有机发光元件用光提取基板制造方法、有机发光元件用光提取基板及包含该基板的有机发光元件技术

本发明专利技术涉及一种有机发光元件用光提取基板制造方法、有机发光元件用光提取基板及包含该基板的有机发光元件，具体而言，涉及一种如下的有机发光元件用光提取基板制造方法、有机发光元件用光提取基板及包含该基板的有机发光元件：可提高有机发光元件的光提取效率，尤其可以降低工艺成本。为此，本发明专利技术提供一种有机发光元件用光提取基板制造方法、有机发光元件用光提取基板及包含该基板的有机发光元件，所述方法的特征在于，包括如下的步骤：混合物制造步骤，将多个热可塑性高分子混合于金属氧化物纳米分散液而制造混合物；混合物涂覆步骤，将所述混合物涂覆于基底基板上；以及混合物烧制步骤，将涂覆的所述混合物烧制，其中，在进行所述混合物烧制步骤时，所述多个热可塑性高分子被气化，在所述混合物烧制步骤完成之后，所述金属氧化物纳米分散液被制作成矩阵层，在所述矩阵层的内部，在气化之前曾由所述热可塑性高分子占据的位置处形成闭气孔。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】有机发光元件用光提取基板制造方法、有机发光元件用光提取基板及包含该基板的有机发光元件
本专利技术涉及一种有机发光元件用光提取基板制造方法、有机发光元件用光提取基板及包含该基板的有机发光元件，尤其涉及一种可提高有机发光元件的光提取效率，尤其可降低工艺成本的有机发光元件用光提取基板制造方法、有机发光元件用光提取基板及包含该基板的有机发光元件。
技术介绍
通常，发光装置大致可区分为：有机发光装置，利用有机物而形成发光层；无机发光装置，利用无机物而形成发光层。其中，构成有机发光装置的有机发光元件是一种如下的元件：从电子注入电极(cathode)注入的电子与从空穴注入电极(anode)注入的空穴在有机发光层中结合而形成激子(exiton)，该激子释放能量并实现发光，作为这种自发光型元件，具有低电功率驱动、自发光、宽视场角、高分辨率及天然颜色呈现、迅捷的响应速度等优点。近来，旨在将这种有机发光元件应用于便携式信息设备、像机、时钟、事务用设备、汽车等的信息显示窗口、电视、显示器或照明用设备等的研究正在活跃地进行。为了提高如上所述的有机发光元件的发光效率，存在如下的方法：提高构成发光层的材料的发光效率；或者提高从发光层发出的光的光提取效率。在此，光提取效率取决于构成有机发光元件的各个层的折射率。对于一般的有机发光元件而言，当从发光层中释放的光以临界角以上的角度发射时，在作为阳极的透明电极层之类的折射率较高的层与基板玻璃之类的折射率较低的层之间的界面处引起全反射，从而光提取效率降低，因此，存在有机发光元件的整体的发光效率降低的问题。对此进行如下具体说明。对于有机发光元件而言，发光量中只有20％释放到外部，80％左右的光因波导(waveguiding)效应和全反射效应而损失，所述波导效应由包括基板玻璃和阳极及空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层等的有机发光层的折射率差异引起，所述全反射效应由基板玻璃与空气的折射率差异引起。即，内部有机发光层的折射率为1.7～1.8，作为阳极而一般使用的ITO的折射率约为1.9。此时，两层的厚度大约为200～400nm，其非常薄，基板玻璃的折射率则是1.5，因此在有机发光元件内自然而然形成平面波导通道。据计算，由所述原因引起的内部波导模式所致损失的光的比率大约达到45％。此外，基板玻璃的折射率约为1.5，外部空气的折射率则是1.0，因此当光从基板玻璃向外部逸出时，以临界角以上的角度入射的光引起全反射，从而被孤立于基板玻璃内部，如此孤立的光的比率大约达到35％，因此只有尚不足发光量的20％左右的量被释放到外界。为了解决这种问题，对于将因光波导模式而消失的80％的光引出到外界的光提取层的研究正在活跃地进行。在此，光提取层大致分为内部光提取层和外部光提取层。此时，对于外部光提取层而言，将包括多样的形态的微透镜的薄膜设置在基板外部，从而可以获取光提取效应，然而却存在不显著地受透镜形态的约束的特性。并且，内部光提取层直接提取因光波导模式而消失的光，从而具有效率可增大性远比外部光提取层高的优点。在此，以往为了制造这种内部光提取层，主要使用了如下的方法：通过图案化而在层内形成折射率不同的结构；或者涂覆金属氧化物粒子之类的折射率不同的物质。其中，在涂覆折射率不同的物质的方法中，例如使用芯(core)和壳(shell)的折射率不同的芯-壳纳米粒子，或者使用芯构成为中空的纳米粒子，从而制造出折射率偏差增大的内部光提取层。然而，对于芯-壳纳米粒子或芯构成为中空的纳米粒子而言，其价格与一般的纳米粒子相比，是高出5倍或10倍以上的高价，因此如果利用这些粒子制造内部光提取层，则存在工艺成本增加的问题。[现有技术文献]韩国授权专利公报第1093259号(2011.12.06.)
技术实现思路
技术问题本专利技术是为了解决如上所述的现有技术的问题而提出的，本专利技术的目的在于提供一种有机发光元件用光提取基板制造方法、有机发光元件用光提取基板及包含该基板的有机发光元件，其可可以提高有机发光元件的光提取效率，尤其可以降低工艺成本。技术方案为此，本专利技术提供一种有机发光元件用光提取基板制造方法，其特征在于，包括如下的步骤：混合物制造步骤，将多个热可塑性高分子混合于金属氧化物纳米分散液而制造混合物；混合物涂覆步骤，将所述混合物涂覆于基底基板上；以及混合物烧制步骤，将涂覆的所述混合物烧制，其中，在进行所述混合物烧制步骤时，所述多个热可塑性高分子被气化，在所述混合物烧制步骤完成之后，所述金属氧化物纳米分散液被制作成矩阵层，在所述矩阵层的内部，在气化之前曾由所述热可塑性高分子占据的位置处形成闭气孔。其中，在所述混合物制造步骤中，作为所述金属氧化物而可使用折射率n为1.5～2.7的金属氧化物。在所述混合物制造步骤中，作为所述金属氧化物，可将包括SiO2、TiO2、ZrOx、ZnO及SnO2的金属氧化物候选组中的任意一个物质或两个以上的物质组合而使用。在所述混合物制造步骤中，作为所述金属氧化物而可使用金红石(rutile)结晶相态或锐钛矿(anatase)结晶相态的所述TiO2。在所述混合物制造步骤中，作为所述热可塑性高分子而可使用包括如下物质的候选组中的任意一种物质：聚对苯二甲酸、聚苯乙烯、聚丙烯、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚萘二甲酸及聚碳酸酯。并且，在所述混合物涂覆步骤中，可通过棒涂覆而将所述混合物涂覆于所述基底基板上。在所述混合物涂覆步骤中，可按层对层(LbL；Layer-by-Layer)形态将所述混合物涂覆于所述基底基板上。所述混合物涂覆步骤可包括如下的过程：针对各个层，在涂覆所述混合物之后，进行干燥。在所述混合物烧制步骤完成之后，所述方法还可以包括如下的步骤：平坦层形成步骤，在制作成的所述矩阵层上形成平坦层。在所述平坦层形成步骤中，作为所述平坦层可使用无机物或有机与无机杂化物质。而且，在所述平坦层形成步骤之前，所述方法还可以包括：封盖层形成步骤，在所述矩阵层上形成封盖层。在所述封盖层形成步骤中，作为所述封盖层，可使用与构成所述矩阵层的所述金属氧化物相同的物质。在所述混合物烧制步骤中，可在所述热可塑性高分子的熔点温度以下的温度下执行一次烧制，并在所述热可塑性高分子的沸点温度以上的温度下执行二次烧制。并且，在所述混合物烧制步骤中，可以以单一热处理工艺进行所述一次烧制和二次烧制。在所述混合物烧制步骤中，可制作形成能够对所述热可塑性高分子提供气化通道(path)的多孔性结构的所述矩阵层，以在所述热可塑性高分子气化的情况下构成所述闭气孔被封闭的结构。作为所述基底基板，可使用柔性基板。作为所述基底基板，可使用厚度为1.5mm以下的薄板玻璃。另外，本专利技术提供一种有机发光元件用光提取基板，其特征在于，包括：基底基板；矩阵层，形成于所述基底基板上，并由多孔性结构的金属氧化物构成；以及多个闭气孔，形成于所述矩阵层的内部，通过多个热可塑性高分子的气化而形成，其中，所述闭气孔根据所述金属氧化物的粒子大小而形成为球形形状或盘形状。其中，所述矩阵层的厚度可以是200～2000nm。所述闭气孔的直径可以是30nm至1μm。所述多个闭气孔可以以构成层的形态形成于所述矩阵层的内部。而且，所述有机发光元件用光提取基板还可以包括：平坦层，形成于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机发光元件用光提取基板制造方法，其特征在于，包括如下的步骤：混合物制造步骤，将多个热可塑性高分子混合于金属氧化物纳米分散液而制造混合物；混合物涂覆步骤，将所述混合物涂覆于基底基板上；以及混合物烧制步骤，将涂覆的所述混合物烧制，其中，在进行所述混合物烧制步骤时，所述多个热可塑性高分子被气化，在所述混合物烧制步骤完成之后，所述金属氧化物纳米分散液被制作成矩阵层，在所述矩阵层的内部，在气化之前曾由所述热可塑性高分子占据的位置处形成闭气孔。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.29 KR 10-2014-01917391.一种有机发光元件用光提取基板制造方法，其特征在于，包括如下的步骤：混合物制造步骤，将多个热可塑性高分子混合于金属氧化物纳米分散液而制造混合物；混合物涂覆步骤，将所述混合物涂覆于基底基板上；以及混合物烧制步骤，将涂覆的所述混合物烧制，其中，在进行所述混合物烧制步骤时，所述多个热可塑性高分子被气化，在所述混合物烧制步骤完成之后，所述金属氧化物纳米分散液被制作成矩阵层，在所述矩阵层的内部，在气化之前曾由所述热可塑性高分子占据的位置处形成闭气孔。2.如权利要求1所述的有机发光元件用光提取基板制造方法，其特征在于，在所述混合物制造步骤中，作为所述金属氧化物而使用折射率n为1.5～2.7的金属氧化物。3.如权利要求2所述的有机发光元件用光提取基板制造方法，其特征在于，在所述混合物制造步骤中，作为所述金属氧化物，将包括SiO2、TiO2、ZrOx、ZnO及SnO2的金属氧化物候选组中的任意一个物质或两个以上的物质组合而使用。4.如权利要求3所述的有机发光元件用光提取基板制造方法，其特征在于，在所述混合物制造步骤中，作为所述金属氧化物而使用金红石结晶相态或锐钛矿结晶相态的所述TiO2。5.如权利要求1所述的有机发光元件用光提取基板制造方法，其特征在于，在所述混合物制造步骤中，作为所述热可塑性高分子而使用包括如下物质的候选组中的任意一种物质：聚对苯二甲酸、聚苯乙烯、聚丙烯、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚萘二甲酸及聚碳酸酯。6.如权利要求1所述的有机发光元件用光提取基板制造方法，其特征在于，在所述混合物涂覆步骤中，通过棒涂覆而将所述混合物涂覆于所述基底基板上。7.如权利要求6所述的有机发光元件用光提取基板制造方法，其特征在于，在所述混合物涂覆步骤中，以层对层形态将所述混合物涂覆于所述基底基板上。8.如权利要求7所述的有机发光元件用光提取基板制造方法，其特征在于，所述混合物涂覆步骤包括如下的过程：针对各个层，在涂覆所述混合物之后进行干燥。9.如权利要求8所述的有机发光元件用光提取基板制造方法，其特征在于，在所述混合物烧制步骤完成之后，还包括如下的步骤：平坦层形成步骤，在制作成的所述矩阵层上形成平坦层。10.如权利要求9所述的有机发光元件用光提取基板制造方法，其特征在于，在所述平坦层形成步骤中，作为所述平坦层使用无机物或有机与无机杂化物质。11.如权利要求9所述的有机发光元件用光提取基板制造方法，其特征在于，在所述平坦层形成步骤之前，还包括：封盖层形成步骤，在所述矩阵层上形成封盖...

【专利技术属性】
技术研发人员：允江达，金玟奭，金序炫，尹根尙，尹洪，
申请(专利权)人：康宁精密素材株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR