连续型镀膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种连续型镀膜装置。该连续型镀膜装置包括依次紧靠设置并能够分别独立形成密封结构的上料机构、加热机构、缓冲机构、镀膜机构及出料机构，所述上料机构、所述加热机构、所述缓冲机构、所述镀膜机构及所述出料机构均与抽真空机构相连接；所述加热结构将加热处理的工件经所述第一传送通道传输到所述缓冲机构；所述缓冲机构具有第二腔室，所述第二腔室的一侧壁设有第二传送通道，所述第二传送通道与所述第一传送通道相连通，所述第二传送通道内安装有第二开合件；所述镀膜机构具有第三腔室，所述镀膜机构将离子沉积处理的工件经所述第五传送通道传输到所述出料机构。该连续型镀膜装置能够稳定持续地对螺丝、螺杆等工件进行PVD镀膜。

Continuous coating device

The present invention relates to a continuous coating device. The continuous coating device includes close to the set and can be independently formed seal structure of the feeding mechanism, a heating mechanism, a buffering mechanism, coating mechanism and a feeding mechanism, a feeding mechanism, a heating mechanism, the buffer mechanism, the coating mechanism and the feeding mechanism is connected with the vacuum pumping mechanism; the heating structure for heating the workpiece processing to the buffer mechanism via the first transmission channel; the buffer mechanism has second chambers, one side wall of the second chamber is provided with a second transmission channel, the second channel and send the first transmission channel is communicated with the second the delivery channel is arranged in the opening and closing second parts; the coating mechanism has third chambers, wherein the coating mechanism workpiece ion deposition processing through the fifth channel transmission to the discharging Institution. The continuous coating device can stably and continuously carry out PVD coating on screws, screws and other workpieces.

【技术实现步骤摘要】
连续型镀膜装置
本专利技术涉及螺丝生产设备
，特别是涉及一种连续型镀膜装置。
技术介绍
随着经济发展和电子产业不断升级，需要对产品表面进行镀膜处理使其满足新的性能或外观要求。如产品表面镀制金属薄膜以具有装饰性效果；产品表面镀制硬质薄膜以增加使用寿命；产品表面镀制耐腐型薄膜以使其能够酸性或碱性环境中使用。产品表面镀膜通常会采用电镀法、熔融金属浸镀法、化学处理法或物理气相沉积(PVD)法。其中，PVD法制备的镀膜具有高硬度、低摩擦系数、较好的耐磨性和化学稳定性等优点。但是，当采用PVD法对螺丝、螺杆等工件制备镀膜时，传统的镀膜装置难以稳定持续地对螺丝、螺杆等工件进行镀膜，不能实现低成本大规模量产，生产效率较低，制造成本较高。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种能够稳定持续地对螺丝、螺杆等工件进行PVD镀膜的连续型镀膜装置。一种连续型镀膜装置，包括依次紧靠设置并能够分别独立形成密封结构的上料机构、加热机构、缓冲机构、镀膜机构及出料机构，所述上料机构、所述加热机构、所述缓冲机构、所述镀膜机构及所述出料机构均与抽真空机构相连接；所述上料机构用于将工件传输到所述加热机构；所述加热机构具有第一腔室，所述第一腔室的侧壁设有第一传送通道，所述第一传送通道内安装有第一开合件，所述第一开合件用于控制所述第一传送通道的打开或闭合；所述加热结构将加热处理的工件经所述第一传送通道传输到所述缓冲机构；所述缓冲机构具有第二腔室，所述第二腔室的一侧壁设有第二传送通道，所述第二传送通道与所述第一传送通道相连通，所述第二传送通道内安装有第二开合件，所述第二开合件用于控制所述第二传送通道的打开或闭合；所述第二腔室的另一侧壁设有第三传送通道，所述第三传送通道内安装有第三开合件，所述第三开合件用于控制所述第三传送通道的打开或闭合；所述缓冲机构将真空处理完成的工件经所述第三传送通道传输到所述镀膜机构；所述镀膜机构具有第三腔室，所述第三腔室的一侧壁设有第四传送通道，所述第四传送通道与所述第三传送通道相连通，所述第四传送通道内安装有第四开合件，所述第四开合件用于控制所述第四传送通道的打开或闭合；所述第三腔室的另一侧壁设有第五传送通道，所述第五传送通道内安装有第五开合件，所述第五开合件用于控制所述第五传送通道的打开或闭合；所述镀膜机构将离子沉积处理完成的工件经所述第五传送通道传输到所述出料机构；所述出料机构用于放置及输送工件。在其中一个实施例中，所述加热机构包括第一传输单元及加热单元，所述第一传输单元位于所述第一腔室中，所述第一传输单元用于将工件传输到所述缓冲机构；所述加热单元设于所述第一腔室的侧壁，所述加热单元用于对所述第一传输单元上的工件进行加热处理。在其中一个实施例中，所述第一传输单元为滚筒结构。在其中一个实施例中，所述缓冲机构包括第二传输单元，所述第二传输单元位于所述第二腔室中，所述第二传输单元用于将工件传输到所述镀膜机构。在其中一个实施例中，所述第二传输单元为滚筒结构。在其中一个实施例中，所述镀膜机构包括第三传输单元及溅射靶材，所述第三传输单元位于所述第三腔室中，所述第三传输单元用于将工件传输到所述出料机构；所述溅射靶材设于所述第三腔室的侧壁上，且位于所述第三传输单元的上方，所述溅射靶材用于对所述第三传输单元上的工件进行离子沉积处理。在其中一个实施例中，所述第三传输单元为滚筒结构。在其中一个实施例中，所述溅射靶材有多个，多个所述溅射靶材依次并列安装于所述第三腔室的侧壁。在其中一个实施例中，所述上料机构具有第四腔室，所述上料机构包括第一传送带，所述第一传送带位于所述第四腔室中，所述第一传送带用于将工件传输到所述加热机构。在其中一个实施例中，所述出料机构具有第五腔室，所述出料机构包括第二传送带，所述第二传送带位于所述第五腔室中，所述第二传送带用于输送工件。在其中一个实施例中，还包括固定盘，所述固定盘设有多个网孔，所述固定盘用于装夹工件并带动工件在所述上料机构、所述加热机构、所述缓冲机构、所述镀膜机构及所述出料机构之间移动传输。在其中一个实施例中，所述上料机构、所述加热机构、所述缓冲机构、所述镀膜机构及所述出料机构均是由上盖与箱体扣合形成的密封结构，所述上盖可转动地安装在所述箱体上。在其中一个实施例中，所述镀膜机构有多个，多个所述镀膜机构依次并列设置。在其中一个实施例中，还包括冷却机构，所述冷却机构与所述镀膜机构相连接。在其中一个实施例中，所述上料机构、所述加热机构、所述缓冲机构、所述镀膜机构及所述出料机构呈直线型布置。本专利技术中连续型镀膜装置包括依次紧靠设置并能够分别独立形成密封结构的上料机构、加热机构、缓冲机构、镀膜机构及出料机构，所述上料机构、所述加热机构、所述缓冲机构、所述镀膜机构及所述出料机构均与抽真空机构相连接。将工件放置到上料机构后，抽真空机构开始进行抽真空，上料机构、加热机构、缓冲机构、镀膜机构及出料机构均为真空环境。通过设置加热机构及缓冲机构能够对工件先进行加热和预抽真空等加工工艺，工件再进入到镀膜机构进行离子沉积，进而能够稳定地对工件进行PVD镀膜。此外，该连续型镀膜装置通过设有第一传送通道、第二传送通道、第三传送通道、第四传送通道及第五传送通道，并分别对应地安装有第一开合件、第二开合件、第三开合件、第四开合件及第五开合件，能够保证加热机构、缓冲机构及镀膜机构的工作环境要求，实现了各机构的动态密封，确保对工件连续逐步进行加热、预抽真空及离子沉积等加工工艺，进而能够自动持续地对工件进行PVD镀膜。该连续型镀膜装置能够实现大规模量产，其生产效率高，制造成本低。附图说明图1为一实施方式中连续型镀膜装置的结构示意图；图2为如图1所示的连续型镀膜装置中镀膜机构的结构示意图。附图标记说明如下：10.连续型镀膜装置；100.上料机构，110.第一传送带；200.加热机构，210.第一腔室，220.第一传输单元，230.加热单元；300.缓冲机构，310.第二腔室，320.第二传输单元；400.镀膜机构，410.第三腔室，420.第三传输单元，430.溅射靶材；500.出料机构，510.第二传送带；610.第一传送通道，620.第三传送通道，630.第五传送通道；730.第五开合件；800.抽真空机构；900.固定盘。具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。如图1所示的实施方式中，该连续型镀膜装置10包括依次紧靠设置并能够分别独立形成密封结构的上料机构100、加热机构200、缓冲机构3本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种连续型镀膜装置，其特征在于，包括依次紧靠设置并能够分别独立形成密封结构的上料机构、加热机构、缓冲机构、镀膜机构及出料机构，所述上料机构、所述加热机构、所述缓冲机构、所述镀膜机构及所述出料机构均与抽真空机构相连接；所述上料机构用于将工件传输到所述加热机构；所述加热机构具有第一腔室，所述第一腔室的侧壁设有第一传送通道，所述第一传送通道内安装有第一开合件，所述第一开合件用于控制所述第一传送通道的打开或闭合；所述加热结构将加热处理完成的工件经所述第一传送通道传输到所述缓冲机构；所述缓冲机构具有第二腔室，所述第二腔室的一侧壁设有第二传送通道，所述第二传送通道与所述第一传送通道相连通，所述第二传送通道内安装有第二开合件，所述第二开合件用于控制所述第二传送通道的打开或闭合；所述第二腔室的另一侧壁设有第三传送通道，所述第三传送通道内安装有第三开合件，所述第三开合件用于控制所述第三传送通道的打开或闭合；所述缓冲机构将真空处理完成的工件经所述第三传送通道传输到所述镀膜机构；所述镀膜机构具有第三腔室，所述第三腔室的一侧壁设有第四传送通道，所述第四传送通道与所述第三传送通道相连通，所述第四传送通道内安装有第四开合件，所述第四开合件用于控制所述第四传送通道的打开或闭合；所述第三腔室的另一侧壁设有第五传送通道，所述第五传送通道内安装有第五开合件，所述第五开合件用于控制所述第五传送通道的打开或闭合；所述镀膜机构将离子沉积处理完成的工件经所述第五传送通道传输到所述出料机构；所述出料机构用于放置及输送工件。...

【技术特征摘要】
1.一种连续型镀膜装置，其特征在于，包括依次紧靠设置并能够分别独立形成密封结构的上料机构、加热机构、缓冲机构、镀膜机构及出料机构，所述上料机构、所述加热机构、所述缓冲机构、所述镀膜机构及所述出料机构均与抽真空机构相连接；所述上料机构用于将工件传输到所述加热机构；所述加热机构具有第一腔室，所述第一腔室的侧壁设有第一传送通道，所述第一传送通道内安装有第一开合件，所述第一开合件用于控制所述第一传送通道的打开或闭合；所述加热结构将加热处理完成的工件经所述第一传送通道传输到所述缓冲机构；所述缓冲机构具有第二腔室，所述第二腔室的一侧壁设有第二传送通道，所述第二传送通道与所述第一传送通道相连通，所述第二传送通道内安装有第二开合件，所述第二开合件用于控制所述第二传送通道的打开或闭合；所述第二腔室的另一侧壁设有第三传送通道，所述第三传送通道内安装有第三开合件，所述第三开合件用于控制所述第三传送通道的打开或闭合；所述缓冲机构将真空处理完成的工件经所述第三传送通道传输到所述镀膜机构；所述镀膜机构具有第三腔室，所述第三腔室的一侧壁设有第四传送通道，所述第四传送通道与所述第三传送通道相连通，所述第四传送通道内安装有第四开合件，所述第四开合件用于控制所述第四传送通道的打开或闭合；所述第三腔室的另一侧壁设有第五传送通道，所述第五传送通道内安装有第五开合件，所述第五开合件用于控制所述第五传送通道的打开或闭合；所述镀膜机构将离子沉积处理完成的工件经所述第五传送通道传输到所述出料机构；所述出料机构用于放置及输送工件。2.根据权利要求1所述的连续型镀膜装置，其特征在于，所述加热机构包括第一传输单元及加热单元，所述第一传输单元位于所述第一腔室中，所述第一传输单元用于将工件传输到所述缓冲机构；所述加热单元设于所述第一腔室的侧壁，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：谭志，
申请(专利权)人：维达力实业深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44