用于陶瓷坯上釉的上釉设备制造技术

技术编号:16095854 阅读:69 留言:0更新日期:2017-08-29 19:58
本实用新型专利技术涉及陶瓷坯上釉装置,公开了一种用于陶瓷坯上釉的上釉设备,包括底部支撑装置、侧向支撑装置以及把手;其中,所述侧向支撑装置的两端分别连接底部支撑装置以及把手;所述底部支撑装置朝向所述侧向支撑装置的一侧延伸;所述把手位于所述侧向支撑装置的远离所述底部支承装置的一侧并向外侧延伸。本实用新型专利技术的优点在于,解决了快递配送的最后阶段的信息同步延迟的问题,效率高,可替换现有的纯粹人工的快递包裹到达通知方式,具有较高的应用价值。

Glazing equipment for glazing of ceramic blanks

The utility model relates to a ceramic glazing device, a device for glazed ceramic glazing is disclosed, comprising a bottom support device, lateral support device and a handle; wherein, the two ends of the lateral support device are respectively connected at the bottom of the support device and a handle; the bottom of the support device toward the side of the lateral support device extension; the handle is positioned on the lateral support device from the side of the bottom support device and extending to the outside. The utility model has the advantages of solving the final stage of express distribution information of the synchronization delay problem, high efficiency, can replace the existing pure artificial express parcel arrival notice, has higher application value.

【技术实现步骤摘要】
用于陶瓷坯上釉的上釉设备
本技术涉及陶瓷坯上釉装置,特别涉及一种用于陶瓷坯上釉的上釉设备。
技术介绍
陶瓷上釉是指在成形或者初步干燥后的陶瓷坯上涂上一层釉料,让烧制后的陶瓷器具的表面更为光滑,器形更为优雅和美观。上釉需要将陶瓷坯放入釉缸的釉料内,釉料会自动吸附在陶瓷坯上,形成一薄层。釉料薄层应当尽可能的均匀,烧制后的陶瓷器具的表面才会更为光滑。为了提高上釉的效率,提高上釉的质量,有必要研制一款具有以下结构的上釉专用设备。
技术实现思路
本技术针对现有技术中,上釉过程存在上釉均匀程度不足,影响烧制后陶瓷釉层质量的缺点,提供了一种用于陶瓷坯上釉的上釉设备。该设备是陶瓷品质和质量改良项目的内容之一,目的是让陶瓷上釉更为均匀,提高烧制后的釉层质量。为实现上述目的,本技术可采取下述技术方案:一种用于陶瓷坯上釉的上釉设备,包括底部支撑装置、侧向支撑装置以及把手;其中,所述侧向支撑装置的两端分别连接底部支撑装置以及把手;所述底部支撑装置朝向所述侧向支撑装置的一侧延伸;所述把手位于所述侧向支撑装置的远离所述底部支承装置的一侧并向外侧延伸。进一步地,作为一种可选的方案,在本申请的实施例中,所述侧向支撑装置的靠近所述底部支撑装置的部分具有相对侧向支撑装置其它部分较大的宽度。进一步地,作为一种可选的方案,在本申请的实施例中,所述底部支撑装置的靠近所述侧向支撑装置的位置设置有一沿着所述侧向支承装置的宽度方向延伸的支撑条。进一步地,作为一种可选的方案,在本申请的实施例中,所述支撑条上设置有分别沿着侧向支承装置和底部支承装置的表面延伸的加强筋。进一步地,作为一种可选的方案,在本申请的实施例中,所述加强筋在上釉设备的长度方向上,依次沿着所述侧向支撑装置和底部支撑装置的表面延伸。进一步地,作为一种可选的方案,在本申请的实施例中,所述加强筋和支撑条固定连接。进一步地,作为一种可选的方案,在本申请的实施例中,所述侧向支撑装置由沿着侧向支撑装置的边缘延伸的支撑杆围成。进一步地,作为一种可选的方案,在本申请的实施例中,所述底部支撑装置由沿着底部支撑装置的边缘延伸的支撑杆围成。进一步地,作为一种可选的方案,在本申请的实施例中,所述底部支撑装置由侧向支撑装置的一部分支撑杆朝向侧向支撑装置的一侧弯曲形成。进一步地,作为一种可选的方案,在本申请的实施例中,所述把手的凸出部分朝向底部支撑装置的方向弯曲。本技术具有以下的显著技术效果:可以提高釉层的均匀程度,提高上釉质量。同时可以提高上釉的效率。具有较高的应用价值。附图说明图1为用于陶瓷坯上釉的上釉设备的由斜向侧面进行观察的结构示意图。具体实施方式下面结合实施例对本技术作进一步的详细描述。实施例1如图1所示,一种用于陶瓷坯上釉的上釉设备,包括底部支撑装置100、侧向支撑装置200以及把手300;其中,所述侧向支撑装置200的两端分别连接底部支撑装置100以及把手300;侧向支撑装置200和底部支撑装置100用于放置陶瓷坯,操作者再将陶瓷坯放置到上釉设备之后,可以握住把手,将整个的陶瓷坯浸入釉缸内上釉。所述底部支撑装置100朝向所述侧向支撑装置200的一侧延伸;所述把手300位于所述侧向支撑装置200的远离所述底部支撑装置100的一侧并向外侧延伸。把手300和底部支撑装置100分别朝向侧向支撑装置200的两个方向,便于操作。进一步地,所述侧向支撑装置200的靠近所述底部支撑装置100的部分具有相对侧向支撑装置200其它部分较大的宽度。宽大的底部有利于放置陶瓷坯,放置在浸入釉缸的过程中,陶瓷坯由上釉设备脱落损坏陶瓷坯。进一步地,所述底部支撑装置100的靠近所述侧向支撑装置200的位置设置有一沿着所述侧向支撑装置200的宽度方向延伸的支撑条101。支撑条101仅仅是靠近侧向支撑装置200和底部支撑装置100的连接处,用于放置陶瓷坯接触釉缸的侧面。进一步地,所述支撑条101上设置有分别沿着侧向支撑装置200和底部支撑装置100的表面延伸的加强筋102。进一步地,所述加强筋102在上釉设备的长度方向上,依次沿着所述侧向支撑装置200和底部支撑装置100的表面延伸。加强筋的作用是起到进一步的强化作用,尤其可以放置大件的陶瓷坯的滚动。进一步地,所述加强筋和支撑条101固定连接,连接至支撑条101的加强筋102用于进一步将陶瓷坯和釉缸、上釉设备的其它部分相隔离。进一步地,所述侧向支撑装置200由沿着侧向支撑装置200的边缘延伸的支撑杆103围成。进一步地,所述底部支撑装置100由沿着底部支撑装置100的边缘延伸的支撑杆103围成。上述支撑杆103围成空心的支撑装置,有利于减轻上釉设备的重量,并减少上釉设备本身对陶瓷坯上釉的影响。进一步地,所述底部支撑装置100由侧向支撑装置的一部分支撑杆103朝向侧向支撑装置200的一侧弯曲形成。进一步地,所述把手300的凸出部分朝向底部支撑装置100的方向弯曲,弯曲的部分可以挂在釉缸的壁上,用于在上釉时暂时固定该上釉设备。总之,以上所述仅为本技术的较佳实施例,凡依本技术申请专利范围所作的均等变化与修饰,皆应属本技术专利的涵盖范围。本文档来自技高网...
用于陶瓷坯上釉的上釉设备

【技术保护点】
一种用于陶瓷坯上釉的上釉设备,其特征在于,包括底部支撑装置(100)、侧向支撑装置(200)以及把手(300);其中,所述侧向支撑装置(200)的两端分别连接底部支撑装置(100)以及把手(300);所述底部支撑装置(100)朝向所述侧向支撑装置(200)的一侧延伸;所述把手(300)位于所述侧向支撑装置(200)的远离所述底部支撑装置(100)的一侧并向外侧延伸。

【技术特征摘要】
1.一种用于陶瓷坯上釉的上釉设备,其特征在于,包括底部支撑装置(100)、侧向支撑装置(200)以及把手(300);其中,所述侧向支撑装置(200)的两端分别连接底部支撑装置(100)以及把手(300);所述底部支撑装置(100)朝向所述侧向支撑装置(200)的一侧延伸;所述把手(300)位于所述侧向支撑装置(200)的远离所述底部支撑装置(100)的一侧并向外侧延伸。2.根据权利要求1所述的用于陶瓷坯上釉的上釉设备,其特征在于,所述侧向支撑装置(200)的靠近所述底部支撑装置(100)的部分具有相对侧向支撑装置(200)其它部分较大的宽度。3.根据权利要求1所述的用于陶瓷坯上釉的上釉设备,其特征在于,所述底部支撑装置(100)的靠近所述侧向支撑装置(200)的位置设置有一沿着所述侧向支撑装置(200)的宽度方向延伸的支撑条(101)。4.根据权利要求3所述的用于陶瓷坯上釉的上釉设备,其特征在于,所述支撑条(101)上设置有分别沿着侧向支撑装置(200)和底部支撑装置(100)的表面延伸的...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑一利陈仓穹
申请(专利权)人:浙江楠宋瓷业有限公司
类型:新型
国别省市:浙江,33

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