一种椭圆机用亮光盖面硅胶及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种椭圆机用亮光盖面硅胶，其由以下质量份数的原料组成：100份乙烯基聚硅氧烷、10‑15份白炭黑、0.15‑0.2份抑制剂、0.3‑0.5份铂金催化剂、11‑12份含氢硅油和0.2‑0.5份氟烃基硅油。本发明专利技术采用乙烯基含量0.13％的基胶、0.2％含量的含氢硅油、丙基丁炔醇和甲基丁炔醇的复合物，使硅胶胶料在50℃左右，5S左右表干，操作时间大于4H，适合椭圆机操作需求。还公开了该椭圆机用亮光盖面硅胶的制备方法，本发明专利技术制备出粘度在1万左右的盖面硅胶，消泡流平快，且不会发脆，适合椭圆机操作。拥有较长的操作时间、较快硫化速度以及消泡、流平迅速，盖面胶物理性能良好，不会发脆。

【技术实现步骤摘要】
一种椭圆机用亮光盖面硅胶及其制备方法
本专利技术涉及丝网硅胶印花领域，具体涉及一种椭圆机用亮光盖面硅胶和该椭圆机用亮光盖面硅胶的制备方法。
技术介绍
印花硅胶是一种通过丝网印刷可以牢固地粘附于纺织品表面的特种液态硅胶。现有技术中，当前的印花硅胶普遍只适用于手印环境，工作效率低，劳动成本高，产品性能稳定度低。随着机械化、智能化的发展，印花行业迫切需要有适合椭圆机机印的印花硅胶。采取机印的方法，目前市场上的印花硅胶是存在一些技术问题的。例如，普通手印硅胶用于机印盖面胶，存在着消泡慢的问题，某些亮光盖面产品，虽然消泡快，但胶料强度很差，发脆。为克服上述缺陷，本专利技术采用特殊的硅胶配方，满足胶料的强度前提下，消泡迅速，表面亮光效果，适合于椭圆机用亮光盖面硅胶。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，针对上述问题提供一种椭圆机用亮光盖面硅胶。本专利技术的目的还在于，提供一种该椭圆机用亮光盖面硅胶的制备方法。本专利技术为实现上述目的所采用的技术方案是：一种椭圆机用亮光盖面硅胶，其由以下质量份数的原料组成：100份乙烯基聚硅氧烷、10-15份白炭黑、0.15-0.2份抑制剂、0.3-0.5份铂金催化剂、11-12份含氢硅油和0.2-0.5份氟烃基硅油。所述乙烯基聚硅氧烷为含有两个或两个以上乙烯基的聚二有机基硅氧烷。所述乙烯基聚硅氧烷为双端乙烯基聚二甲基硅氧烷，粘度在3000mPa.s-5000mP.s，乙烯基含量优选0.13％。所述抑制剂为甲基丁炔醇、乙炔基环己醇、苯基丁炔醇、丙基丁炔醇中的两种。所述抑制剂为丙基丁炔醇和甲基丁炔醇的复合物。所述白炭黑为经过表面处理的气相法白炭黑。所述铂金催化剂为H2PtCl6的异丙醇溶液、H2PtCl6的四氢呋喃溶液、Pt(PPh3)4、甲基乙烯基聚硅氧烷配位的铂络合物的一种或几种的混合物。所述铂金催化剂的浓度为5000ppm。所述含氢硅油的含氢量为0.2％。一种前述椭圆机用亮光盖面硅胶的制备方法，其包括以下步骤：步骤一：制备乙烯基基胶，将乙烯基聚硅氧烷、经过表面处理的白炭黑，按比例加入捏合机，160℃，捏合1H，取出，冷却，然后将该浆料与铂金催化剂、氟烃基硅油，按比例加入行星搅拌机，搅拌0.5H，至分散均匀，抽真空，得到乙烯基基胶，作为A组分；将抑制剂、含氢硅油，使用分散机，分散均匀，作为B组分；步骤二：制备亮光盖面印花硅胶，使用时，A、B组分混合均匀，即可制得椭圆机用亮光盖面硅胶浆料。本专利技术的有益效果为：本专利技术采用乙烯基含量0.13％的基胶、0.2％含量的含氢硅油、丙基丁炔醇和甲基丁炔醇的复合物，使硅胶胶料在50℃左右，5S左右表干，操作时间大于4H，适合椭圆机操作需求。本专利技术采用合适粘度的乙烯基聚硅氧烷，适当比例的白炭黑，适当比例的特效消泡剂氟烃基硅油，最终制备出粘度在1万左右的盖面硅胶，消泡流平快，且不会发脆，适合椭圆机操作。本专利技术制得的盖面硅胶，适用于椭圆机印花工艺。避免了手工丝印用盖面硅胶，用于椭圆机上的种种弊端。拥有较长的操作时间、较快硫化速度以及消泡、流平迅速，盖面胶物理性能良好，不会发脆，适合机印的特点等。具体实施方式实施例1，本实施例提供的一种椭圆机用亮光盖面硅胶，其由以下质量份数的原料组成：100份乙烯基聚硅氧烷、10-15份白炭黑、0.15-0.2份抑制剂、0.3-0.5份铂金催化剂、11-12份含氢硅油和0.2-0.5份氟烃基硅油。所述乙烯基聚硅氧烷为含有两个或两个以上乙烯基的聚二有机基硅氧烷。所述乙烯基聚硅氧烷为双端乙烯基聚二甲基硅氧烷，粘度在3000mPa.s-5000mP.s，乙烯基含量优选0.13％。所述抑制剂为甲基丁炔醇、乙炔基环己醇、苯基丁炔醇、丙基丁炔醇中的两种。所述抑制剂为丙基丁炔醇和甲基丁炔醇的复合物。所述白炭黑为经过表面处理的气相法白炭黑。所述铂金催化剂为H2PtCl6的异丙醇溶液、H2PtCl6的四氢呋喃溶液、Pt(PPh3)4、甲基乙烯基聚硅氧烷配位的铂络合物的一种或几种的混合物。所述铂金催化剂的浓度为5000ppm。所述含氢硅油的含氢量为0.2％。一种前述椭圆机用亮光盖面硅胶的制备方法，其包括以下步骤：步骤一：制备乙烯基基胶，将乙烯基聚硅氧烷、经过表面处理的白炭黑，按比例加入捏合机，160℃，捏合1H，取出，冷却，然后将该浆料与铂金催化剂、氟烃基硅油，按比例加入行星搅拌机，搅拌0.5H，至分散均匀，抽真空，得到乙烯基基胶，作为A组分；将抑制剂、含氢硅油，使用分散机，分散均匀，作为B组分；步骤二：制备亮光盖面印花硅胶，使用时，A、B组分混合均匀，即可制得椭圆机用亮光盖面硅胶浆料。本专利技术采用乙烯基含量0.13％的基胶、0.2％含量的含氢硅油、丙基丁炔醇和甲基丁炔醇的复合物，使硅胶胶料在50℃左右，5S左右表干，操作时间大于4H，适合椭圆机操作需求。本专利技术采用合适粘度的乙烯基聚硅氧烷，适当比例的白炭黑，适当比例的特效消泡剂氟烃基硅油，最终制备出粘度在1万左右的盖面硅胶，消泡流平快，且不会发脆，适合椭圆机操作。本专利技术制得的盖面硅胶，适用于椭圆机印花工艺。避免了手工丝印用盖面硅胶，用于椭圆机上的种种弊端。拥有较长的操作时间、较快硫化速度以及消泡、流平迅速，盖面胶物理性能良好，不会发脆，适合机印的特点等。实施例2，本实施例提供的一种椭圆机用亮光盖面硅胶，其原料组成为：100g乙烯基聚硅氧烷(ViMe2Si(Me2SiO)nSiMeVi)、15g气相法白炭黑、0.3g铂金催化剂、0.5g氟烃基硅油、11g含氢硅油、0.1g丙基丁炔醇和0.05g甲基丁炔醇。向捏炼机中加入100g乙烯基聚硅氧烷(ViMe2Si(Me2SiO)nSiMeVi),然后加入15g经过表面处理的气相法白炭黑，160℃下捏炼1H，至捏炼均匀，冷却，然后将其投入行星搅拌机，再加入0.3g铂金催化剂、0.5g氟烃基硅油，混合30分钟，并抽真空，得到A组分。然后将11g含氢硅油、0.1g丙基丁炔醇、0.05g甲基丁炔醇投入分散机，分散15分钟，得到B组分。使用时，A、B组分混合均匀，即可用于椭圆机盖面胶丝印。机印环境(50℃印刷台面温度)，5s表干，5H操作时间。印刷厚度，0.15mm，3S内消泡、流平；印刷厚度，0.3mm，8S内消泡、流平。盖面胶，物理性性能良好，刮擦不会发脆。实施例3，本实施例提供的一种椭圆机用亮光盖面硅胶，其原料组成为：100g乙烯基聚硅氧烷(ViMe2Si(Me2SiO)nSiMeVi)、10g气相法白炭黑、0.3g铂金催化剂、0.2g氟烃基硅油、12g含氢硅油、0.1g丙基丁炔醇和0.1g甲基丁炔醇。向捏炼机中加入100g乙烯基聚硅氧烷(ViMe2Si(Me2SiO)nSiMeVi),然后加入10g经过表面处理的气相法白炭黑，160℃下捏炼1H，至捏炼均匀，冷却，然后将其投入行星搅拌机，再加入0.3g铂金催化剂、0.2g氟烃基硅油，混合30分钟，并抽真空，得到A组分。然后将12g含氢硅油、0.1g丙基丁炔醇、0.1g甲基丁炔醇投入分散机，分散15分钟，得到B组分。使用时，A、B组分混合均匀，即可用于椭圆机盖面胶丝印。机印环境(50℃印刷台面温度)，6s表干，6H操作时间。印刷厚度，0.15mm，3S内消泡、流平；印刷厚度，0.3mm，7S内消泡、流平。盖面胶，物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种椭圆机用亮光盖面硅胶，其特征在于，其由以下质量份数的原料组成：100份乙烯基聚硅氧烷、10‑15份白炭黑、0.15‑0.2份抑制剂、0.3‑0.5份铂金催化剂、11‑12份含氢硅油和0.2‑0.5份氟烃基硅油。

【技术特征摘要】
1.一种椭圆机用亮光盖面硅胶，其特征在于，其由以下质量份数的原料组成：100份乙烯基聚硅氧烷、10-15份白炭黑、0.15-0.2份抑制剂、0.3-0.5份铂金催化剂、11-12份含氢硅油和0.2-0.5份氟烃基硅油。2.根据权利要求1所述椭圆机用亮光盖面硅胶，其特征在于，所述乙烯基聚硅氧烷为含有两个或两个以上乙烯基的聚二有机基硅氧烷。3.根据权利要求2所述椭圆机用亮光盖面硅胶，其特征在于，所述乙烯基聚硅氧烷为双端乙烯基聚二甲基硅氧烷，粘度在3000mPa.s-5000mP.s，乙烯基含量优选0.13％。4.根据权利要求1所述椭圆机用亮光盖面硅胶，其特征在于，所述抑制剂为甲基丁炔醇、乙炔基环己醇、苯基丁炔醇、丙基丁炔醇中的两种。5.根据权利要求4所述椭圆机用亮光盖面硅胶，其特征在于，所述抑制剂为丙基丁炔醇和甲基丁炔醇的复合物。6.根据权利要求1所述椭圆机用亮光盖面硅胶，其特征在于，所述白炭黑为经过表面处理的气相法白炭黑。7.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：王志良，
申请(专利权)人：东莞市良展有机硅科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44