柔性显示母板及其制备方法、切割方法技术

技术编号:16177041 阅读:29 留言:0更新日期:2017-09-09 04:25
本发明专利技术公开了一种柔性显示母板及其制备方法、切割方法,其中,该柔性显示母板包括:硬质衬底基板和位于硬质衬底基板一侧的柔性衬底基板,柔性衬底基板划分有切割区域和非切割区域,硬质衬底基板朝向柔性衬底基板的一侧且对应于切割区域内形成有发热图形,发热图形用于在施加电流后产生热量。在本发明专利技术中,当需要对柔性显示母板进行切割时,仅需向发热图形施加电流值较大的电流,发热图形瞬间产生高热量以对柔性衬底基板的切割区域进行切割,此时硬质衬底基板保持完整。本发明专利技术提供的柔性显示母板在进行切割时,可保证硬质衬底基板不被切割,进而可被重复利用,有效减少耗材。

【技术实现步骤摘要】
柔性显示母板及其制备方法、切割方法
本专利技术涉及显示
,特别涉及一种柔性显示母板及其制备方法、切割方法。
技术介绍
现有技术中,柔性基板的制备需要在硬质的载板上完成,待柔性基板完成制备后,利用切割设备对整个基板进行切割,以得到若干个小尺寸的基板,最后将硬质载板与柔性基板进行剥离处理,以得到小尺寸的柔性基板。现有的切割设备一般为激光切割机,在切割过程中硬质载板也会一同被切割,从而导致耗材较大。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种柔性显示母板及其制备方法、切割方法。为实现上述目的,本专利技术提供了一种柔性显示母板,包括:硬质衬底基板和位于硬质衬底基板一侧的柔性衬底基板,所述柔性衬底基板划分有切割区域和非切割区域;所述硬质衬底基板朝向所述柔性衬底基板的一侧且对应于所述切割区域内形成有发热图形,所述发热图形用于产生热量。可选地,所述发热图形用于在施加电流后产生热量。可选地,所述发热图形位于所述硬质衬底基板朝向所述柔性衬底基板一侧的表面;或者,所述发热图形位于所述柔性衬底基板内。或者,所述发热图形位于所述柔性衬底基板背向所述硬质衬底基板的一侧。可选地,还包括:用于进行显示的若干个显示功能膜层;所述显示功能膜层位于所述柔性衬底基板背向所述硬质衬底基板的一侧。可选地,所述加热图形的材料为钨。为实现上述目的,本专利技术提供了一种柔性显示母板的制备方法,包括:在硬质衬底基板的一侧形成柔性衬底基板和发热图形,所述柔性衬底基板划分有切割区域和非切割区域,所述发热图形位于所述切割区域内,所述发热图形用于在施加电流后产生热量。可选地,所述在所述硬质衬底基板的一侧形成柔性衬底基板和发热图形的步骤包括:在硬质衬底基板的一侧形成发热图形,所述发热图形位于切割区域内;在所述发热图形背向所述硬质衬底基板的一侧形成柔性衬底基板。可选地,所述在所述硬质衬底基板的一侧形成柔性衬底基板和发热图形的步骤包括:在硬质衬底基板的一侧形成第一柔性衬底膜层;在所述第一柔性衬底膜层背向所述硬质衬底基板的一侧形成发热图形,所述发热图形位于切割区域内;在所述发热图形背向所述硬质衬底基板的一侧形成第二柔性衬底膜层,所述第一柔性衬底膜层和所述第二柔性衬底膜层构成所述柔性衬底基板。可选地,所述在所述硬质衬底基板的一侧形成柔性衬底基板和发热图形的步骤包括:在硬质衬底基板的一侧形成柔性衬底基板;在所述柔性衬底基板背向所述硬质衬底基板的一侧形成发热图形,所述发热图形位于切割区域内。为实现上述目的,本专利技术还提供了一种柔性显示母板的切割方法,所述柔性显示母板采用上述的柔性显示母板;所述切割方法包括:对所述发热图形施加电流,所述发热图形产生热量以将所述柔性显示母板进行切割。本专利技术具有以下有益效果:本专利技术提供了一种柔性显示母板及其制备方法、切割方法,其中,该柔性显示母板包括:硬质衬底基板和位于硬质衬底基板一侧的柔性衬底基板,柔性衬底基板划分有切割区域和非切割区域,硬质衬底基板朝向柔性衬底基板的一侧且对应于切割区域内形成有发热图形,发热图形用于在施加电流后产生热量。在本专利技术中,当需要对柔性显示母板进行切割时,仅需向发热图形施加电流值较大的电流,发热图形瞬间产生高热量以对柔性衬底基板的切割区域进行切割,此时硬质衬底基板保持完整。本专利技术提供的柔性显示母板在进行切割时,可保证硬质衬底基板不被切割,进而可被重复利用,有效减少耗材。附图说明图1为本专利技术实施例一提供的一种柔性显示母板的结构示意图;图2为图1所示柔性显示母板的俯视图;图3为本专利技术实施例一提供的一种柔性显示母板的制备方法的流程图;图4为本专利技术实施例二提供的一种柔性显示母板的结构示意图;图5为发热图形位于柔性衬底基板内的示意图;图6为本专利技术实施例二提供的一种柔性显示母板的制备方法的流程图;图7为本专利技术实施例三提供的一种柔性显示母板的结构示意图;图8为本专利技术实施例三提供的一种柔性显示母板的制备方法的流程图。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案,下面结合附图对本专利技术提供的一种柔性显示母板及其制备方法、切割方法进行详细描述。实施例一图1为本专利技术实施例一提供的一种柔性显示母板的结构示意图,图2为图1所示柔性显示母板的俯视图,如图1和图2所示,该柔性显示母板包括:硬质衬底基板1和位于硬质衬底基板一侧的柔性衬底基板2,柔性衬底基板2划分有切割区域1a和非切割区域1b,硬质衬底基板1朝向柔性衬底基板2的一侧且对应于切割区域1a内形成有发热图形3,发热图形3用于产生热量以对切割区域1a进行切割。可选地,发热图形3为电致发热材料构成,发热图形3在施加电流后产生热量。优选地,发热图形3的材料为电-热转换效率较高的材料,具体地,发热图形3的材料为钨。在本专利技术中,当需要对柔性显示母板进行切割时,仅需向发热图形3施加电流值较大的电流,发热图形3瞬间产生高热量以对柔性衬底基板的切割区域1a进行切割,此时硬质衬底基板1保持完整。由上述内容可见,本专利技术提供的柔性显示母板在进行切割时,可保证硬质衬底基板1不被切割,进而可被重复利用,有效减少耗材。在本实施例中,柔性衬底基板2背向硬质衬底基板1的一侧设置有若干个显示功能膜层4(图中仅示例性画出了一层显示功能膜层4),各显示功能膜层4相互配合用于实现显示。需要说明的是,本专利技术中的柔性显示母板可以为任意的显示基板的母板,例如,当柔性显示母板为液晶显示面板中的阵列基板的母板时,则显示功能膜层4具体可包括薄膜晶体管中的各功能膜层、钝化层、像素电极层等;当柔性显示母板为有机发光显示面板中的阵列基板的母板时,则显示功能膜层4具体可包括薄膜晶体管中的各功能膜层、有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,简称OLED)中的各功能膜层等。对于其他情况,此处不再一一举例说明。需要说明的是,在利用发热图形对柔性衬底基板进行切割的同时,位于柔性衬底基板背向硬质衬底基板的一侧各显示功能膜层也会被切割。此外,上述柔性显示母板中包括显示功能膜层的情况仅起到示例性作用,其不会对本专利技术的技术方案产生限制。作为本专利技术中的一种可选方案,发热图形3位于硬质衬底基板1朝向柔性衬底基板2一侧的表面,即发热图形3直接形成于硬质衬底基板1的表面。在柔性显示母板完成切割且从硬质衬底基板1表面剥离后,发热图形3依旧可固定保留在硬质衬底基板1的表面,此时硬质衬底基板1和发热图形3均可以被重复利用。图3为本专利技术实施例一提供的一种柔性显示母板的制备方法的流程图,如图3所示,该制备方法用于制备图1所示柔性显示母板,该制备方法包括:步骤S101、在硬质衬底基板的一侧形成发热图形,发热图形位于切割区域内。在步骤S101中,可先在硬质衬底基板的一侧形成发热材料薄膜,其中,形成薄膜通常有沉积、涂敷、溅射等多种方式;然而,对发热材料薄膜进行一次构图工艺,通常包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺,从而得到发热图形。当然,本专利技术中还可以采用打印、印刷等更多其他的构图方式以得到发热图形。此处不再一一举例说明。步骤S102、在发热图形背向硬质衬底基板的一侧形成柔性衬底基板。在步骤S102中,可在硬质衬底基板上设置有发热图形的一侧旋涂一层聚酰亚胺(PI)的树脂溶液,以1-100℃/min的升本文档来自技高网...
柔性显示母板及其制备方法、切割方法

【技术保护点】
一种柔性显示母板,其特征在于,包括:硬质衬底基板和位于硬质衬底基板一侧的柔性衬底基板,所述柔性衬底基板划分有切割区域和非切割区域;所述硬质衬底基板朝向所述柔性衬底基板的一侧且对应于所述切割区域内形成有发热图形,所述发热图形用于产生热量。

【技术特征摘要】
1.一种柔性显示母板,其特征在于,包括:硬质衬底基板和位于硬质衬底基板一侧的柔性衬底基板,所述柔性衬底基板划分有切割区域和非切割区域;所述硬质衬底基板朝向所述柔性衬底基板的一侧且对应于所述切割区域内形成有发热图形,所述发热图形用于产生热量。2.根据权利要求1所述的柔性显示母板,其特征在于,所述发热图形用于在施加电流后产生热量。3.根据权利要求1所述的柔性显示母板,其特征在于,所述发热图形位于所述硬质衬底基板朝向所述柔性衬底基板一侧的表面;或者,所述发热图形位于所述柔性衬底基板内;或者,所述发热图形位于所述柔性衬底基板背向所述硬质衬底基板的一侧。4.根据权利要求1所述的柔性显示母板,其特征在于,还包括:用于进行显示的若干个显示功能膜层;所述显示功能膜层位于所述柔性衬底基板背向所述硬质衬底基板的一侧。5.根据权利要求1所述的柔性显示母板,其特征在于,所述加热图形的材料为钨。6.一种柔性显示母板的制备方法,其特征在于,包括:在硬质衬底基板的一侧形成柔性衬底基板和发热图形,所述柔性衬底基板划分有切割区域和非切割区域,所述发热图形位于所述切割区域内,所述发热图形用于在施加电流后产生热量。7.根据权利要6所述的柔性显示母板的制备方法...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨栋芳
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1