减压干燥设备制造技术

本发明专利技术提供一种减压干燥设备，包括密封腔室，所述密封腔室设置有承载平台，所述承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板，所述承载平台上还设置有温度调节模块，以对所述基板进行局部温度调控，使得所述基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀；本发明专利技术能够使基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀，从而提高基板表面光刻胶的显影均一性。

【技术实现步骤摘要】
减压干燥设备
本专利技术涉及基板制造
，尤其涉及一种减压干燥设备。
技术介绍
TFT-LCD(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，简称薄膜晶体管液晶显示器)的基板制作过程中，真空减压干燥(VacuumDry，简称VCD)是一道重要的工序。真空减压干燥是对涂布有光致抗蚀剂等膜层的涂覆液的基板进行减压干燥处理，使得膜层固化。完整的光刻工艺通过光刻胶涂覆制程，曝光制程，显影制程三个主体步骤，完成基板上精密图形的定义。在涂覆制程后的减压干燥工序中，将涂布有光刻胶的基板置于密封腔室内，密封腔室内抽真空，使得光刻胶溶剂达到饱和蒸汽压快速挥发，挥发汽体进而随气流被抽走，达到初步干燥光刻胶的目的。现有技术的减压干燥设备，抽真空时，基板上方气流从中间往两侧移动，然而，中间区域受气流影响小，该区域光刻胶容易发生干燥不足的现象，基板表面的光刻胶干燥均一性不足会降低显影精度，进而导致产品特征线宽(CD)均一性不满足要求，进一步会影响显示面板的显示效果。综上所述，现有技术的减压干燥设备，对基板表面的光刻胶进行干燥后，位于基板中间区域的光刻胶干燥不足，导致后续制程无法对基板上的图形进行精密定义，进而影响显示面板的显示品质。
技术实现思路
本专利技术提供一种减压干燥设备，能够使基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀，从而提高基板表面光刻胶的显影均一性。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：本专利技术提供一种减压干燥设备，用于对涂布于基板表面的光刻胶进行减压干燥处理，包括：密封腔室，包括上盖以及与所述上盖相对设置的底盖，所述上盖与所述底盖密闭结合；气压调节装置，包括开设于所述底盖表面的排气孔与进气孔；所述进气孔处设置有气阀，所述排气孔处连接有气泵；承载平台，位于所述密封腔室内，所述承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板；以及：温度调节模块，设置于所述承载平台上；所述温度调节模块至少包括一加热子模块和一冷却子模块；其中，所述温度调节模块用以对所述基板进行局部温度调控，使得所述基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀。根据本专利技术一优选实施例，所述温度调节模块分布于所述承载平台上，并且，所述温度调节模块分布在所述承载平台中心区域的密度，大于所述温度调节模块分布在其余区域的密度。根据本专利技术一优选实施例，所述温度调节模块嵌设于所述承载平台内，并且，所述温度调节模块的加热子模块靠近所述承载平台的上表面，所述冷却子模块贴合于所述加热子模块的底部。根据本专利技术一优选实施例，所述承载平台至少包括第一子平台与第二子平台，所述第一子平台与所述第二子平台位于同一高度；所述第一子平台与所述第二子平台上均设置有所述温度调节模块。根据本专利技术一优选实施例，位于所述第一子平台上的各所述加热子模块共同接入第一控制信号，位于所述第一子平台上的各所述冷却子模块共同接入第二控制信号；位于所述第二子平台上的各所述加热子模块共同接入第三控制信号，位于所述第二子平台上的各所述冷却子模块共同接入第四控制信号。根据本专利技术一优选实施例，各所述加热子模块独立接入第一控制信号，各所述冷却子模块独立接入第二控制信号。根据本专利技术一优选实施例，分布在所述承载平台中心区域的所述温度调节模块，其端部朝向第一方向，分布在所述承载平台其余区域的所述温度调节模块，其端部朝向第二方向，所述第二方向与所述第一方向相互垂直。根据本专利技术一优选实施例，分布于所述承载平台中心区域的所述温度调节模块，其长度小于位于其余区域的所述温度调节模块，其宽度大于位于其余区域的所述温度调节模块。根据本专利技术一优选实施例，所述加热子模块为红外热辐射源，所述冷却子模块为循环水冷器。根据本专利技术一优选实施例，所述排气孔为两个，且分别靠近所述底盖两端设置。根据本专利技术一优选实施例，所述承载平台底部通过支撑杆支撑，所述支撑杆连接有升降装置。本专利技术的有益效果为：相较于现有的减压干燥设备，本专利技术的减压干燥设备通过在承载平台上设置温度调节模块，可针对性地对基板各区域进行温度调控，使基板表面各区域的光刻胶具有相同的干燥效果，能够使基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀，从而提高基板表面光刻胶的显影均一性；解决了现有技术的减压干燥设备，对基板表面的光刻胶进行干燥后，位于基板中间区域的光刻胶的干燥效果不足，导致后续制程无法对基板上的图形进行精密定义，进而影响显示面板的显示品质的技术问题。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术的减压干燥设备的一结构示意图。图2为本专利技术的温度调节模块一俯视结构示意图；图3为本专利技术的温度调节模块又一俯视结构示意图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。本专利技术针对现有技术的减压干燥设备中，对基板表面的光刻胶进行干燥后，位于基板中间区域的光刻胶的干燥效果不足，导致后续制程无法对基板上的图形进行精密定义，进而影响显示面板的显示品质的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。如图1所示，本专利技术提供一种减压干燥设备，包括一密封腔室101，所述密封腔室101表面开设有用以调节内部气压的排气孔与进气孔，所述密封腔室101内设置有用以盛放基板102的承载平台103，所述基板102表面涂布有光刻胶105，所述承载平台103表面分布设置有顶针104，所述顶针104顶端用以支撑所述基板102，所述承载平台103上还设置有温度调节模块106。所述密封腔室101，至少包括一上盖1011与一底盖1012，所述上盖1011包括上盖板，所述上盖板底部设置有第一侧壁，所述下盖包括底板，所述底板上部设置有与所述第一侧壁相对应的第二侧壁，所述上盖1011与所述底盖1012紧密结合，所述上盖1011可与所述下盖相分离，以打开所述密封腔室101，将待干燥处理的所述基板102放置于所述承载平台103上，或将干燥处理后的所述基板102从所述密封腔室101内取出。所述排气孔至少为两个，即第一排气孔1013与第二排气孔1014，所述第一排气孔1013靠近所述底盖1012的一端设置，所述第二排气孔1014靠近所述底盖1012的相对另一端设置。所述承载平台103设置于所述密封腔室101内相对居中的位置，使得所述承载平台103相对的两端部与所述密封腔室101的侧壁之间存在第一空隙，并且，所述承载平台103表面与所述上盖1011的上盖板之间具有第二空隙，所述承载平台103相对的端部与所述密封腔室101的侧壁之间的第一空隙以及所述承载平台103表面与上盖板之间的第二空隙形成风道，所述第一排气孔1013位于所述风道的一端，所述第二排气孔1014位于所述风道的相对另一端；所述第一排气孔1013连接有第一气泵1017，所述第二排气孔1014连接有第二气泵1018，当所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种减压干燥设备，用于对涂布于基板表面的光刻胶进行减压干燥处理，其特征在于，包括：密封腔室，包括上盖以及与所述上盖相对设置的底盖，所述上盖与所述底盖密闭结合；气压调节装置，包括开设于所述底盖表面的排气孔与进气孔；所述进气孔处设置有气阀，所述排气孔处连接有气泵；承载平台，位于所述密封腔室内，所述承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板；以及：温度调节模块，设置于所述承载平台上；所述温度调节模块至少包括一加热子模块和一冷却子模块；其中，所述温度调节模块用以对所述基板进行局部温度调控，使得所述基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀。

【技术特征摘要】
1.一种减压干燥设备，用于对涂布于基板表面的光刻胶进行减压干燥处理，其特征在于，包括：密封腔室，包括上盖以及与所述上盖相对设置的底盖，所述上盖与所述底盖密闭结合；气压调节装置，包括开设于所述底盖表面的排气孔与进气孔；所述进气孔处设置有气阀，所述排气孔处连接有气泵；承载平台，位于所述密封腔室内，所述承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板；以及：温度调节模块，设置于所述承载平台上；所述温度调节模块至少包括一加热子模块和一冷却子模块；其中，所述温度调节模块用以对所述基板进行局部温度调控，使得所述基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀。2.根据权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，所述温度调节模块分布于所述承载平台上，并且，所述温度调节模块分布在所述承载平台中心区域的密度，大于所述温度调节模块分布在其余区域的密度。3.根据权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，所述温度调节模块嵌设于所述承载平台内，并且，所述温度调节模块的加热子模块靠近所述承载平台的上表面，所述冷却子模块贴合于所述加热子模块的底部。4.根据权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，所述承载平台至少包括第一子平台与第二子平台，所述第一子平台与所述第二子平台位于同一高度；所述第一子平台与所述第二子...

【专利技术属性】
技术研发人员：金建龙，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42