阵列基板制造技术

技术编号:16078898 阅读:228 留言:0更新日期:2017-08-25 14:59
本发明专利技术公开了一种阵列基板,包含基板、第一金属层、绝缘层、第二金属层与接地线。基板包含主动区与扇出区。扇出区位于主动区的一侧。第一金属层设置于基板上。第一金属层包含多条扫描线与多条连接线。多条扫描线位于主动区。多条连接线位于扇出区且分别连接多条扫描线。绝缘层设置于第一金属层上。第二金属层设置于绝缘层上。第二金属层包含多条数据线与虚设块。多条数据线与虚设块电性分离。多条数据线位于主动区且与多条扫描线交叉设置。虚设块位于扇出区且与多条连接线交叉设置。接地线耦接虚设块,并将虚设块电性连接至参考电位。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板
本专利技术是关于一种阵列基板,特别是一种可改善馈通效应(feedthrougheffect)的阵列基板。
技术介绍
随着光电与半导体技术的演进,带动了显示器的蓬勃发展。在诸多显示器中,尤以液晶显示面板因具有低功率消耗、薄型量轻、色彩饱和度高、寿命长等优点而被广泛地使用,进而成为现代显示器的主流之一。习知,液晶显示面板可包含至少二基板(可分别称的为阵列基板与对向基板)。一般而言,阵列基板可包含多条扫描线与多个像素单元。此些像素单元可以阵列形式排列,且同一横排(即沿着扫描线的延伸方向)的多个像素单元可因耦接至同一条扫描线而受控于同一个扫描信号。在理想状态下,同一条扫描线上的各点电压应相同,而使得位于同一横排的多个像素单元可同步作动。然而,在实际状态中,由于各扫描线实际上可视为由多个串联电阻所构成,并且加上耦合电容的影响,使得各扫描信号自扫描线的输入端传送至扫描线的末端时会受到电阻电容延迟效应(RCDelay)的影响,使得原为方波的扫描信号的波形上出现圆角化(rounded)(即,扫描信号的上升时间及/或下降时间变大),因而造成各像素单元的馈通电压(feedthroughvoltage)随着各像素单元与扫描线的输入端的距离越远而越小,进而造成液晶显示面板于显示画面时其左右两侧(即各条扫描线的输入端与各扫描线的末端)会有画面闪烁的问题。
技术实现思路
在一实施例中,一种阵列基板包含基板、第一金属层、绝缘层、第二金属层以及接地线。基板包含主动区与扇出区。扇出区位于主动区的一侧。第一金属层设置于基板上。第一金属层包含多条扫描线与多条连接线。多条扫描线位于主动区。多条连接线位于扇出区且分别连接于扫描线。绝缘层设置于第一金属层上。第二金属层设置于绝缘层上。第二金属层包含多条数据线与虚设块。多条数据线与虚设块电性分离。多条数据线位于主动区且与多条扫描线交叉设置。虚设块位于扇出区且与多条连接线交叉配置。接地线耦接虚设块,且接地线将虚设块电性连接至参考电位。综上所述,本专利技术实施例的阵列基板,其藉由虚设块与位于扇出区的连接线的交错设置来增加连接线的等效阻抗,使得自连接线输入的扫描信号的下降时间变大,以缩小扫描信号的下降时间在扫描线的输入端和末端之间的差异,并使得各像素单元的馈通电压的差异缩小,进而可改善其于显示时因馈通效应(feedthrougheffect)所造成的画面闪烁等问题。以下在实施方式中详细叙述本专利技术的详细特征及优点,其内容足以使任何熟习相关技艺者了解本专利技术的
技术实现思路
并据以实施,且根据本说明书所揭露的内容、申请专利范围及图式,任何熟习相关技艺者可轻易地理解本专利技术相关的目的及优点。附图说明图1为阵列基板的一实施例的概要示意图。图2为图1中在扇出区沿第二方向剖面的侧视结构示意图。图3为图1沿扫描线Gr剖面的侧视结构示意图。图4为阵列基板的另一实施例的概要示意图。其中,附图标记:100阵列基板110基板120第一金属层130第二金属层131虚设块140绝缘层150接地线160栅极驱动电路170保护层A1主动区A2扇出区A21中央区A22、A23外侧区C1-CM耦合电容D1-DY数据线G1-GX扫描线L1-LM连接线S1-SN扫描信号V1第一方向V2第二方向Vref参考电位W1延伸宽度具体实施方式以下结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述,但不作为对本专利技术的限定。图1为阵列基板的一实施例的概要示意图,图2为图1中在扇出区沿第二方向剖面的侧视结构示意图,且图3为图1沿扫描线Gr剖面的侧视结构示意图。请参阅图1与图3,阵列基板100包含基板110、至少二金属层(以下分别称之为第一金属层120与第二金属层130)、绝缘层140以及接地线150。在一些实施例中,基板110可为透明基板,例如玻璃基板、塑胶基板、石英基板、或其他合适材质,但本专利技术并非仅限于此。基板110包含主动区A1和扇出区A2。在一些实施例中,扇出区A2位于主动区A1的周边,例如位于主动区(ActiveArea)和驱动电路的接合区(bondingarea)之间。于此,虽仅绘示一个扇出区A2,但其数量并非用以限制本专利技术。换言之,扇出区A2可有多个。此外,多个扇出区A2可位于主动区A1的彼此相邻的二侧边,多个扇出区A2也可以位于主动区A1的相对两侧,本专利技术不对扇出区A2的位置限制。第一金属层120设置于基板110上。第一金属层120可包含多条扫描线G1-GX与多条连接线L1-LM。各连接线L1-LM耦接至多条扫描线之一G1-GX。其中,X、M均为正整数,且X等于M。扫描线G1-GX用以传输多个扫描信号S1-SN。扫描线G1-GX沿第一方向V1延伸,且沿第二方向V2排列于基板110的主动区A1中。在一实施例中,第二方向V2实质上正交于第一方向V1。连接线L1-LM沿第二方向V2排列于基板110的扇出区A2中,且每一连接线L1-LM分别连接于多条扫描线G1-GX之一。在一些实施例中,阵列基板100更包含栅极驱动电路160,且栅极驱动电路160可用以输出多个扫描信号S1-SN。在一实施例中,N为正整数,且N等于X等于M。栅极驱动电路160耦接多条连接线L1-LM。栅极驱动电路160所输出的多个扫描信号S1-SN可分别经由对应的连接线L1-LM传输至扫描线G1-GX。换言之,多条连接线L1-LM是耦接于栅极驱动电路160和多条扫描线G1-GX之间,以协助将栅极驱动电路160所输出的各个扫描信号S1-SN传输至对应的扫描线G1-GX。在一些实施例中,可利用化学气相沉积法或物理气相沉积法于基板110上覆盖一整面金属层,之后再利用蚀刻法对整面金属层进行蚀刻以在对应于主动区A1和扇出区A2之处分别形成所需的扫描线G1-GX与连接线L1-LM。换言之,扫描线G1-GX与连接线L1-LM可在相同的制程程序中形成,即第一金属层120为图案化金属层,换句话说,第一金属层120包含扫描线G1-GX与连接线L1-LM,但本专利技术并非以此为限。请继续参照图1,扇出区A2包含中央区A21和二外侧区A22、A23。外侧区A22、中央区A21以及外侧区A23沿第二方向V2依序配置,且中央区A21位于此二外侧区A22、A23之间。在一些实施例中,由于栅极驱动电路160和多条扫描线G1-GX之间的间距大致上相同,且栅极驱动电路160的各个输出脚之间的间距较小而各扫描线G1-GX之间的间距较大,故至少部分设置于二外侧区A22、A23的连接线的延伸长度大于至少部分设置于中央区A21的连接线的延伸长度。举例而言,多条连接线L1-LM可排列成扇形,且各连接线L1-LM的延伸长度可由扇形的外侧(即外侧区A22、A23)往内侧(即中央区A21)递减。此外,由于各连接线L1-LM的电阻值大致上和其延伸长度成正比,因此连接线L1-LM的电阻值大致上亦由扇形的外侧往内侧递减。根据图2的实施例,绝缘层140设置于第一金属层120上,且第二金属层130设置于绝缘层140上。于此,绝缘层140用以隔离第一金属层120与第二金属层130。在一些实施例中,绝缘层140的材质可为二氧化硅,然而本专利技术并非仅限于此,亦可以其他具有良好绝缘效果的材质作为绝缘层140,例如:压克力树脂、氮化硅或氮氧化硅。第二金属层130可包含多本文档来自技高网
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阵列基板

【技术保护点】
一种阵列基板,其特征在于,包含:一基板,包含一主动区与一扇出区,该扇出区位于该主动区的一侧;一第一金属层,设置于基板上,包含多条扫描线以及多条连接线,该多条扫描线位于该主动区,该多条连接线位于该扇出区且分别连接该多条扫描线;一绝缘层,设置于该第一金属层上;一第二金属层,设置于该绝缘层上,包含多条数据线与一虚设块,该多条数据线与该虚设块间隔配置,该多条数据线位于该主动区且与该多条扫描线交错设置,该虚设块位于该扇出区且与该多条连接线交叉设置;及一接地线,耦接该虚设块,并电性连接至一参考电位。

【技术特征摘要】
2017.05.03 TW 1061147151.一种阵列基板,其特征在于,包含:一基板,包含一主动区与一扇出区,该扇出区位于该主动区的一侧;一第一金属层,设置于基板上,包含多条扫描线以及多条连接线,该多条扫描线位于该主动区,该多条连接线位于该扇出区且分别连接该多条扫描线;一绝缘层,设置于该第一金属层上;一第二金属层,设置于该绝缘层上,包含多条数据线与一虚设块,该多条数据线与该虚设块间隔配置,该多条数据线位于该主动区且与该多条扫描线交错设置,该虚设块位于该扇出区且与该多条连接线交叉设置;及一接地线,耦接该虚设块,并电性连接至一参考电位。2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,该扇出区包含沿着该虚设块的延伸方向设置的一中央区与二外侧区,该中央区位于该二外侧区之间,在该二外侧区的该多条连接线的延伸长度大于在该中央区的该多条连接线的延伸长度,并且该虚设块与位于该中央区的各该连接线的重叠区域大于该虚设块与位于该二外侧区的各该连接线的重叠区域。3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,该虚设块与各该连接线的重叠区域沿着该虚设块的延伸方向自该扇出区的中央朝相对的二外侧递减。4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,该虚设块在垂直于该虚设块的延伸方向上具有一固定宽度。5.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,该虚设块分别与该多条连接线形成多个耦合...

【专利技术属性】
技术研发人员:彭世尧李忠隆李锦旻王柏凱陈博斌
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾,71

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