【技术实现步骤摘要】
用于制造微透镜的方法和装置
本专利技术涉及一种根据权利要求1的用于制造微透镜(Mikrolinse)的方法、一种根据权利要求X的用于制造微透镜的装置以及一种根据权利要求X的微透镜。
技术介绍
微透镜主要应用于需要光学聚焦装置的仪器,例如用于移动电话的摄像头。由于微型化压力(Miniatursierungsdruck),功能性的构件应越来越小,这也适用于这种类型的微透镜。微透镜越应进一步微型化,其光学上正确的制造越困难,因为对于理想地待在批量生产中制造的微透镜同时存在巨大的成本压力。在现有技术中,微透镜在载体基质(Traegersubstrat)上通过不同的制造方法来生产,例如在文件US6,846,137B1、US5,324,623、US5,853,960和US5,871,888中所示。所有之前提到的方法共同的是,受原理限制,需要一定的厚度并且穿过微透镜的光必须不仅经过透镜而且经过载体基质。由于同时所要求的高质量和在亮度(Brillanz)(其此外取决于沿着光学轴线、即光路(Strahlengang)的光学部件的厚度和数量)更高的同时对更高的分辨率的要求,根据现有技术的微透镜的进一步的优化是值得期望的。此外,存在对尽可能高的光效率(Lichtausbeute)的要求,其尤其对于微型光学系统是决定性的,因为图像传感器占据大多非常小的面积(光冲击到其上)。文件US6,049,430显示了一种插入载体基质的开口中的透镜,其中,在图2中所显示的制造过程需要大量步骤并且因此是复杂的并且因为这里可达到的制造精度而对于上面所提到的要求来说可能太不精确。大量待使用的材料也是 ...
【技术保护点】
一种用于利用载体晶片制造微透镜的方法,该载体晶片具有在所述载体晶片的相对而置的面之间延伸的内环,该内环限定载体晶片的开口以用于将所述微透镜容纳在该开口中,该方法包括步骤:通过使用两个透镜压模来压印所述微透镜将所述微透镜模制到所述载体晶片中,每个透镜压模具有接合面,该接合面尺寸设计成在压印时贴靠在所述载体晶片的相应的配合面处以为了所述透镜压模的共平面的对准,其中所述载体晶片的厚度限定了形成的微透镜的厚度。
【技术特征摘要】
1.一种用于利用载体晶片制造微透镜的方法,该载体晶片具有在所述载体晶片的相对而置的面之间延伸的内环,该内环限定载体晶片的开口以用于将所述微透镜容纳在该开口中,该方法包括步骤:通过使用两个透镜压模来压印所述微透镜将所述微透镜模制到所述载体晶片中,每个透镜压模具有接合面,该接合面尺寸设计成在压印时贴靠在所述载体晶片的相应的配合面处以为了所述透镜压模的共平面的对准,其中所述载体晶片的厚度限定了形成的微透镜的厚度。2.根据权利要求1所述的方法,其中所述载体晶片布置在所述微透镜的光路之外。3.根据权利要求1所述的方法,其中在压印时将多个微透镜中的每个模制到包括相应的载体晶片的载体晶片矩阵的相应的开口中。4.根据权利要求1所述的方法,此外包括下面的过程:将下透镜压模与所述载体晶片的开口对准且固定,将形成所述微透镜的透镜材料引入所述开口中,通过利用上透镜压模加载所述透镜材料来压印所述微透镜以及使所述微透镜硬化。5.根据权利要求1所述的方法,其中保持结构在与所述载体晶片的两个相对而置的面间隔的部位处从所述内环的环形面起延伸,并且其中所述保持结构是从所述内环的环形面起延伸的环形的突出部。6.根据权利要求1所述的方法,其中保持结构在与所述载体晶片的两个相对而置的面间隔的部位处从所述内环的环形面起延伸,并且其中所述保持结构是从所述内环的环形面起延伸的多个突出部。7.一种用于利用载体晶片制造微透镜的方法,该载体晶片具有在所述载体晶片的相对而置的面之间延伸的内环,该内环限定载体晶片的开口以用于将所述微透镜容纳在该开口中,该方法包括步骤:通过使用两个透镜压模来压印所述微透镜将所述微透镜模制到所述载体晶片中,每个透镜压模具有接合面,该接合面尺寸设计成在压印时贴靠在所述载体晶片的相应的配合面处以为了所述透镜压模的共平面的对准,其中所述微透镜的热膨胀系数大于所述载体晶片的热膨胀系数从而在制造所述微透镜时在所述微透镜和所述载体晶片之间形成间隙。8.根据权利要求7所述的方法,其中所述载体晶片布置在所述微透镜的光路之外。9.根据权利要求7所述的方法,其中在压印时将许多微透镜中的每个模制到包括相应的载体晶片的载体晶片矩阵的相应的开口中。10.根据权利要求7所述的方法,此外包括下面的过程:将下透镜压模与所述载体晶片的开口对准且固定,将形成所述微透镜的透镜材料引入所述开口中,通过利用上透镜压模加载所述透镜材料来压印所述微透镜以及使所述微透镜硬化。11.根据权利要求7所述的方法,其中保持结构在与所述载体晶片的两个相对而置的面间隔的部位处从所述内环的环形面起延伸,并且其中所述保持结构是从所述内环的环形面起延伸的环形的突出部。12.根据权利要求7所述的方法,其中保持结构在与所述载体晶片的两个相对而置的...
【专利技术属性】
技术研发人员:E塔尔纳,M温普林格,M卡斯特,
申请(专利权)人:EV集团有限责任公司,
类型:发明
国别省市:奥地利,AT
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