阵列基板、彩膜基板和液晶显示面板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种阵列基板、彩膜基板和液晶显示面板，包括：衬底基板，衬底基板的上方设置有栅线和数据线，栅线和数据线限定出像素单元，非像素区域内形成有挡墙区域，挡墙区域内形成有挡墙结构；像素区域朝向栅线的一侧边缘中的至少部分为第一边缘，且第一边缘中在第一方向上与栅线的距离逐渐增大，挡墙结构朝向栅线的一侧边缘且与第一边缘对应的部分为第二边缘，第二边缘在第一方向上与栅线的距离逐渐增大。本实用新型专利技术的技术方案通过设置挡墙结构，可有效的阻挡隔垫物从非像素区域穿入至像素区域内。此外，挡墙结构的第二边缘会引导隔垫物向黑矩阵线宽逐渐增大的区域进行偏移，从而可进一步地避免隔垫物偏移至像素区域。

Array substrate, color film substrate and liquid crystal display panel

The utility model discloses a color film substrate and the array substrate, liquid crystal display panel includes: a substrate, a gate line and a data line is disposed above the substrate, the gate line and the data line define a pixel unit, a retaining wall region is formed in the pixel region is non, retaining wall structure form retaining wall region; side edge the pixel area toward the gate line at least a portion of the first edge, and the first edge in a first direction and a gate line distance increases, the edge of one side wall structure toward the gate line and the first edge portion corresponding to the second edge, the second edge in the first direction and the gate line distance increases. The technical scheme of the utility model can effectively prevent the spacer from penetrating from the non pixel area to the pixel area by setting the retaining wall structure. In addition, the second edge of the retaining wall will lead the spacer to shift to the region where the black line width increases gradually, thus further avoiding the offset of the spacer to the pixel region.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板、彩膜基板和液晶显示面板
本技术涉及显示
，特别涉及一种阵列基板、彩膜基板和液晶显示面板。
技术介绍
目前液晶显示屏(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)采用隔垫物(PhotoSpacer，简称PS)作为维持面板显示区液晶盒厚(CellGap)均匀度的主要方式。液晶显示屏包括显示区域和周边非显示区域，显示区域包括：像素区域和非像素区域，像素区域用于进行像素显示，在非像素区域内设置有用于控制像素区域进行显示的栅线、数据线、薄膜晶体管等结构，隔垫物被适当压缩并呈周期性排布于非像素区域中。在液晶显示屏受到较大外力作用时，阵列基板和彩膜基板会产生相对位移，此时隔垫物产生偏移，隔垫物的偏移会划伤阵列基板侧的取向膜。一旦隔垫物将位于像素区域内的取向膜划伤后，对应的像素区域会产生漏光，即该像素区域中出现亮点(又可称为蓝点，BlueSpot)，影响液晶显示屏的显示效果。为解决该技术问题，现有技术中会通过增大位于彩膜基板侧的黑矩阵的线宽，即扩大非像素区域的面积，减小像素区域的面积，以保证隔垫物不会偏移至像素区域内。然而，现有的这种增大黑矩阵的线宽的技术手段会降低像素单元的开口率，不利于液晶显示屏的高分辨率实现。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种阵列基板、彩膜基板和液晶显示面板。为实现上述目的，本技术提供了一种阵列基板，包括：衬底基板，所述衬底基板的上方设置有栅线和数据线，所述栅线和所述数据线限定出若干个像素单元，所述像素单元包括：像素区域和非像素区域，所述非像素区域内形成有挡墙区域，所述挡墙区域位于所述栅线所对应区域和所述像素区域之间，所述挡墙区域内形成有用于阻挡隔垫物从所述非像素区域穿入至像素区域的挡墙结构；可选地，所述栅线沿第一方向延伸，所述像素区域朝向栅线的一侧边缘中的至少部分为第一边缘，且所述第一边缘中在所述第一方向上与所述栅线的距离逐渐增大，所述挡墙结构朝向栅线的一侧边缘且与所述第一边缘对应的部分为第二边缘，所述第二边缘在所述第一方向上与所述栅线的距离逐渐增大。可选地，所述挡墙区域朝向栅线的一侧设置有沟槽区域，所述沟槽区域内设置有用于引导隔垫物沿所述挡墙结构移动的沟槽结构，所述沟槽结构与所述挡墙结构相邻且平行设置。可选地，所述栅线和所述数据线之间设置有栅绝缘层，所述薄膜晶体管的上方设置有钝化层；所述栅绝缘层上对应所述沟槽区域的位置形成有用于构成所述沟槽结构的第一过孔，和/或，所述钝化层上对应所述沟槽区域的位置形成有用于构成所述沟槽结构的第二过孔。可选地，所述挡墙结构远离栅线的一端设置有用于限制所述隔垫物继续移动的限位结构。可选地，所述限位结构与所述挡墙结构一体成型。可选地，所述限位结构朝向所述栅线的一侧设置有用于释放所述隔垫物中应力的容纳槽。可选地，所述容纳槽的底部连通至所述衬底基板。可选地，所述挡墙结构的截面形状为直线状、弧线状或三角形。可选地，所述挡墙结构包括：设置于所述挡墙区域内的垫高结构，所述垫高结构包括：第一垫高图形，和/或第二垫高图形，和/或第三垫高图形，和/或第四垫高结构；所述非像素区域中设置有薄膜晶体管，所述像素区域中设置有像素电极；所述第一垫高图形与所述栅线同层设置；所述第二垫高图形与所述薄膜晶体管中的有源层同层设置；所述第三垫高图形与所述薄膜晶体管中的源、漏极同层设置；所述第四垫高图形与所述像素电极同层设置。为实现上述目的，本技术还提供了一种彩膜基板，彩膜基板用于与上述的阵列基板进行对盒，所述彩膜基板包括：隔垫物，所述隔垫物的形状为平行四边形或椭圆形。为实现上述目的，本技术还提供了一种液晶显示面板，包括：阵列基板，所述阵列基板采用上述的阵列基板。可选地，还包括：彩膜基板，所述彩膜基板采用上述的彩膜基板。本技术具有以下有益效果：本技术提供了一种阵列基板、彩膜基板和液晶显示面板，该阵列基板包括：衬底基板，衬底基板的上方设置有栅线和数据线，栅线和数据线限定出若干个像素单元，像素单元包括：像素区域和非像素区域，非像素区域内形成有挡墙区域，挡墙区域位于栅线所对应区域和像素区域之间，挡墙区域内形成有用于阻挡隔垫物从非像素区域穿入至像素区域的挡墙结构；像素区域朝向栅线的一侧边缘中的至少部分为第一边缘，且第一边缘中在第一方向上与栅线的距离逐渐增大，挡墙结构朝向栅线的一侧边缘且与第一边缘对应的部分为第二边缘，第二边缘在第一方向上与栅线的距离逐渐增大。本技术的技术方案通过在栅线所对应区域和像素区域之间设置挡墙结构，可有效的阻挡隔垫物从非像素区域穿入至像素区域内。此外，挡墙结构的第二边缘会引导隔垫物向黑矩阵线宽逐渐增大的区域进行偏移，从而可进一步地避免隔垫物偏移至像素区域。附图说明图1为本技术实施例一提供的一种阵列基板的俯视图；图2为图1中A-A向的截面示意图；图3为本技术中挡墙结构的三种不同结构的截面示意图；图4为本技术实施例二提供的一种的阵列基板的俯视图；图5为图4中B-B向的截面示意图；图6为本技术中隔垫物的两种不同结构的截面示意图。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图对本技术提供的一种阵列基板、彩膜基板和液晶显示面板进行详细描述。图1为本技术实施例一提供的一种阵列基板的俯视图，图2为图1中A-A向的截面示意图，如图1和图2所示，该阵列基板包括：衬底基板10，衬底基板10的上方设置有栅线1和数据线2，栅线1沿第一方向延伸，数据线2沿第二方向延伸，栅线1和数据线2限定出若干个像素单元，像素单元包括：像素区域3和非像素区域4，非像素区域4内形成有挡墙区域5a，挡墙区域5a位于栅线1所对应区域和像素区域3之间，挡墙区域5a内形成有用于阻挡隔垫物从非像素区域4滑动至像素区域的挡墙结构5。本领域技术人员公知的是，在阵列基板与彩膜基板进行对盒后，位于彩膜基板上的隔垫物会与阵列基板接触处于压缩状态，且其在阵列基板上的正投影8落入栅线1所处的区域。本技术的技术方案通过在栅线1所对应区域和像素区域3之间设置挡墙结构5，可在阵列基板和彩膜基板之间产生相对位移时，有效的阻挡隔垫物从非像素区域4滑动至像素区域3内，从而可避免像素区域3中的取向层14被划伤。需要说明的是，附图中仅示例性的画出了仅在栅线1和位于该栅线1下侧的像素区域3之间的区域设置挡墙结构5的情况。本领域技术人员应该理解的是，在本技术中也可仅在栅线1和位于该栅线1上侧的像素区域之间的区域设置挡墙结构5，或者在栅线1的上、下两侧均挡墙结构5，其均应属于本技术所保护的范围，具体情况此处不再进行详细描述。优选地，像素区域3朝向栅线1的一侧边缘中的至少部分为第一边缘，且第一边缘在第一方向上与栅线1的距离逐渐增大，挡墙结构5朝向栅线1的一侧边缘且与第一边缘对应的部分为第二边缘，第二边缘在第一方向上与栅线1的距离逐渐增大。需要说明的是，本实施例中以第一方向为附图中的水平向左方向X，第二方向为附图中的水平向右方向Y为例进行示例性说明，即图1中的像素区域3朝向栅线1的一侧边缘中存在部分边缘(即第一边缘)，其与栅线1之间的距离在水平向左X的方向上逐渐增大；与此同时，挡墙结构5朝向栅线1的一侧边本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板，所述衬底基板的上方设置有栅线和数据线，所述栅线和所述数据线限定出若干个像素单元，所述像素单元包括：像素区域和非像素区域，所述非像素区域内形成有挡墙区域，所述挡墙区域位于所述栅线所对应区域和所述像素区域之间，所述挡墙区域内形成有用于阻挡隔垫物从所述非像素区域穿入至像素区域的挡墙结构。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板，所述衬底基板的上方设置有栅线和数据线，所述栅线和所述数据线限定出若干个像素单元，所述像素单元包括：像素区域和非像素区域，所述非像素区域内形成有挡墙区域，所述挡墙区域位于所述栅线所对应区域和所述像素区域之间，所述挡墙区域内形成有用于阻挡隔垫物从所述非像素区域穿入至像素区域的挡墙结构。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述栅线沿第一方向延伸，所述像素区域朝向栅线的一侧边缘中的至少部分为第一边缘，且所述第一边缘中在所述第一方向上与所述栅线的距离逐渐增大，所述挡墙结构朝向栅线的一侧边缘且与所述第一边缘对应的部分为第二边缘，所述第二边缘在所述第一方向上与所述栅线的距离逐渐增大。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述挡墙区域朝向栅线的一侧设置有沟槽区域，所述沟槽区域内设置有用于引导隔垫物沿所述挡墙结构移动的沟槽结构，所述沟槽结构与所述挡墙结构相邻且平行设置。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述衬底基板的上方且对应非像素区域中形成有薄膜晶体管，所述栅线和所述数据线之间设置有栅绝缘层，所述薄膜晶体管的上方设置有钝化层；所述栅绝缘层上对应所述沟槽区域的位置形成有用于构成所述沟槽结构的第一过孔，和/或，所述钝化层上对应所述沟槽区域的位置形成有用于构成所述沟槽结构的第二过孔。5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述挡墙结构远...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘德强，王菲菲，孙志华，高玉杰，张洪林，赵合彬，
申请(专利权)人：北京京东方显示技术有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11