一种等离子体水消毒装置制造方法及图纸

一种等离子体水消毒装置，包括进水区、消毒区和储水区，消毒区内安装有等离子体发生装置，储水区设置有水位监测传感器和阀门，水从进水区进入装置，然后进入消毒区进行消毒，消毒后的水再流入储水区，当储水区的水位到达水位监测传感器时，等离子体发生装置停止工作，同时装置发出报警声，消毒后的水经阀门排出供使用；本发明专利技术提供一种低能耗、成本低、无二次污染等离子体消毒装置，通过等离子体中的活性物质和强电场的双重作用，杀灭水中的微生物，实现水消毒的目的。

Plasma water sterilizing device

A plasma water disinfection device comprises a water inlet area, disinfection area and storage area, the sterilizing area is arranged in the plasma generating device, water storage area is provided with a water level monitoring sensor and the valve, water from the water inlet area into the device, and then enter the area of disinfection disinfection, after disinfection of the water then flows into the reservoir, the water level when the reservoir. Reach the water level monitoring sensor, the plasma generating device to stop working, and the alarm device, water discharge valve after disinfection for use; the invention provides a low energy consumption, low cost and no pollution two plasma disinfection device, through the dual role of active substances in the plasma and the strong electric field, kill the water the realization of the purpose of microorganism, water disinfection.

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体水消毒装置
本专利技术涉及饮用水消毒
，具体涉及一种等离子体水消毒装置。
技术介绍
饮用水污染主要源于在取水、制水、输配水、贮水等过程中，由于生活污水、工业废水、生活废弃物(垃圾)或工业固体废弃物(废渣)的乱排放、忽视水源卫生防护、水净化和消毒不彻底、输配水和贮水环节的卫生管理差等各种原因，造成污染物进入水中，使水质理化特性和生物种群的特性、组成发生改变，造成水质恶化，危害人体健康。饮用水污染是指有一定的饮用水用户、饮用者个人，发现饮用水水质感官性状异常，饮用后身体出现不适反应和症状表现的事件，包括饮用水生物性污染(传染病和藻类污染)、饮用水化学性污染和饮用水物理性(热、放射性)污染。水污染主要是有机物和氨氮污染，常规净水工艺系统难以将这些污染物有效除去，降低了饮用水水质，对人体健康构成潜在威胁。当前，一般常用的消毒方式是液氯、二氧化氯、紫外线和臭氧消毒等。在上述几种常用污水消毒技术中，液氯和二氧化氯消毒杀菌效率高，但易产生有毒的消毒副产物，腐蚀性强，受pH影响大，现场制取设备复杂，设备管理复杂等；紫外线技术虽操作简单，无有害残余物质，运行维修管理费用低，但是存在电耗大，紫外灯管与石英套管需定期更换；臭氧消毒有高广谱抗菌性，对细菌、病毒、芽孢均有灭杀作用，并且接触时间短，DBP产生量少，但是需现场制备，有毒，高腐蚀性，初期投资成本较高。随着人们生活水平的提高和健康安全意识的不断增强，对饮用水水质标准提出了更高要求，尤其在人数较少的饮用水获取困难的情况下，无法使用大规模水质净化装置和系统，因此造成该类人群的饮水困难，有的虽经过简易的蓄水池引入到各户家中，但设施十分简陋，有的根本没有经过处理就直接作为生活饮用水；因此开发一种低能耗、成本低、无二次污染的消毒装置是非常必要的。
技术实现思路
本专利技术的目的是解决上述现有各种方法存在的不足，提供一种等离子体水消毒装置，解决在人数较少的饮用水获取困难的情况下，无法使用大规模水质净化装置和系统造成该类人群的饮水困难问题，或城市饮用水受到污染时提供安全可靠的饮用水消毒处理装置。本专利技术的目的通过如下技术方案实现：一种等离子体水消毒装置，包括储水容器、位于储水容器顶部一侧的进水口、设在储水容器顶部内侧的消毒区，在消毒区内安装有等离子体发生装置，在储水容器顶部另一侧安装有水位监测传感器并在储水容器底部一侧设有出水阀门；在储水容器内位于等离子体发生装置下方设有地电极，并在地电极上设置有截水装置，在等离子体发生装置内设置有阵列电极。本专利技术进水口设为矩形体结构，尺寸为：长20cm、宽10cm、高15mm，其底部均布开设有10个直径为2mm的进水孔，进水孔中心与地电极的距离为4mm。本专利技术阵列电极的内部由直径为1mm，长15mm的不锈钢棒制成，外部包有一层厚1.5mm绝缘介质，阵列电极与地电极之间的距离为5mm。本专利技术等离子体发生装置使用的电源电压为5kV～15kV，频率为1kHz～25kHz。本专利技术截水装置高度为2mm。本专利技术待消毒水通过进水区流经消毒区最后进入储水区，当储水区的水位到达水位监测传感器时，等离子体发生装置停止工作，同时装置发出报警声，消毒后的水经阀门流出供日常使用。本专利技术的有益效果是：一种等离子体水消毒装置可以解决在人数较少的饮用水获取困难的情况下，如农村偏远地区无法使用大规模水质净化装置和系统造成该类人群的饮水困难问题，也可以解决城市饮用水受到污染时，提供家庭安全可靠的饮用水消毒处理。附图说明图1为一种等离子体水消毒装置的结构示意图。具体实施方式如图1所示，一种等离子体水消毒装置，包括储水容器8、位于储水容器8顶部一侧的进水口1、设在储水容器8顶部内侧的消毒区3，在消毒区3内安装有等离子体发生装置10，在储水容器8顶部另一侧安装有水位监测传感器7并在储水容器8底部一侧设有出水阀门9，在储水容器8内位于等离子体发生装置10下方设有地电极5，并在地电极5上设置有截水装置6，在等离子体发生装置10内设置有阵列电极4；进水口1为矩形体结构，尺寸为：长20cm、宽10cm、高15mm，其底部均布开设有10个直径为2mm的进水孔2，可有效控制水流过快。消毒区内部装有等离子体发生装置10，等离子体发生在装置的电源电压为5kV～15kV，频率为1kHz～25kHz，等离子体发生装置的高压极为阵列电极4，电极内部为直径1mm的不锈钢针，外部为直径2mm的绝缘介质，阵列电极与地电极5之间的最近距离为5mm，水从地电极上流过消毒区，地电极上设置有截水装置6，截水装置高度为2mm，消毒后的水从截水装置上方溢出流入储水区8，储水区设置有有水位监测传感器7和阀门9，当储水区的水位到达水位监测传感器时，等离子体发生装置停止工作并发出报警声。消毒后的水从阀门排出供家庭日常使用，阀门也可以外接水管，把消毒后的水导入到更大的储水区内，供更多的人使用。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体水消毒装置，包括储水容器(8)、位于储水容器(8)顶部一侧的进水口(1)、设在储水容器(8)顶部内侧的消毒区(3)，在消毒区(3)内安装有等离子体发生装置(10)，在储水容器(8)顶部另一侧安装有水位监测传感器(7)并在储水容器(8)底部一侧设有出水阀门(9)；在储水容器(8)内位于等离子体发生装置(10)下方设有地电极(5)，并在地电极(5)上设置有截水装置(6)，在等离子体发生装置(10)内设置有阵列电极(4)。

【技术特征摘要】
1.一种等离子体水消毒装置，包括储水容器(8)、位于储水容器(8)顶部一侧的进水口(1)、设在储水容器(8)顶部内侧的消毒区(3)，在消毒区(3)内安装有等离子体发生装置(10)，在储水容器(8)顶部另一侧安装有水位监测传感器(7)并在储水容器(8)底部一侧设有出水阀门(9)；在储水容器(8)内位于等离子体发生装置(10)下方设有地电极(5)，并在地电极(5)上设置有截水装置(6)，在等离子体发生装置(10)内设置有阵列电极(4)。2.根据权利要求1所述的一种等离子体水消毒装置，其特征在于，进水口(1)设为矩形体结构，尺寸为：长20cm、...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏晓飞，罗东昆，刘石伟，吴征威，王建新，张军，傅劲裕，
申请(专利权)人：云南航天工业有限公司，
类型：发明
国别省市：云南,53