔，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：峰川英明，前嶋宗郎，桝屋豪，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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