限制板单元和蒸镀单元以及蒸镀装置制造方法及图纸

蒸镀单元(1)具备蒸镀掩模(50)、蒸镀源(10)和限制板单元(20)。限制板单元(20)具备在X轴方向隔开设置的多个第一限制板(32)和俯视时在第一限制板(32)上在X轴方向隔开设置的多个第二限制板(42)，在X轴方向，相对于每1块第一限制板(32)设置有至少2块第二限制板(42)。

Limiting plate unit and evaporation unit and evaporation device

The evaporation unit (1) has a vapor deposition mask (50), a vapor deposition source (10) and a limiting plate unit (20). Limit plate element (20) having a plurality of first separated limit plate is arranged in the direction of X axis (32) and look at in the first limiting board (32) more than second in the direction of X axis spaced limit plate (42), in the direction of the X axis with respect to each 1 block of the first limiting board (32) set at least 2 block second limit plate (42).

【技术实现步骤摘要】
限制板单元和蒸镀单元以及蒸镀装置本案是申请日为2014年3月10日、申请号为201480033438.8、专利技术名称为限制板单元和蒸镀单元以及蒸镀装置的专利申请的分案申请。
本专利技术涉及用于在被成膜基板上形成规定图案的蒸镀膜的限制板单元和蒸镀单元以及蒸镀装置。
技术介绍
近年来，在各种商品和领域中利用平板显示器，要求平板显示器进一步大型化、高画质化、低消耗电力化。在这样的状况下，具备利用有机材料的电场发光(电致发光；以下记为“EL”)的有机EL元件的有机EL显示装置，作为全固体型且在低电压驱动、高速响应性、自发光性等方面优异的平板显示器，受到高度关注。有机EL显示装置，例如在有源矩阵方式的情况下，具有如下结构：在设置有TFT(薄膜晶体管)的由玻璃基板等构成的基板上，设置有与TFT电连接的薄膜状的有机EL元件。在全彩色的有机EL显示装置中，一般而言，在基板上作为子像素排列形成有红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的各色的有机EL元件，使用TFT使这些有机EL元件有选择地以期望的亮度发光，由此，进行图像显示。因此，为了制造这样的有机EL显示装置，需要在每个有机EL元件以规定图案形成至少发光层，该发光层包含发出各色的光的有机发光材料。作为以规定图案形成这样的发光层的方法，已知有例如真空蒸镀法、喷墨法、激光转印法等。例如，在低分子型有机EL显示装置(OLED)中，发光层的图案化主要使用真空蒸镀法。在真空蒸镀法中，使用形成有规定图案的开口的蒸镀掩模(也被称为阴影掩模(shadowmask))。使来自蒸镀源的蒸镀颗粒(蒸镀材料、成膜材料)通过蒸镀掩模的开口蒸镀在被蒸镀面上，由此形成规定图案的薄膜。此时，按发光层的每种颜色进行蒸镀(将此称为“分涂蒸镀”)。真空蒸镀法大致分为：通过使被成膜基板和蒸镀掩模固定或依次移动而使它们密合来进行成膜的方法；和在使被成膜基板和蒸镀用的掩模隔开而进行扫描的同时进行成膜的扫描蒸镀法。在前者的方法中，使用与被成膜基板同等大小的蒸镀掩模。然而，当使用与被成膜基板同等大小的蒸镀掩模时，伴随着基板的大型化，蒸镀掩模也大型化。因此，当被成膜基板变大时，与此相伴，由于蒸镀掩模的自重弯曲和伸长，在被成膜基板与蒸镀掩模之间容易产生间隙。因此，在大型基板的情况下，难以进行高精度的图案化，会发生蒸镀位置的错位或混色，难以实现高精细化。另外，当被成膜基板变大时，不仅蒸镀掩模变得巨大，而且保持蒸镀掩模等的框架等也变得巨大，其重量也增加。因此，当被成膜基板变大时，蒸镀掩模和框架等的操作变得困难，有可能对生产率和安全性造成障碍。另外，蒸镀装置本身和附随于其的装置也同样巨大化、复杂化，因此，装置设计变得困难，设置成本也变高。因此，近年来，在使用比被成膜基板小的蒸镀掩模进行扫描的同时进行蒸镀(扫描蒸镀)的扫描蒸镀法受到关注。在这样的扫描蒸镀法中，使用例如带状的蒸镀掩模，将蒸镀掩模和蒸镀源一体化等，在使被成膜基板与蒸镀掩模和蒸镀源中的至少一方相对移动的同时，在被成膜基板整面上蒸镀蒸镀颗粒。因此，在扫描蒸镀法中，不需要使用与被成膜基板同等大小的蒸镀掩模，能够改善使用大型的蒸镀掩模的情况下特有的上述问题。在扫描蒸镀法中，一般而言，在蒸镀源，在与扫描方向垂直的方向上以一定间距设置有通过对蒸镀材料进行加热使其蒸发或升华而作为蒸镀颗粒射出(飞散)的多个射出口(喷嘴)。因此，近年来，提出了如下方法：在扫描蒸镀时，通过使用限制板对蒸镀流(蒸镀颗粒的流动)进行限制，使得在与某个喷嘴对应的蒸镀区域(成膜区域)，不会飞来来自相邻喷嘴的蒸镀颗粒，该相邻喷嘴使蒸镀颗粒射出到与该蒸镀区域相邻的蒸镀区域。例如，专利文献1中公开了在蒸镀源的一侧设置遮断壁组件，该遮断壁组件具备将蒸镀源与蒸镀掩模之间的空间划分成多个蒸镀空间的多个遮断壁作为限制板。根据专利文献1，通过利用作为限制板的遮断壁来限制蒸镀范围，能够不使蒸镀图案变宽而进行高精细的图案蒸镀。现有技术文献专利文献专利文献1：日本公开专利公报“特开2010-270396号公报(2010年12月2日公开)”
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题然而，当蒸镀密度变高时(即，在高速率时)，在以往的限制板的情况下，不能防止来自相邻喷嘴的蒸镀颗粒的飞来，不能将蒸镀颗粒适当地导向蒸镀区域。图22的(a)、(b)是示意性地表示在蒸镀源301与蒸镀掩模302之间，沿着与扫描方向(扫描轴)垂直的方向设置有多个限制板320的情况下，由蒸镀密度的不同导致的蒸镀流的差异的图。其中，图22的(a)表示蒸镀密度相对低的情况(低速率时)，图22的(b)表示蒸镀密度相对高的情况(高速率时)。另外，图22的(a)、(b)中，Y轴表示沿着被成膜基板200的扫描方向的水平方向轴，X轴表示沿着与被成膜基板200的扫描方向垂直的方向的水平方向轴，Z轴表示作为被成膜基板200的被蒸镀面201(被成膜面)的法线方向和与该被蒸镀面201正交的蒸镀轴线延伸的方向的、与X轴和Y轴垂直的垂直方向轴(上下方向轴)。穿过限制板320的上部开口边缘320a的蒸镀颗粒401(蒸镀流)，如在图22的(a)中用×符号表示的那样，在低速率时，被蒸镀掩模302的非开口部截断。然而，如图22的(b)所示，在为高速率时，在限制板320的上部开口边缘320a附近，蒸镀颗粒401间的碰撞、散射程度变强，由限制板320限制后的蒸镀流在穿过限制板320的开口部321的瞬间扩展。扩展后的蒸镀流的一部分会侵入由相邻的喷嘴301a进行成膜的被成膜基板200上的相邻成膜区域。其结果，会发生来自相邻喷嘴的蒸镀颗粒401混入正常图案膜，或者在正常图案膜间形成在低速率时不会形成的异常图案膜等异常成膜。这些现象会引起混色发光等异常发光，有可能会大大损害显示品质。本专利技术是鉴于上述问题而作出的，其目的在于提供能够防止异常成膜的发生的限制板单元和蒸镀单元以及蒸镀装置。用于解决技术问题的手段为了解决上述技术问题，本专利技术的一个方案的蒸镀单元具备：蒸镀掩模；向上述蒸镀掩模射出蒸镀颗粒的蒸镀源；和设置在上述蒸镀掩模与蒸镀源之间，限制从蒸镀源射出的蒸镀颗粒的通过角度的限制板单元，上述限制板单元具备多段的限制板，该多段的限制板至少具备：在第一方向相互隔开地设置的多个第一限制板；和在俯视时设置在上述第一限制板上、在上述第一方向相互隔开并且沿着上述第一限制板设置的多个第二限制板，在上述第一方向，相对于每1块上述第一限制板设置有至少2块上述第二限制板。为了解决上述技术问题，本专利技术的一个方案的蒸镀单元具备：蒸镀掩模；向上述蒸镀掩模射出蒸镀颗粒的蒸镀源；和设置在上述蒸镀掩模与蒸镀源之间，限制从蒸镀源射出的蒸镀颗粒的通过角度的限制板单元，上述限制板单元具备在第一方向相互隔开地设置的多个第一限制板，在上述第一限制板的上表面，沿着上述第一限制板，在上述第一方向设置有至少2个突起部。为了解决上述技术问题，本专利技术的一个方案的蒸镀装置具备：本专利技术的一个方案的上述蒸镀单元；和在上述蒸镀单元的蒸镀掩模与被成膜基板相对配置的状态下，使上述蒸镀单元和上述被成膜基板中的一个在与上述第一方向垂直的第二方向相对移动的移动装置，上述蒸镀掩模的上述第二方向的宽度小于上述第二方向的被成膜基板的宽度，在沿着上述第二方向扫描的同时，使从上述蒸镀源出射的蒸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀单元，其特征在于，具备：蒸镀掩模；向所述蒸镀掩模射出蒸镀颗粒的蒸镀源；和设置在所述蒸镀掩模与蒸镀源之间，限制从蒸镀源射出的蒸镀颗粒的通过角度的限制板单元，当将与被成膜基板的被蒸镀面的法线方向和被成膜基板的扫描方向垂直的方向设为第一方向时，所述限制板单元具备在所述第一方向相互隔开地设置的多个第一限制板，在所述第一限制板的上表面，沿着所述第一限制板，在所述第一方向设置有至少2个突起部。

【技术特征摘要】
2013.06.11 JP 2013-1227851.一种蒸镀单元，其特征在于，具备：蒸镀掩模；向所述蒸镀掩模射出蒸镀颗粒的蒸镀源；和设置在所述蒸镀掩模与蒸镀源之间，限制从蒸镀源射出的蒸镀颗粒的通过角度的限制板单元，当将与被成膜基板的被蒸镀面的法线方向和被成膜基板的扫描方向垂直的方向设为第一方向时，所述限制板单元具备在所述第一方向相互隔开地设置的多个第一限制板，在所述第一限制板的上表面，沿着所述第一限制板，在所述第一方向设置有至少2个突起部。2.如权利要求1所述的蒸镀单元，其特征在于：在从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时，在所述第一限制板间分别设置有所述蒸镀源的蒸镀颗粒的射出口，与所述被成膜基板的被蒸镀面的法线方向和所述第一方向垂直的第二方向的所述突起部的长度，比该第二方向的所述第一限制板的长度短，在从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时，所述突起部与所述射出口相邻地设置。3.如权利要求1或2所述的蒸镀单元，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林勇毅，菊池克浩，川户伸一，井上智，越智贵志，松本荣一，市原正浩，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP