一种长余辉材料及制造方法,涉及发光材料领域,它的表达方式是:CaS:xEu↑[2+],yAl↑[3+]或CaS:xEu↑[2+],yY↑[3],其中x=0.02-0.005,表示的是替代基质中Ca↑[2+]离子的Eu↑[2+]离子所占的摩尔比例(以Ca↑[2+]离子为1摩尔时为基准);y=0.01-0.1,表示的是Al↑[3+]或Y↑[3+]替代基质中Ca↑[2+]离子的摩尔比例(以Ca↑[2+]离子为1摩尔时为基准)。该材料是通过CaCO↓[3],Eu↓[2]O↓[3],S粉,Al↓[2]O↓[3]或(Y↓[2]O↓[3])按一定摩尔比例配料,混合,烧结,冷却制得,它具有长余辉时间且材料光学性质稳定。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于未列入其他类目的应用材料领域,涉及发光材料领域,主要应用在荧光材料,夜视材料,指示标牌等长余辉材料领域。在长余辉材料领域,主要的材料有SrAl2O4Eu2+,Dy3+绿色;CaSBi3+,CaSBi3+,Tm3+,兰色;CaSEu2+,Tm3+红色等。其中,绝大多数以硫化物为主,主要原因是制作工艺比较成熟,而且碱土硫化物连续固溶体可以理想的调节荧光颜色。所以,不论是在光至发光(《发光学报》,第19卷,第四期,312,1998),还是在电至发光应用中(Shosaku Tanaka,J.Lumin.40&41,20,1988),硫化物荧光材料(Dongdong Jia,Boqun Wu,Jing Zhu,ACTA PHYSICASINICA(Oversea Ed.),Vol.8,No.11,Nov.813,1999)都有占主要地位。在现有的硫化物基质的长余辉荧光材料中,主要的成熟材料有CaSEu2+,Tm3+。它在应用中常常受到一些条件的限制。Tm3+存在293nm等处的自身吸收及相应的跃迁发射,293nm在CaSEu2+的275nm宽吸收带之中,这些Tm3+会在对Eu2+进行激发过程中造成能量的损失,也就是说CaSEu2+,Tm3+激发效率会有一定的降低,应用也受到一定的限制。为了拓展应用空间,丰富长余辉材料的种类,我们不断研究出新的长余材料。本专利技术的目的在于提供一种CaSEu2+复合掺杂闭壳层三价Y3+或Al3+离子形成的长余辉材料,该材料在余辉时间可同其他硫化物基质长余辉相比美的同时,保持了稳定的吸收性质,降低了能量损耗。基于上述目的,本专利技术的技术方案是在CaS中加入微量Eu2+以替代CaS基质中的Ca2+,并且在此基础上加入微量的Y3+或Al3+三价闭壳层离子,以替代CaS基质的中Ca2+离子,从而形成负电性的空穴陷阱长余辉材料,该材料的表达方式是CaSxEu2+,yAl3+或CaSxEu2+,yY3,其中x=0.02-0.005,表示的是替代基质中Ca2+离子的Eu2+离子所占的摩尔比例(以Ca2+离子为1摩尔时为基准);y=0.01-0.1,表示的是Al3+或Y3+替代基质中Ca2+离子的摩尔比例(以Ca2+离子为1摩尔时为基准)。上述材料的制造方法,包括配料、混合、烧结、冷却;具体工艺步骤(1)配料选用原料CaCO3,Al2O3,Y2O3,Eu2O3和S粉,各组分原料的纯度>99.99%,各组分原料粉末颗粒粒度小于10微米,先将各原料按摩尔比例进行配料,以Ca2+离子为1摩尔时为基准,配比(摩尔比)为CaCO3∶S∶Eu2O3∶Al2O3(或Y2O3)=1∶1∶(0.02-0.005)∶(0.1-0.01),然后再配入总的含S量的5-10%的过量S;加入过量S的主要目的是补足固为S与O2反应生成SO2造成S的“损耗”。(2)混合混合过程分两步先将各组分原料粉末雾态混合,雾态混合1-1.5小时,然后,研磨2-3小时,再雾态混合2-3小时;(3)烧结将上述混合好的料进行烧结,烧结环境通N2+S还原气体,将Eu3+还原成Eu2+,烧结温度为1050-1150℃,烧结时间是1-1.5小时,烧结容器为高纯氧化铝制耐高温器皿;反应方程式是(4)冷却在还原条件下冷却至室温,即可制得CaSEu2+,Al3+或CaSEu2+,Y3+长余辉材料。与现有技术相比,本专利技术材料的优点在于一、本专利技术材料有很长的余辉。CaSEu2+是没有余辉的,而CaSEu2+,Al3+或CaSEu2+,Y3+都是具有100分钟以上余辉时间,它们的长余辉时间可同其它硫化物基质长余辉材料相比美。二、CaSEu2+复合掺杂闭壳层三价离子Y3+或Al3+形成的CaSEu2+,Y3+或CaSEu2+,Al3+,不会改变原来材料的光学性质,比如激发、发射等,Y3+或Al3+除产生余辉外不参加任何能量过程,系统因掺杂的能量损失很小,且材料光学性质稳定。Y3+或Al3+产生空穴陷阱,不象一些复合掺杂产生电子陷阱的长余辉材料有能量损失,比如(CaSEu2+,Tm3+),Tm3+存在293nm等处自身吸收及相应的跃迁发射。293nm在CaSEu2+的275nm宽吸收带之中,这些Tm3+会在对Eu2+进行激发的过程中造成激发能量损失,也就是说,CaSEu2+,Tm3+激发效率会有一定的下降。而闭壳层的CaSEu2+,Y3+或CaSEu2+,Al3+的材料,由于没有紫外和可见范围内的吸收,所以不会造成额外的能量损失,从而降低Eu2+的激发效率,这一优点在材料的长期应用中会逐渐显现,对于在100分钟左右余辉的应用中会有很大的节能效果。三、复合掺杂Y3+或Al3+的CaSEu2+材料是一种新的长余辉材料,它们丰富了长余辉材料的种类,改变了长余辉材料种类稀少的现状,为应用拓展了空间。 附图说明。图1是CaSEu2+,Y3+和CaSEu2+,Al3+的余辉谱。图1中1为CaSEu2+,Y3+的余辉谱,2为CaSEu2+,Al3+的余辉谱。图2是CaSEu2+的激发谱。图3是CaSEu2+,Al3+的激发谱。图4是CaSEu2+,Y3+的激发谱。图5是CaSEu2+的发射谱。图6是CaSEu2+,Al3+的发射谱。图7是CaSEu2+,Y3+的发射谱。从图2-图7中可看出,CaSEu2+中掺杂闭壳层三价离子Al3+或Y3+后并不改变原来材料的光学性质,比如激发,发射等。证明Al3+或Y3+离子不参与任何能量过程。图8是Y3+(或Al3+)形成的空穴陷阱的机制示意图以及Tm3+形成的电子陷阱的机制示意图。其中A是Y3+或Al3+形成的空穴陷阱的机制示意图,B是Tm3+形成的电子陷阱的机制示意图。图8中1为CaS导带,2为CaS价带,3为空穴,4为电子,5为Y3+或Al3+形成的空穴陷阱,6为Tm3+形成的电子陷阱。从图8A中可看出无Y3+或Al3+的自身吸收和发射造成的能量损失。从图8B中可看出有Tm3+自身吸收和发射造成的能量损失。实施例通过本专利技术生产方法生产了三批CaSEu2+,Y3+(或CaSEu2+,Al3+)长余辉材料,生产的原料配比见表1,生产的工艺制度见表2,生产三批长余辉材料的余辉时间见表3。表1生产长余辉材料CaSEu2+,Y3+或CaSEu2+,Al3+的原料配比(单位摩尔) 表2生产长余辉材料的工艺制度 表3实施例长余辉材料的余辉时间 权利要求1.一种长余辉材料,其特征在于该材料是在CaS中加入微量Eu2+发光中心以替代CaS基质中的Ca2+,并且在此基础上加入微量的Y3+或Al3+三价闭壳层离子,以替代CaS基质中的Ca2+离子,从而形成负电性的空穴陷阱长余辉材料,该材料的表达方式是CaSxEu2+,yAl3+或CaSxEu2+,yY3,其中x=0.02-0.005,表示的是替代基质中Ca2+离子的Eu2+离子所占的摩尔比例(以Ca2+离子为1摩尔时为基准);y=0.01-0.1,表示的是Al3+或Y3+替代基质中Ca2+离子的摩尔比例(以Ca2+离子为1摩尔时为基准)。2.一种权利要求1所述长余辉材料的制造方法,包括配料、混合、烧结、冷却;其特征在于具体工艺步骤(本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种长余辉材料,其特征在于该材料是在CaS中加入微量Eu↑[2+]发光中心以替代CaS基质中的Ca↑[2+],并且在此基础上加入微量的Y↑[3+]或Al↑[3+]三价闭壳层离子,以替代CaS基质中的Ca↑[2+]离子,从而形成负电性的空穴陷阱长余辉材料,该材料的表达方式是:CaS:xEu↑[2+],yAl↑[3+]或CaS:xEu↑[2+],yY↑[3],其中x=0.02-0.005,表示的是替代基质中Ca↑[2+]离子的Eu↑[2+]离子所占的摩尔比例(以Ca↑[2+]离子为1摩尔时为基准);y=0.01-0.1,表示的是Al↑[3+]或Y↑[3+]替代基质中Ca↑[2+]离子的摩尔比例(以Ca↑[2+]离子为1摩尔时为基准)。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:贾冬冬,吴伯群,朱静,
申请(专利权)人:冶金工业部钢铁研究总院,
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。