The present invention relates to a method for deep copper removal by cobalt salt solution. Copper removal from cobalt chloride solution is carried out by two steps copper removal process. A copper removal agent used for removing copper in addition to copper is derived from two sections of copper slag removed from copper, and finally qualified copper slag is discharged. Addition of cobalt carbonate into the two section of copper to produce qualified copper removal liquid. The invention makes full use of the characteristics that the copper residue is regenerated as a copper removing agent, and the concentration of copper can be reduced below 1mg/L, and the copper removing slag with the ratio of copper to cobalt higher than 15/1 can be obtained.
【技术实现步骤摘要】
一种钴盐溶液深度除铜的方法
本专利技术属于重金属冶金领域,涉及一种钴盐溶液深度除铜的方法,尤其涉及铜钴深度分离的技术方法。
技术介绍
钴是制备磁记录介质、磁记录磁头、光电器材和集成电路等元器件的重要材料,99.999%甚至更高纯度的钴则用来作为先进电子元件的靶材。氯化钴溶液常作为钴盐和电钴的主要生产原料。其中,杂质铜离子的存在会严重影响产品质量,必须将铜浓度降低至1mg/L以下。传统硫化法,因其操作简单、除铜彻底、耗时短等优势而广泛应用,但是现有的除铜剂(H2S、Na2S、Na2S2O3等)产出的除铜渣中铜品位较低,主金属损失较多,未反应的主金属硫化物由于存在老化的现象,无法与溶液中的铜离子进行交互反应,导致除铜渣中主金属难以回收,铜难以富集。CN102864307A专利采用硫代碳酸镍二段逆流除去镍溶液中铜,一段除铜渣、二段除铜后液能满足生产的要求,但是,在氯化钴溶液中,如果仅仅采用二段逆流,一段除铜渣是无法满足生产的要求。因此,深度除铜的同时高效利用除铜渣成为硫化法除铜工艺中一个新的难题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服采用现有除铜剂除铜后,产出的除铜渣难以处理的缺陷,提供一种钴盐溶液深度除铜的方法。本专利技术一种钴盐溶液深度除铜的方法,包括以下步骤:步骤一:除铜剂再生将Na2CS3溶液加入至盛有二段除铜渣的容器中,进行溶解反应,然后再入CoCl2,搅拌反应,析出沉淀物,所得沉淀物,即为再生除铜剂;所述Na2CS3溶液的加入量,按如下公式确定:Na2CS3加入的摩尔量=n×待除铜液中的总铜摩尔量-渣中剩余的Co摩尔量,所述n为1.0~1.6;步骤二: ...
【技术保护点】
一种钴盐溶液深度除铜的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:除铜剂再生将Na2CS3溶液加入至盛有二段除铜渣的容器中,进行溶解反应,然后再加入CoCl2,搅拌反应,析出沉淀物,所得沉淀物,即为再生除铜剂;所述Na2CS3溶液的加入量,按下述公式确定:Na2CS3加入的摩尔量=n×待除铜液中的总铜摩尔量‑渣中剩余的Co摩尔量,所述n为1.0~1.6;步骤二:一段除铜将待除铜液与步骤一所获得的再生除铜剂反应,进行一段除铜,固液分离,获得的滤渣为一段除铜渣,获得的滤液为一段除铜后液;所述待除铜溶液中含有钴、铜;步骤三:二段除铜向一段除铜后液中加入硫代碳酸钴进行二段除铜,固液分离,获得的滤液为二段除铜后液;获得的滤渣为二段除铜渣,二段除铜渣返回步骤一中进行再生处理。
【技术特征摘要】
1.一种钴盐溶液深度除铜的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:除铜剂再生将Na2CS3溶液加入至盛有二段除铜渣的容器中,进行溶解反应,然后再加入CoCl2,搅拌反应,析出沉淀物,所得沉淀物,即为再生除铜剂;所述Na2CS3溶液的加入量,按下述公式确定:Na2CS3加入的摩尔量=n×待除铜液中的总铜摩尔量-渣中剩余的Co摩尔量,所述n为1.0~1.6;步骤二:一段除铜将待除铜液与步骤一所获得的再生除铜剂反应,进行一段除铜,固液分离,获得的滤渣为一段除铜渣,获得的滤液为一段除铜后液;所述待除铜溶液中含有钴、铜;步骤三:二段除铜向一段除铜后液中加入硫代碳酸钴进行二段除铜,固液分离,获得的滤液为二段除铜后液;获得的滤渣为二段除铜渣,二段除铜渣返回步骤一中进行再生处理。2.根据权利要求1所述的一种钴盐溶液深度除铜的方法,其特征在于,所述步骤一中,配制Na2CS3溶液的浓度为0.01~1.5mol/L。3.根据权利要求1所述的一种钴盐溶液深度除铜的方法,其特征在于,Na2CS3溶液的加入量,按如下公式确定:Na2CS3加入的摩尔量=n×待除铜液中的总铜摩尔量-渣中剩余的Co摩尔量,所述n为1.4~1.6。4.根据权利要求1所述的一种钴盐溶液深度除铜的方法,其特征在于,所述步骤一中,溶解反应...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈爱良,李孟春,钱振,陈星宇,刘旭恒,李江涛,车键勇,
申请(专利权)人:中南大学,
类型:发明
国别省市:湖南,43
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