本发明专利技术涉及具有在金属基底上提高的防腐蚀性的含二氧化硅可辐射固化制剂，其由下列组分组成：Ａ）至少一种可辐射固化树脂，Ｂ）至少５％重量的二氧化硅，基于总的制剂，Ｃ）至少一种粘附助剂，Ｄ）至少一种可辐射固化的活性稀释剂，Ｅ）任选的光引发剂，Ｆ）任选的颜料和其它助剂。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及含有二氧化硅的可辐射固化制剂，其在固化状态中为金 属基材提供特定程度的腐蚀防护。
技术介绍
可辐射固化制剂是已知的。例如P. K. 丁. Oldring (编辑)、"涂料、墨和漆料用紫外线和电子 束制剂的化学和技术"("Chemistry and Technology of UV and EB Formulations for Coatings, Inks and Paints")、 巻II， SITA Technology、 伦敦1991中，描述了烯属不饱和预聚物，基于例如环氧丙烯酸酯(31 至68页)、氨基甲酸酯丙烯酸酯(73至123页)和三聚氰胺丙紼酸酯 (208至214页)。在专利文献中也经常提到这些类型的制剂示例性 提及JP62110779和EP947565。金属基底的涂覆是可辐射固化的制剂的 一个特殊的问题，因为收缩 过程可能导致粘附力降低。这些基底普遍使用含有磷酸的粘附助剂。这 样的例子有US5128387 (啤酒罐的涂覆)和JP2001172554 (多种罐子的 涂覆)。已知环氧丙烯酸酯显示出优异的粘附力和有效的金属基底腐蚀防 护。然而，这些涂层的一个缺点是在固化之后低水平的可变形性。对某 些涂覆技术来说，例如巻材涂覆法，经涂覆的工件不发生涂层开裂的可 变形性是必需的。而且，由于这些涂层含有芳族成分，它们具有发黄的倾向》WO 03/022945描述了用于金属基底的低粘度可辐射固化制剂，所 述低粘度可辐射固化制剂基于可辐射固化树脂、单官能活性稀释剂和酸 性粘附助剂。使用的树脂是来自各种供应者的商业产品。EP卯2040也包括可辐射固化制剂。这里描迷的是具有不饱和羧酸 的单官能酯的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯，其被含有碳环或杂环的醇酯化。例如"AEROSIL fiir Lacke und Farben"手册(来自颜料丛书No.68，第三版，出版日期1989年12月，DegussaAG)中描述了在漆料中使用 二氧化硅。为了增加耐腐蚀性，其中推荐使用制剂的0.5%至1%的二氧 化硅(AEROSIL R 972 ) ( 12页)
技术实现思路
本专利技术的一个目的是寻求可辐射固化制剂，其一方面在涂覆后可容 易地变形，即具有柔韧性，而另一方面还确保对金属基底优异的腐蚀防护。已经出人意料地发现，如果在制剂中含有至少5%重量的二氧化硅， 可增加金属基底上的基于可辐射固化制剂的漆料的耐腐蚀性。 本专利技术的主题是可辐射固化制剂，其由下列组分组成A) 至少一种可辐射固化树脂，B) 至少5%重量的二氧化硅，基于制剂总量，C) 至少一种粘附助剂，D) 至少一种可辐射固化的反应性稀释剂，E) 任选的光引发剂，F) 任选的颜料和其它助剂。在例如J.P. Fouassier， J.F. Rabek的"Radiation Curing in Polymer Science & Technology, Vol. I: Fundamentals and Methods" ( Elsevier Applied Science,伦敦和纽约，1993,第5章，226至236页)、"Lackharze" (D. Stove, W. Freitag， Hanser-Verlag,维也纳，1996,第85、 94-98、 169和265页)和EP 947565中描迷了可辐射固化树脂A)、低聚物和/ 或聚合物的制备。由于原料基础不同，造成了区别，例如环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸 酯、聚醚丙烯酸酯、聚丙烯酸酯丙烯酸酯和氨基甲酸酯丙烯酸酯。后者 可以基于例如聚酯或其它聚醚。相应的曱基丙烯酸酯也是已知的。其它 可聚合的基团是环氧化物和乙烯基醚。这些也可能是附着于不同的碱性 树脂。制剂中A)的量按重量计为从5%至95%,优选10%至39%。特 别优选的是聚酯类氨基甲酸酯丙烯酸酯。其实例为VESTICOATEP 110 IBOA (Degussa的商品，Coating & Colorants,双功能聚酯类氨基甲酸酯 丙烯酸酯)和EBECRYL 1256 ( Cytec的商品)。在二氧化硅B)中，沉淀二氧化硅和煅制二氧化硅之间具有差别。按照产量来说，目前沉淀二氧化硅最为重要。通过用无机酸沉淀由 碱金属硅酸盐水溶液制备得到上述沉淀二氧化硅。这形成胶质初级颗 粒，它们随着反应过程进行聚集并且最终生长在一起形成聚集体。粉状的大体积(voluminOs )形式具有2.5至15ml/g的孔隙体积和30至800m2/g 的比表面积。在本专利技术中，使用干燥粉末形式的沉淀二氧化硅。Degussa 出售的例如商品名为SIPERNAT的沉淀二氧化硅。术语煅制二氧化硅包括由火焰水解反应制备的高度分散二氧化硅。在制备过程中，四氯化硅在氢氧气体火焰中被分解。与沉淀二氧化硅相 比，在煅制二氧化硅的近乎无孔表面具有显著更少的OH基。由于硅烷 醇基团引起的亲水性，合成二氧化硅经常进行化学后处理加工，其中 OH基与例如有机氯代硅烷反应。该加工改性了例如疏水性表面，其大 大扩展了二氧化硅的使用性能。煅制二氧化硅例如由Degussa以商品名 AEROSIL出售。这些二氧化硅的重要参数包括，例如，BET比表面积、碳含量、振 实密度、干燥失重、煅烧后二氧化硅含量、分散体的pH值、表面张力 以及其它的、次要的成分(例如铝、铁、钛和盐酸)。通常，煅制二氧 化硅具有下列特性数据BET: 30至380m2/g,优选70至250m2/g; pH: 2.5至11，优选3至7。根据本专利技术，特别优选使用煅制二氧化硅。特别优选疏水性煅制二 氧化硅，其中优选使用来自Degussa GmbH， Deutschland的AEROSILTM R 9200。二氧化硅B)占总制剂的含量为5%-25%重量，优选10%-20%重 量。根据本专利技术，使用粉末状二氧化硅。用于金属基底的可辐射固化制剂的粘附助剂C)通常由磷酸和/或膦 酸和/或其与官能化丙烯酸酯反应得到的产物(例如酯)组成。当游离磷 酸基团是造成与金属直接粘接的原因时，丙烯酸酯基团确保与涂层基体 结合。这类产品也在WO 01/98413、 JP 08231564和JP 06313127中有所 记栽。典型的商品是来自Cytec的EBECRYL 169和170, VIANOVA的 ALDITOL Vxl 6219, Sartomer的CD 9050和CD 9052, Rhodia的 SIPOMER PAM-IOO、 SIPOMER PAM-200和SIPOMER PAM-300,和Rahn的GENORAD40。制剂中C )的量为0.1 %至10%重量，优选1 %至5%重量。在例如"J.P. Fouassier, J.F. Rabek的"Radiation Curing in Polymer Science & Technology, Vol. I: Fundamentals and Methods" ( Elsevier Applied Science,伦敦和纽约，1993，第5章，227至240页)中描迷了 可辐射固化的反应性稀释剂D)及其制备。 一般来说，这些是含有室温 下为液体的含丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的物质，并且由此能够降低制本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种可辐射固化制剂，其由下列组分组成： Ａ）至少一种可辐射固化树脂， Ｂ）至少５％重量的二氧化硅，基于总的制剂， Ｃ）至少一种粘附助剂， Ｄ）至少一种可辐射固化的活性稀释剂， Ｅ）任选的光引发剂， Ｆ）任选的颜料和其它助剂。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：E斯皮罗，
申请(专利权)人：赢创德固赛有限责任公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]
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