The utility model discloses a high temperature heating deposition table used for chemical vapor deposition, belonging to the field of material preparation and processing. The utility model improves the design of heating type deposition stage, the inner surface of coating deposited on the table table the chromium oxide coating a layer of 100nm, improved deposition table receiving heat radiation efficiency using blackbody coefficient of chromium oxide 0.8. At the same time, the insulator support is designed as a ceramic column array for the heating body enclosed in the deposition platform, and the heat radiation efficiency of the heating body is improved without affecting the supporting function. These improvements make the heating efficiency and stability of this new type of high temperature heating deposition station can be greatly improved, and can be in 700 to 1000 DEG C temperature in a steady job, fill in the high temperature heating type deposition station technology gap.
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体器件材料制备技术,尤其是涉及一种用于化学气相沉积的高温加热沉积台,可应用于各种新型薄膜材料的制备。
技术介绍
化学气相沉积(Chemicalvapordeposition,简称CVD)是一种广泛应用于新型薄膜材料、尤其是半导体器件材料制备的材料制备方法。由于CVD制备材料时参与反应的气体分子或者离子需要根据不同工艺沉积在一定温度的基片上,因此一些CVD系统配备有可自行加热基片的沉积台。在使用CVD系统制备材料时,高温促使气体之间发生反应是一个重要手段。一般加热式沉积台可以加热基片至700℃左右,能够满足一部分材料制备所需的反应条件。然而很多材料例如一些氧化物薄膜的制备需要700℃~1000℃的反应温度,这时一般的加热式沉积台难以满足要求。这是因为沉积台的加热装置通常由电阻式发热器件供热,实际应用过程中存在一系列问题。由于发热体材料在高温下容易发生形变,会引起加热温度的不均匀;而为发热体加装绝缘体支撑件来改善其高温强度又会引起散热问题,造成发热体在高温段容易自熔断;另外发热体与反应气体接触容易氧化腐蚀,沉积台从发热体获得热量的效率也不高。这些问题限制了加热式沉积台的应用价值,也使一般加热时沉积台难以在700℃~1000℃温度段稳定工作。针对CVD系统加热式沉积台的这些问题,国内外许多专家和技术人员提出了很多设计方案,以改善沉积台的加热效率与稳定性和提高温度范围。美国专利US8461490B2采用密封加热装置来保证发热件的稳定性,并提高沉积台边缘的加热功率使得整个沉积台温度均匀;欧洲专利EP135961 ...
【技术保护点】
一种用于化学气相沉积的高温加热沉积台,其特征在于:所述高温加热沉积台包括沉积台台面(2)、沉积台基座(1)和内部发热装置,其中,沉积台台面(2)构成上层结构,沉积台基座(1)支撑了整个沉积台以及内部发热装置,所述沉积台基座(1)和沉积台台面(2)构成封装,将所述发热装置密封在内部;所述内部发热装置包括发热部件和支撑部件,所述发热部件由发热体电极(3)和发热体(5)构成;所述支撑部件由发热体支撑托盘(4)和陶瓷柱阵列(8)构成,对发热体(5)形成支撑。
【技术特征摘要】
1.一种用于化学气相沉积的高温加热沉积台,其特征在于:所述高温加热沉积台包括沉积台台面(2)、沉积台基座(1)和内部发热装置,其中,沉积台台面(2)构成上层结构,沉积台基座(1)支撑了整个沉积台以及内部发热装置,所述沉积台基座(1)和沉积台台面(2)构成封装,将所述发热装置密封在内部;
所述内部发热装置包括发热部件和支撑部件,所述发热部件由发热体电极(3)和发热体(5)构成;所述支撑部件由发热体支撑托盘(4)和陶瓷柱阵列(8)构成,对发热体(5)形成支撑。
2.如权利要求1所述的用于化学气相沉积的高温加热沉积台,其特征在于:所述沉积台台面(2)的内表面镀覆的一层氧化铬镀层(9),成为热辐射吸收面。
3.如权利要求2所述的用于化学气相沉积的高温加热沉积台,其特征在于:所述氧化铬镀层(9)为黑体系数0.8,厚度100nm的氧化铬薄膜。
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【专利技术属性】
技术研发人员:陈良贤,彭建,施戈,
申请(专利权)人:北京泰科诺科技有限公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
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