塑胶件表面清洁方法技术

本发明专利技术涉及塑胶件表面处理技术领域，更具体地说涉及一种用于清洁塑胶手机外壳的塑胶件表面清洁方法，它包括以下步骤，第一步，将塑胶件组装到工件架上，装入真空镀炉设备内；第二步，真空镀炉设备内抽真空；第三步，真空镀炉设备内注入氩气；第四步，打开负电源，真空镀炉设备内注入氩气，使真空镀炉设备上的离子发射源产生氩离子，氩离子在真空环境下高能量轰击塑胶件表面；该塑胶件表面清洁方法具有降低设备成本、提高生产效率、保证产品品质、提高表面洁净度的优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及塑胶件表面处理
，更具体地说涉及一种塑胶件表面 清洁方法。
技术介绍
塑胶手机外壳质感好，耐磨性好，成本较低，因此大量用于手机产品上。 塑胶手机外壳在镀膜前、后均要进行清洁，以便提高产品质量。目前，传统的清洁方法为，采用超声波清洗设备进行清洗，这种超声波 清洗设备的工作原理是，由超声波发生器发出的高频振荡信号，通过换能器 转换成高频机械振荡而传播到介质一清洗溶剂中，超声波在清洗液中疏密相 间地向前辐射，使液体流动而产生数以万计的直径为50-500晔的微小气泡， 这些气泡在超声波纵向传播的负压区形成、生长，而在正压区迅速闭合，在 这个过程中，气泡闭合可形成几百度的高温和超过1000个气压的瞬间高压， 连续不断地产生瞬间高压，就象一连串小"爆炸"不断地冲击物件表面，使物件 的表面及缝隙中的污垢迅速剥落，从而达到物件表面清洗净化的目的。采用 这种方法的缺点是，超声波清洗设备成本高，占地广，容易残留水份影响产 品品质。还有一种传统的清洁方法，即手工擦试，利用手工对塑胶手机外壳进行 擦拭清洁。采用这种方法的缺点是，需要投入大量的人力，而且效率低，清 洁效果不好，产品品质不稳定。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对现有技术的不足，提供一种, 该方法可降低设备成本、提高生产效率、保证产品品质、提高表面洁净度。为实现上述目的，本专利技术是通过以下技术方案实现的塑胶件表面清洁 方法，它包括以下步骤第一步，将塑胶件组装到工件架上，装入真空镀炉设备内；第二步，真空镀炉设备内抽真空；第三步，真空镀炉设备内注入氩气；第四步，打开负电源，真空镀炉设备内注入氩气，使真空镀炉设备上的 离子发射源产生氩离子，氩离子在真空环境下高能量轰击塑胶件表面。 所述第二步中，真空镀炉设备内抽真空后的真空度为2.0Xl(^Pa。 所述第三步中，氩气注入量为50 300ml。 所述第四步中，氩离子轰击塑胶件表面的时间为3 5min。 所述第四步中，氩气注入量为50 200ml/min。所述第四步中，离子发射源的工作电压为250UaX 10Ua，工作电流为0.3A 土0.1A。本专利技术的有益效果本专利技术只需在真空镀炉设备基础上增加一套离子发射源设备，利用氩气在离子发射源的激荡下，产生氩离子，氩离子对塑胶件 表面进行表面物理轰击与化学反应，使塑胶件表面发生活化作用，从而达到 去除表面污渍的目的，因此，该具有降低设备成本、提 高生产效率、保证产品品质、提高表面洁净度的优点。具体实施例方式实施例，，它包括以下步骤第一步，将塑胶件组装到工件架上，装入真空镀炉设备内，对真空镀炉设备进行密封操作；第二步，使用抽真空装置对真空镀炉设备内进行抽真空，使真空度为2.0 X10々Pa;第三步，真空镀炉设备内注入氩气，使氩气注入量为50 300ml;第四步，打开负电源，负电源启动真空镀炉设备上的离子发射源，离子 发射源产生氩离子，离子发射源的工作电压为250UaX 10Ua，工作电流为0.3A 士0.1A，氩离子在真空环境下高能量轰击塑胶件表面，氩离子轰击塑胶件表 面的时间为3 5min;轰击的同时，真空镀炉设备内注入氩气，氩气注入量为 50 200ml/min，以保证真空镀炉设备内氩气的浓度满足要求。氩气在离子发射源的激荡下，产生氩离子，氩离子对塑胶件表面进行表 面物理轰击与化学反应，使塑胶件表面发生活化作用，从而达到去除表面污 渍的目的，因此，该具有降低设备成本、提高生产效率、 保证产品品质、提高表面洁净度的优点。以上所述仅是本专利技术的较佳实施例，故凡依本专利技术专利申请范围所述的 构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本专利技术专利申请范围内。权利要求1、，其特征在于，它包括以下步骤第一步，将塑胶件组装到工件架上，装入真空镀炉设备内；第二步，真空镀炉设备内抽真空；第三步，真空镀炉设备内注入氩气；第四步，打开负电源，真空镀炉设备内注入氩气，使真空镀炉设备上的离子发射源产生氩离子，氩离子在真空环境下高能量轰击塑胶件表面。2、 根据权利要求1所述的，其特征在于所述第二 步中，真空镀炉设备内抽真空后的真空度为2.0Xl(^Pa。3、 根据权利要求1所述的，其特征在于所述第三 步中，氩气注入量为50 300ml。4、 根据权利要求1所述的，其特征在于所述第四 步中，氩离子轰击塑胶件表面的时间为3 5min。5、 根据权利要求4所述的，其特征在于所述第四 步中，氩气注入量为50 200ml/min。6、 根据权利要求1所述的，其特征在于所述第四 步中，离子发射源的工作电压为250UaX10Ua，工作电流为0.3A士0.1A。全文摘要本专利技术涉及塑胶件表面处理
，更具体地说涉及一种用于清洁塑胶手机外壳的，它包括以下步骤，第一步，将塑胶件组装到工件架上，装入真空镀炉设备内；第二步，真空镀炉设备内抽真空；第三步，真空镀炉设备内注入氩气；第四步，打开负电源，真空镀炉设备内注入氩气，使真空镀炉设备上的离子发射源产生氩离子，氩离子在真空环境下高能量轰击塑胶件表面；该具有降低设备成本、提高生产效率、保证产品品质、提高表面洁净度的优点。文档编号C08J7/00GK101423619SQ20081002859公开日2009年5月6日 申请日期2008年6月6日 优先权日2008年6月6日专利技术者建 王 申请人:东莞劲胜精密组件股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
塑胶件表面清洁方法，其特征在于，它包括以下步骤：　第一步，将塑胶件组装到工件架上，装入真空镀炉设备内；　第二步，真空镀炉设备内抽真空；　第三步，真空镀炉设备内注入氩气；　第四步，打开负电源，真空镀炉设备内注入氩气，使真空镀炉设备上的离子发射源产生氩离子，氩离子在真空环境下高能量轰击塑胶件表面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王建，
申请(专利权)人：东莞劲胜精密组件股份有限公司，
类型：发明
国别省市：44[中国|广东]