The invention relates to a voltage controlled plasma tunable optical filter, which comprises a short pass filter (SWP) has selected the plasma cutoff wavelength of lambda S to define, long wave plasma filter (LWP) has selected the cutoff wavelength of lambda L with provisions, which is less than L lambda lambda S, at least 1 short pass a long pass filter and the 1 filter presents the voltage controlled spectral response, short wave pass filter and long wave pass filter to generate the plasma tunable optical filter, prescribed cutoff wavelength and cut-off wavelength lambda lambda L S wavelength range, a L and a S based on the selected value, provide tunable center wavelength and independent modulation bandwidth, wherein each of the plasma filter containing a plurality of voltage control transparent conductive strip deposited on a transparent conductive material, and insulated, adjusting the voltage on the transparent conductive strip can change the corresponding plasma filter Spectral response of an instrument. The advantage of the invention is to provide a real-time varying filtering response for various instrumentation applications.
【技术实现步骤摘要】
一种电压控制等离子可调光学滤波器
本专利技术涉及一种关于仪器应用中的光学滤波器,特别是中心波长和波长带宽可变的电压调制光学滤波器。
技术介绍
荧光显微术常用三个分立光学滤波器:一个激发光滤波器用于从系统的照明光源选出合适波长光,一个发射滤波器限制探测器接收的从被照射样品发出的荧光波长光谱,一个二向色性滤波器位于激发光滤波器和样品之间,同时也位于样品与发射滤波器之间。二向色性滤波器用于从发射光波段中分离出激发光波段。拉曼光谱术用类似滤波器组合。流式细胞术用大量分立发散滤波器来提取通过仪器的细胞“流”的特定波长相关信息。上述这些成像系统中的滤波器元件需具有极好的性能来获取准确的测量结果。特别是当今的高光谱荧光显微术提供了多光谱段信号采集产生连续光谱输出。不同于传统光谱术,高光谱显微术需要使用各种不同滤波器。已有技术集合了光栅、棱镜和机械可调滤波器,提供所需带宽内的特征。但存在信号丢失问题,流式细胞术使用大量分立滤波器也有相同顾虑。当前为这些用途而创造可调光学滤波器的尝试依赖于机械结构,如马达或微机电器件。这些方案的局限性包括移动部件,元件间角度错位和较低响应时间,限制了这些机械结构的有效应用。基于声光结构的可调滤波器也被开发,但已知也存在响应较慢和体积大,而且可调波长范围也有限制。于是,各种不同应用的专业领域需要可调光学滤波器具有较快响应时间,宽调制范围。已有技术中的需要由本专利技术实现,包括仪器应用中的光学滤波器,特别是电压调制光学滤波器,中心波长和带宽独立可变,能够为各种仪器应用提供实时,高速变化滤波响应。
技术实现思路
本专利技术中含有系列短波通滤波器(SW ...
【技术保护点】
一种电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于包括短波通等离子滤波器(SWP)以规定呈现选定的截止波长λS,长波通等离子滤波器(LWP)以规定呈现选定的截止波长λL,其中λL小于λS,至少1个短波通滤波器和1个长波通滤波器呈现电压控制光谱响应,短波通滤波器和长波通等离子滤波器生成可调光学滤波器,规定截止波长λL和截止波长λS之间波长范围,基于λL和λS选定值,提供可调中心波长和独立调制带宽,其中每个等离子滤波器含有多个电压控制透明导电长条沉积在透明导电材料上,并与之绝缘,调节透明导电长条上的电压可以改变相应等离子滤波器的光谱响应。
【技术特征摘要】
2016.04.18 US 15/131,2491.一种电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于包括短波通等离子滤波器(SWP)以规定呈现选定的截止波长λS,长波通等离子滤波器(LWP)以规定呈现选定的截止波长λL,其中λL小于λS,至少1个短波通滤波器和1个长波通滤波器呈现电压控制光谱响应,短波通滤波器和长波通等离子滤波器生成可调光学滤波器,规定截止波长λL和截止波长λS之间波长范围,基于λL和λS选定值,提供可调中心波长和独立调制带宽,其中每个等离子滤波器含有多个电压控制透明导电长条沉积在透明导电材料上,并与之绝缘,调节透明导电长条上的电压可以改变相应等离子滤波器的光谱响应。2.如权利要求1所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述短波通等离子滤波器构成并建立产生电压控制光谱响应,截止波长λS通过电压调节来调制。3.如权利要求1所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述长波通等离子滤波器构成并呈现电压控制光谱响应,截止波长λL通过电压调节附件来调制。4.如权利要求1所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述短波通等离子滤波器构成并呈现电压控制光谱响应,截止波长λS通过电压调节附件来调制,所述长波通等离子滤波器构成并呈现电压控制光谱响应,截止波长λL通过电压调节附件来调制。5.如权利要求1所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述电压控制截止波长λL和截止波长λS中的1个波长或全部2个波长,生成光学滤波器的中心波长(CWL)可调。6.如权利要求5所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述电压控制短波通和长波通等离子滤波器,中心波长数值变化是时间的函数,形成扫描滤波器效果。7.如权利要求1所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述电压控制截止波长λL和截止波长λS中的1个波长或全部2个波长,生成光学滤波器的带宽(BW)可调。8.如权利要求7所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于电压控制短波通和长波通等离子滤波器,形成窄带滤波器。9.如权利要求1所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述电压控制截止波长λL和截止波长λS中的1个波长或全部2个波长,生成可调中心波长和可调带宽光学滤波器,中心波长和带宽分别独立可调。10.如权利要求1所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述电压控制短波通和长波通等离子滤波器,形成截止波长λL和截止波长λS之间的带宽为零,阻挡光透过滤波器。11.如权利要求1所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述每个等离子滤波器的透明导电材料层包括石墨烯和含有大量电压控制透明导电条,每个等离子滤波器的大量电压控制透明导电条包含大量电压控制石墨烯条。12.如权利要求1所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述每个等离子滤波器的透明导电材料层包含氧化铟锡(ITO)和大量电压控制透明导电条,每个等离子滤波器的大量电压控制透明导电条包含大量电压控制氧化铟锡条。13.如权利要求1所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述可调滤波器进一步包含透明基片上沉积有短波等离子滤波器和长波通等离子滤波器。14.如权利要求13所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述透明基片材料在可折叠高分子材料,硅基材料,单晶或多晶化学蒸发钻石膜中选择。15.如权利要求13所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述短波通等离子滤波器和长波通等离子滤波器分别沉积在透明基片的两侧。16.如权利要求13所述电压控制等离子可调光学滤波器,其特征在于所述短波通等离子滤波器和长波通等离子滤波器以堆栈结构沉积在透明基片上,等离子滤波器的堆栈结构间隔有绝缘层...
【专利技术属性】
技术研发人员:托马斯·雷德福·萨默,威廉·卡丹尼斯,
申请(专利权)人:IIVI有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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