平坦化共用载体框架上的多个阴影掩模的设备和方法技术

本发明专利技术公开了一种多掩模对准系统和多掩模对准方法。在用于多掩模对准的设备和方法中，提供了包括贯通载体的孔口的载体。对于每个孔口，包括对准特征的组合的框架和阴影掩模定位在由载体支撑的间隔件上，使得组合的框架和阴影掩模的阴影掩模与孔口粗略对准。接着，每个组合的框架和阴影掩模移到与间隔件间隔开的位置，于是在控制器的控制下，对准系统单独对准每个组合的框架和阴影掩模，以将组合的框架和阴影掩模的对准特征与关联于组合的框架和阴影掩模的参考对准特征对准。每个组合的框架和阴影掩模随后返回到间隔件上的位置，此后每个组合的框架和阴影掩模固定到载体上。在实例中，可以同时对准全部的组合的框架和阴影掩模。

Apparatus and method for flattening multiple shadow masks on a shared carrier frame

A multi mask alignment system and a reticle alignment method are disclosed. In an apparatus and method for multi die alignment, a carrier including an orifice of a through carrier is provided. For each aperture, a frame and a shadow mask, including a combination of alignment features, are positioned on the spacer supported by the carrier so that the shadow mask of the combined frame and the shadow mask is roughly aligned with the aperture. Then, each combination of frame and shadow mask and moved to the position of the spacers spaced, and under the control of the controller, the alignment system separate alignment for each combination of frame and shadow mask frame and shadow with alignment features associated with the combination of the frame and the shadow mask to mask a reference alignment feature alignment. Each composite frame and shadow mask is then returned to the position on the spacer, and thereafter, each combined frame and shadow mask are fixed to the carrier. In an example, all of the composite frames and shadow masks can be aligned simultaneously.

【技术实现步骤摘要】
平坦化共用载体框架上的多个阴影掩模的设备和方法
本专利技术涉及将安装在载体框架上的组合的框架和阴影掩模的每个实例平坦化以及将安装在载体框架上的多个组合的框架和阴影掩模相对于彼此平坦化。
技术介绍
在阴影掩模气相沉积领域，存在使用越来越大面积的阴影掩模的趋势，所述阴影掩模包括与将从沉积源沉积在基板上的材料的期望图案对应的一个或多个开口。然而，因形成越来越大的面积大小的阴影掩模而产生的问题是：如何在横跨阴影掩模的尺寸定位开口时避免连续误差。换句话说，因形成越来越大的面积大小的阴影掩模而产生的问题是：变得越来越难以保持用于横跨阴影掩模的尺寸在基板上沉积材料图案的开口之间的精确的尺度稳定性。在2015年10月14日提交的名称为“Multi-MaskAlignmentSystemandMethod”(以下称为“PCT申请”)的PCT/US2015/055517中公开了克服这个问题的一种方法，其中多个阴影掩模单独定向并安装在载体框架上。PCT/US2015/055517通过引用的方式并入本文。PCT申请中公开的方法的挑战在于确保多个阴影掩模的每个单独阴影掩模被适当地定向在载体框架上，载体框架可以不具有用于安装阴影掩模的平坦表面或平面。在没有具有这种平坦表面或平面的载体框架的情况下，存在这样的可能性：每个阴影掩模和将发生沉积事件的基板的接触表面不平行或不是基本平行，因此在所述表面之间形成一个或多个意外间隙，于是，在经由阴影掩模中的孔口进行的沉积事件期间，被气相沉积的材料可能不期望地进入这些间隙，并且被沉积在限定所述间隙的阴影掩模的表面和基板的表面中的一者或两者上，这是不期望的状况。
技术实现思路
现在将在以下编号的条项中说明和阐述本专利技术的各个优选的且非限制性的实例或方面：条项1：一种多掩模对准系统包括：载体，其包括第一侧和第二侧以及从所述第一侧到所述第二侧延伸贯通所述载体的多个孔口，其中，每个孔口与包括对准特征的组合的框架和阴影掩模相关联，其中，所述阴影掩模经由所述框架被支撑在所述载体的所述第一侧上，使得所述阴影掩模与所述孔口对准。对准系统位于所述载体的所述第二侧上，并且控制器能操作地控制所述对准系统，以单独地对准每个组合的框架和阴影掩模，使得所述组合的框架和阴影掩模的所述对准特征与关联于所述组合的框架和阴影掩模的参考对准特征对准，而不是与所述载体或所述组合的框架和阴影掩模的一部分对准。间隔件位于所述载体上，并且构造成将每个组合的框架和阴影掩模支撑在所述载体的所述第一侧的表面的上方。条项2：根据条项1所述的系统，其中，所述间隔件可以构造成将每个组合的框架和阴影掩模平坦化。条项3：根据条项1或2所述的系统，其中，所述间隔件可以构造成将全部所述组合的框架和阴影掩模相对于彼此平坦化。条项4：根据条项1至3中任一项所述的系统，其中，所述间隔件可以包括穿过所述载体中的开口伸出的调平销；并且所述调平销可固定在所述载体的所述开口中。条项5：根据条项1至4中任一项所述的系统，其中，所述调平销可以经由粘合或压配合而固定在所述载体的所述开口中。条项6：根据条项1至5中任一项所述的系统，还可以包括能操作地获取可以包括所述对准特征的图像的至少一个照相机，其中，所述控制器能操作地基于所获取的图像控制所述对准系统。条项7：根据条项1至6中任一项所述的系统，其中，所述参考对准特征可以包括存储在存储器中的参考坐标；并且所述控制器能够控制所述对准系统，以将所获取的图像中的所述对准特征与所述参考坐标对准。条项8：根据条项1至7中任一项所述的系统，还可以包括对准基板，所述对准基板包括所述参考对准特征且位于所述至少一个照相机与所述组合的框架和阴影掩模之间，其中，所获取的图像还可以包括所述参考对准特征。条项9：根据条项1至8中任一项所述的系统，还可以包括：对准基板，其包括所述参考对准特征，定位到所述组合的框架和阴影掩模的与所述载体相反的一侧，其中，所述对准特征和所述参考对准特征可以分别包括第一多个孔和第二多个孔。所述控制器可以可操作地控制所述对准系统，以单独地对准每个组合的框架和阴影掩模，直至预定量的光穿过所述组合的框架和阴影掩模的所述第一多个孔以及与所述组合的框架和阴影掩模相关联且与所述组合的框架和阴影掩模的所述第一多个孔对准的所述第二多个孔。条项10：根据条项1至9中任一项所述的系统，其中，所述第一多个孔中的与所述第二多个孔中的相应一个孔对准的每个孔可以沿着光路定位。每个光路可以包括光接收器；并且所述控制器能够根据所述光接收器的输出来判定预定量的光何时穿过所述第一多个孔以及与所述第一多个孔对准的所述第二多个孔。条项11：根据条项1至10中任一项所述的系统，其中，每个光路还可以包括光源。条项12：根据条项1至11中任一项所述的系统，其中，所述对准系统可以包括对准台，所述对准台能操作地使至少一个组合的框架和阴影掩模从与所述载体接触的位置移动到与所述载体间隔开的位置，反之亦然，并且所述对准台能操作地沿X、Y和θ方向中的两个或更多个方向调节所述组合的框架和阴影掩模，其中X方向和Y方向可以平行于所述载体的所述第一侧；并且所述θ方向可以是围绕作为所述载体的所述第一侧的法线的Z方向旋转的方向(即，沿着θ方向可以围绕作为所述载体的所述第一侧的法线的Z方向旋转)。条项13：根据条项1至12中任一项所述的系统，其中，所述对准台可以包括延伸穿过所述载体中的孔的多个销。当所述销伸出时，所述销可以将所述组合的框架和阴影掩模定位成与所述载体间隔开。当所述销缩回时，所述组合的框架和阴影掩模可以与所述间隔件接触。条项14：根据条项1至13中任一项所述的系统，其中，所述控制器可以可操作地控制所述对准系统，以同时对准每个组合的框架和阴影掩模。条项15：一种多掩模对准方法包括：(a)提供载体，所述载体包括贯通所述载体的多个孔口；(b)对于每个孔口，将包括对准特征的组合的框架和阴影掩模定位在由所述载体支撑的间隔件上，使得所述组合的框架和阴影掩模中的所述阴影掩模与所述孔口粗略对准；(c)在步骤(b)之后，对准系统将每个组合的框架和阴影掩模移动到与所述间隔件间隔开的位置；(d)在步骤(c)之后，所述对准系统单独地精细或精确对准每个组合的框架和阴影掩模以将所述组合的框架和阴影掩模的对准特征与关联于所述组合的框架和阴影掩模的参考对准特征对准，而不是与所述载体或所述组合的框架和阴影掩模的一部分对准；(e)在步骤(d)之后，将每个组合的框架和阴影掩模返回到所述间隔件上的位置；以及(f)在步骤(e)之后，将每个组合的框架和阴影掩模固定到所述载体上，其中，在控制器的控制下自动地执行至少步骤(d)。条项16：根据条项15所述的方法，其中，步骤(d)还可以包括同时精细或精确地对准每个组合的框架和阴影掩模。条项17：根据条项15或16所述的方法，其中，所述间隔件能够构造成(i)将每个组合的框架和阴影掩模平坦化或者(ii)将全部的所述组合的框架和阴影掩模相对于彼此平坦化。条项18：根据条项15-17中任一项所述的方法，其中，所述间隔件可以包括穿过所述载体中的开口伸出的调平销，并且所述调平销可以固定在所述载体中的所述开口中。条项19：根据条项15-18中任一项所述的方法，其中，与所述组合的框架和阴影掩模相关联的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多掩模对准系统，包括：载体，其包括第一侧和第二侧以及从所述第一侧到所述第二侧延伸贯通所述载体的多个孔口，其中，每个孔口与包括对准特征的组合的框架和阴影掩模相关联，其中，所述阴影掩模经由所述框架被支撑在所述载体的所述第一侧上，并且所述阴影掩模与所述孔口对准；对准系统，其位于所述载体的所述第二侧上；控制器，其能操作地控制所述对准系统，以单独地对准每个组合的框架和阴影掩模，使得所述组合的框架和阴影掩模的所述对准特征与关联于所述组合的框架和阴影掩模的参考对准特征对准，而不是与所述载体或所述组合的框架和阴影掩模的一部分对准；以及间隔件，其位于所述载体上，并且构造成将每个组合的框架和阴影掩模支撑在所述载体的所述第一侧的表面的上方。

【技术特征摘要】
2016.02.02 US 62/290,0961.一种多掩模对准系统，包括：载体，其包括第一侧和第二侧以及从所述第一侧到所述第二侧延伸贯通所述载体的多个孔口，其中，每个孔口与包括对准特征的组合的框架和阴影掩模相关联，其中，所述阴影掩模经由所述框架被支撑在所述载体的所述第一侧上，并且所述阴影掩模与所述孔口对准；对准系统，其位于所述载体的所述第二侧上；控制器，其能操作地控制所述对准系统，以单独地对准每个组合的框架和阴影掩模，使得所述组合的框架和阴影掩模的所述对准特征与关联于所述组合的框架和阴影掩模的参考对准特征对准，而不是与所述载体或所述组合的框架和阴影掩模的一部分对准；以及间隔件，其位于所述载体上，并且构造成将每个组合的框架和阴影掩模支撑在所述载体的所述第一侧的表面的上方。2.根据权利要求1所述的多掩模对准系统，其中，所述间隔件构造成将每个组合的框架和阴影掩模平坦化。3.根据权利要求1所述的多掩模对准系统，其中，所述间隔件构造成将全部所述组合的框架和阴影掩模相对于彼此平坦化。4.根据权利要求1所述的多掩模对准系统，其中：所述间隔件包括穿过所述载体中的开口伸出的调平销；并且所述调平销固定在所述载体的所述开口中。5.根据权利要求4所述的多掩模对准系统，其中，所述调平销经由粘合或压配合而固定在所述载体的所述开口中。6.根据权利要求1所述的多掩模对准系统，还包括能操作地获取包括所述对准特征的图像的至少一个照相机，其中，所述控制器能操作地基于所获取的图像控制所述对准系统。7.根据权利要求6所述的多掩模对准系统，其中：所述参考对准特征包括存储在存储器中的参考坐标；并且所述控制器控制所述对准系统，以将所获取的图像中的所述对准特征与所述参考坐标对准。8.根据权利要求6所述的多掩模对准系统，还包括对准基板，所述对准基板包括所述参考对准特征且位于所述至少一个照相机与所述组合的框架和阴影掩模之间，其中，所获取的图像还包括所述参考对准特征。9.根据权利要求1所述的多掩模对准系统，还包括：对准基板，其包括所述参考对准特征，定位到所述组合的框架和阴影掩模的与所述载体相反的一侧，其中，所述对准特征和所述参考对准特征分别包括第一多个孔和第二多个孔；并且所述控制器能操作地控制所述对准系统，以单独地对准每个组合的框架和阴影掩模，直至预定量的光穿过所述组合的框架和阴影掩模的所述第一多个孔以及与所述组合的框架和阴影掩模相关联且与所述组合的框架和阴影掩模的所述第一多个孔对准的所述第二多个孔。10.根据权利要求9所述的多掩模对准系统，其中：所述第一多个孔中的与所述第二多个孔中的相应一个孔对准的每个孔沿着光路定位；每个光路包括光接收器；并且所述控制器根据所述光接收器的输出来判定预定量的光何时穿过所述第一多个孔以及与所述第一多个孔对准的所述第二多个孔。11.根据权利要求10所述的多掩模对准系统，其中，每个光路还包括光源。12.根据权利要求1所述的多掩模对准系统，其中：所述对准系统包括对准台，所述对准台能操作地使至少一个组合的框架和阴影掩模从与所述载体接触的位置移动到与所述载体间隔开的位置，反之亦然，并且所述对准台能操作地沿X、Y和θ方向中的两个或更多个方向调节所述组合的框架和阴影掩模；X方向和Y方向平行于所述载体的所述第一侧；并且所述θ方向是围绕作为所述载体的所述第一侧的法线的Z方向旋转的方向。13.根据权利要求12所述的多掩模对准系统，其中：所述对准台包括延伸穿过所述载体中的孔的多个销；当所述销伸出时，所述销将所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：布莱恩·阿瑟·布奇，戴维·N·蒙托，童圣智，
申请(专利权)人：阿德文泰克全球有限公司，
类型：发明
国别省市：维尔京群岛,VG