用于偏振膜的抗静电涂布组合物以及使用所述组合物的抗静电偏振膜制造技术

本发明专利技术公开了用于偏振膜的使得用于液晶显示器的所述偏振膜的表面具有抗静电性能的导电聚合组合物。所述组合物涂覆在所述偏振膜的表面上而无需其他表面处理，然后进行干燥，从而制造高度可靠的抗静电偏振膜，所述偏振膜在所述偏振膜和粘合剂层之间具有高粘合强度，并且导致在所述偏振膜附着在基板上并随后与之分离时，所述偏振膜的粘合剂层没有转移至玻璃或透明聚合物基板。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于偏振膜以使得用于液晶显示器的所述偏振膜具有抗静电性能的抗静电组合物，并涉及使用所述组合物制造的抗静电偏振膜。
技术介绍
通常，以将液晶组分注入到分别具有薄膜晶体管(TFT)和滤色片的两片玻璃或透明聚合物膜基板之间的形式制造液晶显示面板。这样，偏振膜粘附在所述两片基板的外表面。通过将纤维素类透明聚合物膜粘附在由聚乙烯醇(PVA)膜和诸如碘的二色性材料构成的偏振片的两个表面上而形成的偏振膜仅允许由光源提供的光在一个方向上振动从而入射到所述液晶面板上。所述偏振膜以粘附在所述TFT或滤色片基板上的状态使用。至此，将丙烯酸粘合剂或甲基丙烯酸粘合剂涂覆在粘附至所述基板的偏振膜的一个表面上。然后，将离型膜附着在所述粘合剂层的上表面上。在用于将所述偏振膜附着在所述基板上的模块工序中，移除所述离型膜然后在预定压力下将所述偏振膜的粘合表面粘合至所述基板上。这样，由于传统偏振膜未经过抗静电处理，在移除所述离型膜时可产生约20kV以上的高带电电压的静电，因此导致各种静电问题。例如，所述离型膜移除后在所述偏振膜的粘合表面上产生的静电导致静电引力，从而吸附四周的杂质并不利地使杂质附着在所述偏振膜上。此外，当从所述偏振膜上以电学方式释放静电时，所述TFT的金属图案可能遭到破坏。而且，当处于静电状态的偏振膜粘合于所述基板时，填充在所述基板之间的液晶的取向状态由于静电而扭曲，由此不能进行随后的工序而必须延迟相当的一段时间。此外，在所述液晶不能恢复其原始状态的情况下，-->它们经过诸如热处理等额外工序，然后进行随后的工序。在严重情况下，即使进行所述额外工序，所述液晶的取向状态也没有恢复，因此再无可能使用。为了缓解这些静电问题，已提出了传统方法，其中将多个电离器安装在用于将所述偏振膜附着在所述基板上的加工设备的四周以藉此用带有相反极性的离子中和在所述偏振膜上产生的静电。然而，由于所述方法用于人为地中和在所述偏振膜上产生的相当大量的静电，实质上不可能用其抑制静电本身的产生。因此，为解决所述问题，最优选的是所述偏振膜直接经过抗静电处理使得静电在所述偏振膜上的产生减至最小。用于对所述偏振膜的表面进行抗静电处理的传统技术包括使用离子型或非离子型表面活性剂作为抗静电剂或者使用导电聚合物作为抗静电剂的方法。使用表面活性剂作为抗静电剂的方法是临时技术，这是因为在采用所述表面活性剂的涂布工序后抗静电性能短暂保持，但在数月的时间后将消失。使用表面活性剂得到的抗静电特性是通过将表面活性剂与周围水分子结合而表现出来的，因此其高度依赖于湿度。在离子型表面活性剂的情况下，有非常大的可能导致离子杂质，因此其实际应用受到限制。为了解决这些问题，公开了一种将导电聚合物涂覆在偏振膜表面上的方法(韩国专利申请第10-2005-0118303号)。在所述导电聚合物中，从德国的H.C.Starck处得到的聚(3，4-乙撑二氧噻吩)(PEDOT)易于处理，具有高透明度，并且导电性随时间几乎不发生变化，因此非常适于用作偏振膜用抗静电剂。即，当含有聚(3，4-乙撑二氧噻吩)作为有效组分的抗静电层形成在所述偏振膜和所述偏振膜的粘合剂之间时，在移除用于将所述偏振膜附着在所述基板上的离型膜时产生的静电能够得到有效地控制，从而解决了上述静电问题。在其中在所述偏振膜表面上形成有含有聚(3，4-乙撑二氧噻吩)作为有效组分的抗静电层的情况下，所述偏振膜可被赋予抗静电性能，但可招致以下加工问题。在将所述偏振膜附着到所述基板上的模块工序中，在移除所述离型膜之后，所述偏振膜的粘合表面在预定压力下粘合于所-->述基板。这样，当所述偏振膜不正确地附着于所述基板时，应当在检查工序中将其与所述基板分开。将没有正确附着的偏振膜与所述基板分开并再加工的工序被称之为“再加工工序”。这样，在所述偏振膜与所述基板的分离中，只有在所述偏振膜的粘合剂完全从所述基板上移除时，才有可能通过所述再加工工序再次使用所述玻璃基板。在所述抗静电层形成在所述偏振膜和所述偏振膜的粘合剂之间的情况下，可出现这样的问题，即在所述再加工工序中所述偏振膜的粘合剂不能完全移除而残留在所述基板上。这是因为由于在所述偏振膜和所述粘合剂之间形成的抗静电层降低了所述偏振膜和所述粘合剂之间的粘合强度。为缓解所述问题，应当改进能防止所述偏振膜和所述粘合剂之间粘合强度降低的用于抗静电层的组合物。即，在所述偏振膜表面上形成含有聚(3，4-乙撑二氧噻吩)或其改性导电聚合物作为有效组分的抗静电层，并在所述抗静电层上形成粘合剂层，由此制造抗静电偏振膜。为此，需要开发含有导电聚合物的新型抗静电涂布组合物以提高所述偏振膜和所述粘合剂层之间的粘合强度从而在所述再加工工序中将所述粘合剂从所述基板上完全移除，以及使用所述新型抗静电涂布组合物制造的抗静电偏振膜。
技术实现思路
技术问题因此，牢记在现有技术中出现的上述问题从而作出了本专利技术，而本专利技术的目的是提供用于偏振膜的抗静电涂布组合物，其能够从基板上完全移除粘合剂层，即，通过将具有导电聚合物作为有效组分的抗静电层形成在所述偏振膜上然后在所述抗静电层上形成所述粘合剂层来制造偏振膜，当将所述偏振膜附着至所述基板的表面上然后将其分离时，所述偏振膜和所述粘合剂层之间的粘合强度得以最大化，本专利技术还提供了使用该组合物制造的抗静电偏振膜产品。技术方案为了实现上述目的，本专利技术提供了用于偏振膜的抗静电涂布组合物，-->其包括混合在一起的导电聚合物和有机酸化合物，将所述组合物涂覆在所述偏振膜和所述粘合剂层之间从而制造抗静电偏振膜。即，本专利技术的用于偏振膜的抗静电涂布组合物包含导电聚合物作为有效组分，还包含有机酸化合物，并由此涂覆在所述偏振膜和所述粘合剂层之间。此外，本专利技术提供了抗静电偏振膜，其包括基膜、采用上述组合物在所述基膜的一个表面上形成的抗静电层，和在所述抗静电层上形成的粘合剂层。有益效果根据本专利技术，可在偏振膜表面上形成抗静电层，而无需诸如底涂处理或电晕处理等其他表面处理，从而制造偏振膜而无需担心在从所述偏振膜上移除保护膜或离型膜时产生静电。此外，根据本专利技术，能对所述偏振膜进行再加工，因此具有缺陷的偏振膜在其制造过程中不会被浪费而能被回收。附图说明图1是显示本专利技术的抗静电偏振膜的剖面图。具体实施方式在下文中，参考附图，给出了在本专利技术的抗静电偏振膜中用于抗静电层的组合物及其制备方法的详细描述。图1是显示本专利技术的抗静电偏振膜的剖面图。如图1所示，所述抗静电偏振膜100包括偏振膜110、形成在所述偏振膜110的一个表面上的含有导电聚合物作为有效组分的抗静电层120和在所述抗静电层120上形成的用于偏振膜的丙烯酸粘合剂层130。作为所述偏振膜110，可用的是通过将纤维素类透明聚合物膜附着在由聚乙烯醇(PVA)膜和诸如碘等二色性材料构成的偏振片的两个表面上形成的膜。在本专利技术中，通过将含有导电聚合物作为有效组分的抗静电溶液涂-->覆在所述偏振膜的一个表面上然后将其干燥而形成抗静电层120。所述抗静电溶液基本上由所述导电聚合物、有机酸化合物和溶剂构成。这样，优选的是将所述有机酸化合物的量设定为所述导电聚合物的量的1～50倍。在所述抗静电溶液中，所述导电聚合物可列举出聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩，或作为其衍生物的改性导电聚合物。具体而言，作为聚本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于偏振膜的抗静电涂布组合物，所述组合物包含导电聚合物和有机酸化合物（在所述导电聚合物具有作为掺杂剂的有机酸化合物的情况下，除了用作所述导电聚合物的掺杂剂的酸化合物之外加入），将所述抗静电涂布组合物涂覆在所述偏振膜和粘合剂层之间。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】KR 2006-3-14 10-2006-00233021.一种用于偏振膜的抗静电涂布组合物，所述组合物包含导电聚合物和有机酸化合物(在所述导电聚合物具有作为掺杂剂的有机酸化合物的情况下，除了用作所述导电聚合物的掺杂剂的酸化合物之外加入)，将所述抗静电涂布组合物涂覆在所述偏振膜和粘合剂层之间。2.如权利要求1所述的组合物，其中，所述有机酸化合物是选自由包括聚苯乙烯磺酸和聚乙烯基磺酸的聚磺酸化合物、包括聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸和聚马来酸的聚羧酸化合物和包括对甲苯磺酸、苯磺酸、甲磺酸和三氟甲磺酸的低分子量有机酸化合物组成的组中的一种化合物或两种以上化合物的混合物。3.如权利要求1或2所述的组合物，其中，所述导电聚合物选自由聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩及其衍生物和具有聚噻吩类导电聚合物结构单元并与包括聚乙二醇和聚(甲基)丙烯酸酯的聚合物共聚的导电聚合物组成的组，所述聚噻吩的衍生物是其改性导电聚合物，包括聚(3，4-乙撑二氧噻吩)、羟甲基化聚(3，4-乙撑二氧噻吩)、聚(3，4-烷撑二氧噻吩)、聚(3，4-二烷基噻吩)、聚(3，4-环烷基噻吩)和聚(3，4-二烷氧基噻吩)。4.如权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，所述有机酸化合物的用量为包括聚(3，4-乙撑二...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐光锡，金钟银，金太永，金元中，李太熙，
申请(专利权)人：徐光锡，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]