【技术实现步骤摘要】
一种硅溶胶抛光液及其制备方法
本专利技术涉及抛光液,特别涉及一种硅溶胶抛光液及其制备方法。
技术介绍
抛光剂的作用是将被抛光工件表层凸起处去除,提高工件表面的平整度。例如,对半导体晶片进行抛光时,借助于外力,磨料将晶片表面经过化学反应生成的钝物质去除,加工出所需的平整性。目前常用抛光剂有二氧化硅胶体、氧化铝、氧化铈和纳米金刚石等悬浮抛光剂。目前国际上对铝合金抛光使用的悬浮抛光剂通常为纳米氧化铝液体,其硬度大,机械作用大,能保证较高的抛光速率,但是纳米氧化铝硬度大,很容易对铝或铝合金表面形成严重划伤,用其抛光后表面不易清洗,难以确保平整度。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种硅溶胶抛光液及其制备方法,解决了传统的铝合金抛光使用的悬浮抛光剂通常为纳米氧化铝液体,其硬度大,容易对铝或铝合金表面形成严重划伤,用其抛光后表面不易清洗,难以确保平整度的问题。为实现上述目的,本专利技术提供以下的技术方案:一种硅溶胶抛光液的制备方法,其中,所述制备方法包括:将硅溶胶、表面活性剂、钝化剂、缓蚀剂、磷酸、柠檬酸、草酸和氨水混合,并加热搅拌形成所述硅溶胶抛光液,其中,相对于100重量份的硅溶胶,所述表面活性剂的用量为10-15重量份,所述钝化剂的用量为1-4重量份,所述缓蚀剂的用量为2-8重量份,所述磷酸的用量为10-20重量份,所述柠檬酸的用量为2-10重量份,所述草酸的用量为1-5重量份,所述氨水的用量为5-8重量份。优选的,所述表面活性剂为辛基酚聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚和脂肪酸聚氧乙烯酯中的一种或多种。优选的,所述缓蚀剂为铬酸钠、亚硝酸钠和硅酸钠中的一种 ...
【技术保护点】
一种硅溶胶抛光液的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:将硅溶胶、表面活性剂、钝化剂、缓蚀剂、磷酸、柠檬酸、草酸和氨水混合,并加热搅拌形成所述硅溶胶抛光液,其中,相对于100重量份的硅溶胶,所述表面活性剂的用量为10‑15重量份,所述钝化剂的用量为1‑4重量份,所述缓蚀剂的用量为2‑8重量份,所述磷酸的用量为10‑20重量份,所述柠檬酸的用量为2‑10重量份,所述草酸的用量为1‑5重量份,所述氨水的用量为5‑8重量份。
【技术特征摘要】
1.一种硅溶胶抛光液的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:将硅溶胶、表面活性剂、钝化剂、缓蚀剂、磷酸、柠檬酸、草酸和氨水混合,并加热搅拌形成所述硅溶胶抛光液,其中,相对于100重量份的硅溶胶,所述表面活性剂的用量为10-15重量份,所述钝化剂的用量为1-4重量份,所述缓蚀剂的用量为2-8重量份,所述磷酸的用量为10-20重量份,所述柠檬酸的用量为2-10重量份,所述草酸的用量为1-5重量份,所述氨水的用量为5-8重量份。2.根据权利要求1所述的制备方法,其中,所述表面活性剂为辛基酚聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚...
【专利技术属性】
技术研发人员:王飞,
申请(专利权)人:合肥博之泰电子科技有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽,34
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