The invention discloses a method for AMOLED glass substrate polishing liquid, which is composed of the following raw materials in parts by weight: 4 cerium oxide 10, silicon sol 16 34 copies, 9 copies, 7 pH regulator 15 colloidal solution 22, surfactant 5 12, oligo peptide 6 11, deionized water 35 54. The polishing liquid prepared by the invention has high utilization rate, reduce production cost, and reduce the pollution of waste liquor of polishing on the environment; the invention of polishing polishing glass substrate material removal rate is high, after polishing the glass surface without obvious scratches, the surface roughness decreased than before polishing; polishing slurry of the invention effectively minimized the defects on the surface of the substrate by high sensitivity detector to measure the defects of controllable size, and prolonging the life of polishing, the polishing slurry for polishing a substrate not only manufacturing quality improvement effectively, and from the aspects of environmental load and cost is beneficial.
【技术实现步骤摘要】
一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液
本专利技术涉及AMOLED
,具体涉及一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液。
技术介绍
平板液晶显示技术是21世纪发展最迅猛的高新
之一。玻璃基板只占AMOLED原材料成本比重的6%左右,但却是最重要的元件,对显示器的性能影响十分巨大,显示器的分辨率、透光率、重量及视角等关键指标都与玻璃基板密切相关。在使用AMOLED平面显示技术的消费性IT产品中,轻、薄是两大主要核心竞争要素。为了达到轻薄诉求,普遍采用缩减玻璃基板厚度,以同时达到减少厚度与重量的目的。目前AMOLED玻璃基板的减薄工艺主要有两种:一种是化学蚀刻,另一种是物理研磨。化学蚀刻需使用强酸,成本较高,若不进行有效合理的处理回收,则对环境的危害很大,而且薄化后基板表面质量较难控制,仍需后续抛光处理。由于AMOLED玻璃基板表面质量和加工精度要求高,热稳定性高,耐化学腐蚀性好,表面和内部缺陷少,适宜的热膨胀系数,轻质高强度等,给表面的超精密加工提出了严峻的挑战,传统的硬脆晶元体基片超精密加工工艺无法满足AMOLED玻璃基板表面的规模化生产要求。
技术实现思路
本专利技术旨在提供了一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液。本专利技术提供如下技术方案:一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液,其是由如下重量份数的原料组成:氧化铈4-10份、硅溶胶16-34份、pH调节剂7-9份、胶体溶液15-22份、表面活性剂5-12份、低聚肽6-11份、去离子水35-54份。一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液的制备方法,包括以下步骤:(1)取氧化铈,加入去离子水混合并 ...
【技术保护点】
一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液,其特征在于,其是由如下重量份数的原料组成:氧化铈4‑10份、硅溶胶16‑34份、pH调节剂7‑9份、胶体溶液15‑22份、表面活性剂5‑12份、低聚肽6‑11份、去离子水35‑54份。
【技术特征摘要】
1.一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液,其特征在于,其是由如下重量份数的原料组成:氧化铈4-10份、硅溶胶16-34份、pH调节剂7-9份、胶体溶液15-22份、表面活性剂5-12份、低聚肽6-11份、去离子水35-54份。2.根据权利要求1所述的一种适用于AMOLED玻璃基板的抛光液的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)取氧化铈,加入去离子水混合并不断搅拌,直至溶液没有沉淀;(2)向步骤(1)所得产物中加入硅溶胶、胶体溶液和低聚肽,边加入边搅拌,直至溶液无絮状物;(3)向步骤(2)所得产物中加入pH调节剂和去离子水,加...
【专利技术属性】
技术研发人员:白航空,
申请(专利权)人:合肥市惠科精密模具有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽,34
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