曝光方法和曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种曝光方法，用于对基板上的光阻进行曝光，形成具有段差的层结构，所述曝光方法包括：提供光源、滤光光罩和n个滤光片；其中，所述滤光光罩上设有不透光区和滤光区，所述滤光区用于透过至少两种光线；每个所述滤光片用于透过一种光线，n个所述滤光片透过的光线种类各不相同，n大于或等于2；使用所述光源依次照射n个所述滤光片，并依次采用n个所述滤光片透过的光线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行n次曝光。本发明专利技术还提供了一种曝光装置。发明专利技术的方案能够使膜厚控制变得精细化，有利于减少膜厚误差，便于曝光工艺的调试，增大了工艺窗口，提高量产良率。

【技术实现步骤摘要】
曝光方法和曝光装置
本专利技术涉及液晶显示器
，尤其涉及一种曝光方法和曝光装置。
技术介绍
在液晶显示面板的制造过程中，需要使用光刻工艺在基板上形成薄膜。光刻工艺包括曝光制程，曝光量不同则最终形成的膜厚不同。实际产品经常要求所形成的薄膜膜厚具有若干段差。现有技术中经常使用半透光罩制造具有膜厚段差的薄膜。半透光罩上具有若干不同光透过率的区域，穿过不同光透过率的区域的光量不同，光阻上相应位置的曝光量也不同，从而形成膜厚段差。此种方式的膜厚控制不够精确，且在半透光罩已经制造完成后无法进行工艺调试，工艺性较差。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供了一种曝光方法和曝光装置，能够解决现有技术中膜厚控制不精确，且无法进行工艺调试的问题。一种曝光方法，用于对基板上的光阻进行曝光，形成具有段差的层结构，所述曝光方法包括：提供光源、滤光光罩和n个滤光片；其中，所述滤光光罩上设有不透光区和滤光区，所述滤光区用于透过至少两种光线；每个所述滤光片用于透过一种光线，n个所述滤光片透过的光线种类各不相同，n大于或等于2；使用所述光源依次照射n个所述滤光片，并依次采用n个所述滤光片透过的光线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行n次曝光。其中，所述光源为紫外光源；所述滤光片有两个，其中一个所述滤光片用于透过紫外光中的G谱线、H谱线或I谱线；另一个所述滤光片用于透过紫外光中的G谱线、H谱线和I谱线中的任意两种。其中，所述滤光区包括第一滤光区和第二滤光区，所述第一滤光区用于透过紫外光中的G谱线、H谱线或I谱线；所述第二滤光区用于透过紫外光中的G谱线、H谱线和I谱线中的任意两种。其中，两个所述滤光片分别为第一滤光片和第二滤光片，所述第一滤光片用于透过I谱线，所述第二滤光片用于透过G谱线和H谱线；所述滤光区包括第一滤光区和第二滤光区，所述第一滤光区用于透过I谱线，所述第二滤光区用于透过H谱线和I谱线；其中，步骤使用所述光源依次照射n个所述滤光片，并依次采用n个所述滤光片透过的光线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行n次曝光包括：使用所述光源照射所述第一滤光片以透过I谱线，并采用所述第一滤光片透过的I谱线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行第一次曝光；使用所述光源照射所述第二滤光片以透过G谱线和H谱线，并采用所述第二滤光片透过的G谱线和H谱线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行第二次曝光。其中，所述滤光光罩上还设有完全透光区，所述完全透光区与第一滤光区相邻。其中，所述光阻为负性光阻，所述光阻经两次曝光后形成黑隔垫层。其中，两个所述滤光片分别为第一滤光片和第二滤光片，所述第一滤光片用于透过I谱线，所述第二滤光片用于透过G谱线和H谱线；所述滤光区包括第一滤光区和第二滤光区，所述第一滤光区用于透过I谱线，所述第二滤光区用于透过G谱线；其中，步骤使用所述光源依次照射n个所述滤光片，并依次采用n个所述滤光片透过的光线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行n次曝光包括：使用所述光源照射所述第二滤光片以透过G谱线和H谱线，并采用所述第二滤光片透过的G谱线和H谱线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行第一次曝光；使用所述光源照射所述第一滤光片以透过I谱线，并采用所述第一滤光片透过的I谱线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行第二次曝光。其中，所述光阻为正性光阻，所述光阻经两次曝光后形成有源层。一种曝光装置，用于对基板上的光阻进行曝光，形成具有段差的薄膜，所述曝光装置包括：本体及安装于所述本体上的光源、滤光光罩，以及n个滤光片；所述本体还用于承载所述基板；所述光源用于依次照射n个所述滤光片，以透过n种光线，其中每个所述滤光片用于透过一种光线，n大于或等于2；所述滤光光罩位于n个所述滤光片与所述基板之间，所述滤光光罩上设有不透光区和滤光区，所述滤光区用于透过至少一种光线。其中，每个所述滤光片均具有工作位置与非工作位置，每个所述滤光片均能在所述工作位置与所述非工作位置之间移动。本专利技术的方案，通过多次曝光逐步形成薄膜上不同区域的不同膜厚，使得膜厚具有若干段差。此种方式通过逐次形成膜厚，使膜厚控制变得精细化，有利于减少膜厚误差。另外，通过光罩和滤光片同时控制膜厚，即使光罩已经定型，仍可以通过切换滤光片来匹配光罩以再次曝光，有利于曝光工艺的调试，增大了工艺窗口，进而能提高量产良率。附图说明为更清楚地阐述本专利技术的构造特征和功效，下面结合附图与具体实施例来对其进行详细说明。图1是本专利技术实施例的曝光装置的结构示意图；图2是本专利技术实施例的曝光方法的示意性流程框图；图3～图4是本专利技术实施例的一种具体曝光工艺示意图；图5～图6是本专利技术实施例的另一种具体曝光工艺示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供了一种曝光装置，用于对基板上的光阻进行曝光，形成具有段差的薄膜。所述曝光装置包括但不限于为曝光机。如图1所示，曝光装置100可以包括本体101及安装于本体101上的光源102、滤光光罩104，以及n个滤光片，图1中仅示意出了滤光片103。其中，本体101是曝光装置100的主要机械承载部件与电气控制中枢，本体101还用于承载基板105，基板105上已经涂覆有光阻。光源102用于提供曝光所用的光线，光源102发出的光线依次照射到n个滤光片上，以透过n种光线，其中每个所述滤光片用于透过一种光线，n大于或等于2。滤光光罩104位于n个滤光片与基板105之间，用于在每个滤光片所过滤的光线的作用下，将滤光光罩104上的图案转印到基板105上。滤光光罩104上设有不透光区和滤光区，所述不透光区用于阻挡任何一种光线通过，所述不透光区可以是至少一个。所述滤光区则用于透过至少两种光线，所述滤光区所述透过的光线可以是单一波长的光线(单一光)，和/或由若干单一波长的光混合而成的光线(混合光)。本实施例中，每个滤光片均与滤光光罩104配合进行一次曝光，总计进行n次曝光。当前一次曝光完成后，则使光源102照射下一滤光片，并配合滤光光罩104进行下一次曝光，直至n次曝光完成。可选的，每个滤光片均可以具有工作位置与非工作位置，所述工作位置为滤光片能够接收光源102发射光线的位置；所述非工作位置则指滤光片处于闲置状态、不进行滤光的位置。每个所述滤光片均能在所述工作位置与所述非工作位置之间移动。在需要曝光时，滤光片处于所述工作位置；当曝光完成后，滤光片由所述工作位置移动到所述非工作位置，而下一个滤光片则由述非工作位置移动到所述工作位置，准备下一次曝光。由此可以灵活的切换滤光片，以使用各个滤光片与滤光光罩104配合进行n次曝光。在其他实施中，也可以是各个滤光片不动而光源102移动位置，以照射各个滤光片。本实施例中，光线的种类可以使用波长来划分，两道光线的波长若相同则为同种光线，若不同则为两种光线。其中，每道光线都可以是单一光，也可以是混合光。对于单一光而言，若两道单一光的波长不同则为两种光线；对于混合光而言，只要一道混合光中存在某个单一光的波长，与另一道混合光中的各个单一光的波长不同，就认为这两道本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光方法，用于对基板上的光阻进行曝光，形成具有段差的层结构，其特征在于，所述曝光方法包括：提供光源、滤光光罩和n个滤光片；其中，所述滤光光罩上设有不透光区和滤光区，所述滤光区用于透过至少两种光线；每个所述滤光片用于透过一种光线，n个所述滤光片透过的光线种类各不相同，n大于或等于2；使用所述光源依次照射n个所述滤光片，并依次采用n个所述滤光片透过的光线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行n次曝光。

【技术特征摘要】
1.一种曝光方法，用于对基板上的光阻进行曝光，形成具有段差的层结构，其特征在于，所述曝光方法包括：提供光源、滤光光罩和n个滤光片；其中，所述滤光光罩上设有不透光区和滤光区，所述滤光区用于透过至少两种光线；每个所述滤光片用于透过一种光线，n个所述滤光片透过的光线种类各不相同，n大于或等于2；使用所述光源依次照射n个所述滤光片，并依次采用n个所述滤光片透过的光线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行n次曝光。2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述光源为紫外光源；所述滤光片有两个，其中一个所述滤光片用于透过紫外光中的G谱线、H谱线或I谱线；另一个所述滤光片用于透过紫外光中的G谱线、H谱线和I谱线中的任意两种。3.根据权利要求2所述的曝光方法，其特征在于，所述滤光区包括第一滤光区和第二滤光区，所述第一滤光区用于透过紫外光中的G谱线、H谱线或I谱线；所述第二滤光区用于透过紫外光中的G谱线、H谱线和I谱线中的任意两种。4.根据权利要求2所述的曝光方法，其特征在于，两个所述滤光片分别为第一滤光片和第二滤光片，所述第一滤光片用于透过I谱线，所述第二滤光片用于透过G谱线和H谱线；所述滤光区包括第一滤光区和第二滤光区，所述第一滤光区用于透过I谱线，所述第二滤光区用于透过H谱线和I谱线；其中，步骤使用所述光源依次照射n个所述滤光片，并依次采用n个所述滤光片透过的光线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行n次曝光包括：使用所述光源照射所述第一滤光片以透过I谱线，并采用所述第一滤光片透过的I谱线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行第一次曝光；使用所述光源照射所述第二滤光片以透过G谱线和H谱线，并采用所述第二滤光片透过的G谱线和H谱线，通过所述滤光光罩对所述光阻进行第二次曝光。5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓金全，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44