The invention relates to an electronic anti -1 preparation method of 2- two vinyl chloride, especially relates to an electronic grade anti -1 for semiconductor industry thermal oxidation process, the methods of preparing 2- two vinyl chloride, after atmospheric distillation, sub boiling distillation, strictly control the fraction of temperature, the effective removal of metal impurities and high boiling water and organic impurities. The conventional purification equipment is easy to operate and is conducive to large-scale industrial production, and the purity of the product is high.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种电子级反-1,2-二氯乙烯的制备方法,尤其涉及一种用于半导体行业热氧化工艺中用电子级反-1,2-二氯乙烯的制备方法。
技术介绍
在半导体芯片热氧化制程中,通常在硅片表面上形成二氧化硅薄膜层,用来隔离和保护硅片内的灵敏器件。在SiO2-Si界面上,一些金属杂质,如铜、金等在半导体中易形成复合中心,使少子寿命变短,这些离子在电场作用下显著漂移,引起电子器件电压不稳定,在热氧化工艺中加入的氯离子能与这些金属杂质发生作用,生成易挥发的氯化物被排除,从而减少了复合中心,改善二氯化硅层质量,且可提高氧化速率。现有的热氧化掺氯工艺中,通常采用氯气、气态氯化氢和三氯乙烷、三氯乙烯等氯化物,由于氯气、氯化氢气体是腐蚀性极强的气体,且有毒;三氯乙烷在高温下易形成光气,是一种剧毒物质;三氯乙烯可能致癌,且大量使用会增加地球温室效应,因此寻求环保型的氯化物替代品,对实现电子行业无毒、绿色、环境友好具有重要意义。研究表明,反式1,2-二氯乙烯加入掺氯氧化工艺中,能减少钠离子的玷污,抑制氧化垛层错,提高少子寿命,提高器件的电性能和可靠性,且对大气层无破坏作用。工业反-1,2-二氯乙烯由于合成方法不一样,原料中杂质含量也不同,通常除金属杂质外,还含有一定量的异构体、偏二氯乙烯和高沸点氯代烃等有机杂质,通过简单蒸馏,反-1,2-二氯乙烯含量可达99%,但仍含有高达1%的杂质,其中金属离子是电活性杂质,会降低在半导体器件SiO2薄膜层绝缘性能,导致微米级的电路相互接通,从而导致电路板报废;其中的非电活性杂质如水份、有机物会影响Si ...
【技术保护点】
一种电子级反‑1,2‑二氯乙烯的制备方法,其特征在于包括如下步骤:(1)将99%含量的反‑1,2‑二氯乙烯原料加入到填充精馏柱中进行蒸馏,在常压下从塔顶收集冷凝液;(2)将收集的冷凝液加入到板式精馏塔,加热,全回流5~7h后,从塔顶采集馏份温度为43~48℃; (3)将收集到的精馏品经亚沸蒸馏器进行蒸馏,保持液面温度在25~30℃,收集蒸馏品; (4)将收集到的蒸馏品在整体不大于千级、局部不大于百级的洁净室,用石英源瓶进行灌装,得到电子级反‑1,2‑二氯乙烯产品。
【技术特征摘要】
1.一种电子级反-1,2-二氯乙烯的制备方法,其特征在于包括如下步骤:
(1)将99%含量的反-1,2-二氯乙烯原料加入到填充精馏柱中进行蒸馏,在常压下从塔顶收集冷凝液;
(2)将收集的冷凝液加入到板式精馏塔,加热,全回流5~7h后,从塔顶采集馏份温度为43~48℃;
(3)将收集到的精馏品经亚沸蒸馏器进行蒸馏,保持液面温度在25~30℃,收集蒸馏品;
(4)将收集到的蒸馏品在整体不大于千级、局部不大于百级的洁净室,用石英源瓶进行灌装,得到电子级反-1,2-二氯乙烯产品。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于所述填充精馏柱添加有氧化钙或氯化钙填料;或加有氧化钙和氯...
【专利技术属性】
技术研发人员:程永福,陈文强,刘帮伟,于海涛,孙刚,王天喜,宋国仙,
申请(专利权)人:贵州威顿晶磷电子材料有限公司,
类型:发明
国别省市:贵州;52
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